Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements. Bei dem Verfahren werden mehrere optoelektronische Halbleiterchips auf einem Träger angeordnet. Weiter vorgesehen ist ein gemeinsames Zusammendrücken von separaten Formmassen im Bereich der optoelektronischen Halbleiterchips, wobei separate Formkörper im Bereich der optoelektronischen Halbleiterchips gebildet werden.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform des Verfahrens2) über ein Pressen zur Verwendung in einem optoelektronischen Halbleiterbauteil (10). Das Verfahren beinhaltet die folgenden Schritte: – Einbringen einer Werkzeugfolie (1) in ein Presswerkzeug (5), – Einbringen einer Trägerfolie (3) in das Presswerkzeug (5), wobei die Trägerfolie (3) auf einer Substratfolie (4) angebracht ist und die Substratfolie (4) die Trägerfolie (3) lateral überragt, – Bereitstellen und Aufbringen einer Silikongrundmasse (20) auf die Werkzeugfolie (1) oder auf die Trägerfolie (3), – Pressen der Silikongrundmasse (20) zu der Silikonfolie (2) zwischen der Werkzeugfolie (1) und der Trägerfolie (3), wobei die Silikongrundmasse in einem Überlappbereich (24) lateral neben der Trägerfolie (3) in Kontakt zu der Substratfolie (4) gebracht wird, – Entfernen der Werkzeugfolie (1) von der Silikonfolie (2), und – Abtrennen des Überlappbereichs (24).
Abstract:
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Trägerfolie (200, 210, 220, 230) zur Aufnahme eines Silikonelements (410) in einem Pressverfahren, wobei die Trägerfolie (200, 210, 220, 230) zumindest in einem Teilbereich (211, 231) derart oberflächenbehandelt ist, dass die Haftwirkung gegenüber Silikon in dem behandelten Bereich erhöht ist. Des Weiteren betrifft die vorliegende Erfindung ein System aus einer oberflächenbehandelten Trägerfolie (200, 210, 220, 230) und einem auf der Trägerfolie (200, 210, 220, 230) aufgebrachten Silikonelement (410), wobei das Silikonelement (410) zumindest teilweise auf dem oberflächenbehandelten Bereich (211, 213) aufliegt.
Abstract:
The invention relates to a carrier film (200, 210, 220, 230) for accommodating a silicon element (410) in a pressing method, wherein the carrier film (200, 210, 220, 230) is surface-treated at least in a sub-area (211, 231) in such a way that the adhesive effect with respect to silicon is increased in the treated area. The invention further relates to a system comprising a surface-treated carrier film (200, 210, 220, 230) and a silicon element (410) applied to the carrier film (200, 210, 220, 230), wherein the silicon element (410) lies at least partially on the surface-treated area (211, 213).
Abstract:
The invention relates to a method for the production of an optoelectronic component. In said method, a number of optoelectronic semiconductor chips are arranged on a carrier. Further provision is made for a common compression of separate moulding compounds in the region of the optoelectronic semiconductor chips, allowing separate moulded bodies to be formed in the region of the optoelectronic semiconductor chips.
Abstract:
In at least one embodiment of the method, the latter serves for producing a silicone foil (2) by means of molding for use in an optoelectronic semiconductor component (10). The method comprises the following steps: introducing a mold foil (1) into a mold (5), introducing a carrier foil (3) into the mold (5), wherein the carrier foil (3) is fitted on a substrate foil (4) and the substrate foil (4) projects laterally beyond the carrier foil (3), providing and applying a silicone base composition (20) to the mold foil (1) or to the carrier foil (3), molding the silicone base composition (20) to form the silicone foil (2) between the mold foil (1) and the carrier foil (3), wherein the silicone base composition is brought into contact with the substrate foil (4) in an overlap region (24) laterally alongside the carrier foil (3), removing the mold foil (1) from the silicone foil (2), and separating the overlap region (24).