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公开(公告)号：EP3213342A4
公开(公告)日：2018-06-06
申请号：EP16759622
申请日：2016-03-04
Applicant: KLA TENCOR CORP
Inventor： ZHANG SHIYU , ZHAO WEI
CPC classification number: G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/8845 , G02B13/143 , G02B17/0652 , G03F1/84 , G03F7/7065
Abstract: Disclosed are methods and apparatus for reflecting, towards a sensor, an Infrared to vacuum ultra-violet (VUV) light that is reflected from a target substrate. The system includes a first mirror arranged to receive and reflect the Infrared to VUV light that is reflected from the target substrate and a second mirror arranged to receive and reflect Infrared to VUV light that is reflected by the first mirror. The first and second mirrors are arranged and shaped so as to reflect Infrared to VUV light from the target substrate towards an optical axis of the apparatus. In another embodiment, the apparatus can also include a third mirror arranged to receive and reflect the Infrared to VUV light that is reflected by the second mirror and a fourth mirror arranged to receive and reflect such illuminating light that is reflected by the third mirror towards the sensor. In one more embodiment, a reflecting or refracting optics is used to relay the image by above optics to the sensor; various magnification is achieved by adjusting the distance between the intermediate image and the relay optics.
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2.发明专利
公开(公告)号：DE112014001747B4
公开(公告)日：2022-07-28
申请号：DE112014001747
申请日：2014-03-28
Applicant: KLA TENCOR CORP
Inventor： BEZEL ILYA V , SHCHEMELININ ANATOLY , DERSTINE MATTHEW W , GROSS KENNETH P , SHORTT DAVID W , ZHAO WEI , CHIMMALGI ANANT , WANG JINCHENG
Abstract: Vorrichtung (100) zur Steuerung einer Konvektionsströmung in einem lichtgestützten Plasma umfassend:• eine Beleuchtungsquelle (112), die konfiguriert ist, um Beleuchtung (114) zu erzeugen;• eine Plasmazelle (104), die einen Kolben (105) umfasst, um ein Gasvolumen (103) zu enthalten;• ein Kollektorelement (102), das angeordnet ist, um die Beleuchtung (114) aus der Beleuchtungsquelle (112) in das Gasvolumen (103) zu fokussieren, um ein Plasma (106) innerhalb des im Kolben enthaltenen Gasvolumens (103) zu erzeugen, wobei ein Teil der Plasmazelle (104) in einem konkaven Bereich (109) des Kollektorelements (102) angeordnet ist, und wobei das Kollektorelement (102) eine Öffnung (108) enthält, durch welche Öffnung sich ein Teil der Plasmazelle erstreckt, damit ein Teil einer Plasmafahne (107) sich zu einem Bereich (110) außerhalb des konkaven Bereichs (109) des Kollektorelements (102) ausbreitet;• ein außenliegendes Plasmasteuerelement (128), welches im Bereich (110) außerhalb des konkaven Bereichs (109) des Kollektorelements (102) platziert ist, wobei das außenliegende Plasmasteuerelement (128) wenigstens eine Struktur beinhaltet, die innerhalb des Plasmakolbens (105) angeordnet ist oder die außerhalb des Plasmakolbens (105) angeordnet ist;• wobei das außenliegende Plasmasteuerelement (128) ein außenliegendes Konvektionssteuerelement umfasst, wobei das außenliegende Konvektionssteuerelement innerhalb des Plasmakolbens (105) platziert und dazu angeordnet ist, Konvektionsströme innerhalb des Plasmakolbens (105) zu steuern.
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3.发明专利
公开(公告)号：DE112014001747T5
公开(公告)日：2015-12-17
申请号：DE112014001747
申请日：2014-03-28
Applicant: KLA TENCOR CORP
Inventor： BEZEL ILYA V , DERSTINE MATTHEW W , GROSS KENNETH P , SHORTT DAVID W , ZHAO WEI , CHIMMALGI ANANT , WANG JINCHENG , SHCHEMELININ ANATOLY
IPC: H01J61/02
Abstract: Eine Vorrichtung zur Steuerung einer Konvektionsströmung in einem lichtgestützten Plasma umfasst eine Beleuchtungsquelle, die konfiguriert ist, um Beleuchtung zu erzeugen, eine Plasmazelle, die einen Kolben zum Einschluss eines Gasvolumens umfasst, ein Kollektorelement, das angebracht ist, um Beleuchtung aus der Beleuchtungsquelle in das Gasvolumen zu fokussieren, um ein Plasma innerhalb des Gasvolumens, das im Kolben enthalten ist, zu erzeugen. Außerdem ist die Plasmazelle innerhalb eines konkaven Bereichs des Kollektorelements angeordnet, wobei das Kollektorelement eine Öffnung umfasst, damit ein Teil einer Plasmafahne sich zu einem Bereich außerhalb des konkaven Bereichs des Kollektorelements ausbreitet.
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