Substrat-Routing mit lokaler hoher Dichte

    公开(公告)号:DE102014003462A1

    公开(公告)日:2015-09-17

    申请号:DE102014003462

    申请日:2014-03-11

    Applicant: INTEL CORP

    Abstract: Hierin werden Ausführungsformen eines Systems und von Verfahren zum Substrat-Routing mit lokaler hoher Dichte allgemein beschrieben. In einer oder mehreren Ausführungsformen enthält eine Vorrichtung ein Medium, erste und zweite Schaltungselemente, ein Verbindungselement und eine dielektrische Schicht. Das Medium kann darin Routing mit niedriger Dicht enthalten. Das Verbindungselement kann in dem Medium eingebettet sein und kann darin eine Vielzahl von elektrisch leitfähigen Elementen enthalten, wobei das elektrisch leitfähige Element mit dem ersten Schaltungselement und dem zweiten Schaltungselement elektrisch gekoppelt sein kann. Das Verbindungselement kann darin Routing mit hoher Dichte enthalten. Die dielektrische Schicht kann sich über dem Verbindungschip befinden, wobei die dielektrische Schicht die dort hindurch tretenden ersten und zweiten Schaltungselemente enthält.

    Substrat-Routing mit lokaler hoher Dichte und Verfahren zum Herstellen einer entsprechenden Vorrichtung

    公开(公告)号:DE102014003462B4

    公开(公告)日:2022-12-29

    申请号:DE102014003462

    申请日:2014-03-11

    Applicant: INTEL CORP

    Abstract: Vorrichtung (300), umfassend:ein Substrat (102B), das darin ein Verbindungs-Routing mit niedriger Dichte enthält;ein erstes Schaltungselement (112) und ein zweites Schaltungselement (112);ein Metallpad (336) auf dem Substrat; undein Verbindungselement (104), wobei das Verbindungselement mit dem Metallpad über eine leitfähige Klebeschicht (334) verbunden ist, wobei das Verbindungselement darin Routing mit hoher Dichte enthält, wobei das Verbindungselement eine Vielzahl von elektrisch leitfähigen Elementen enthält, wobei ein elektrisch leitfähiges Element der Vielzahl von elektrisch leitfähigen Elementen mit dem ersten Schaltungselement und dem zweiten Schaltungselement elektrisch gekoppelt ist, wobei Lücken zwischen den elektrisch leitfähigen Elementen kleiner als innerhalb des Substrats sind, und wobei das erste Schaltungselement mit einem ersten Pad (224) elektrisch gekoppelt ist, wobei sich das erste Pad auf oder zumindest teilweise in einer Oberseite des Verbindungselements befindet, wobei sich das erste Pad zwischen dem ersten Schaltungselement und einem ersten Ende des elektrisch leitfähigen Elements befindet,wobei das erste Pad eine Grundfläche aufweist, die größer ist als die Grundfläche des ersten Schaltungselements.

    Substrat-Routing mit lokaler hoher Dichte

    公开(公告)号:DE102014019989B3

    公开(公告)日:2022-07-14

    申请号:DE102014019989

    申请日:2014-03-11

    Applicant: INTEL CORP

    Abstract: Vorrichtung (300), umfassend:eine Metallregion (336) über einer Oberschicht eines Mediums (102B);eine Klebeschicht (334) auf der Metallregion (336);ein Verbindungselement (104), wobei das Verbindungselement (104) auf der Klebeschicht (334) angeordnet ist, wobei das Verbindungselement (104) elektrisch leitfähige Pads (224) und einen Silizium-Die aufweist;Isolatormaterial (122), das auf der Oberschicht des Mediums (102B) und lateral benachbart zu dem Verbindungselement (104) angeordnet ist;ein erster Die (114A), der über dem Verbindungselement (104) angeordnet ist und mit einem ersten Pad der elektrisch leitfähigen Pads (224) des Verbindungselements (104) gekoppelt ist; undein zweiter Die (114B), der über dem Verbindungselement (104) angeordnet ist und mit einem zweiten Pad der elektrisch leitfähigen Pads (224) des Verbindungselements (104) gekoppelt ist.

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