Abstract:
The invention relates to a method for the production of an optoelectronic component. In said method, a number of optoelectronic semiconductor chips are arranged on a carrier. Further provision is made for a common compression of separate moulding compounds in the region of the optoelectronic semiconductor chips, allowing separate moulded bodies to be formed in the region of the optoelectronic semiconductor chips.
Abstract:
A method for producing electrical components (408), comprising: - fixing a punched leadframe (102) in a mould (116), wherein the punched leadframe (102) has a plurality of connection areas (106), which are designed for the connection of at least one electronic element (402), and a plurality of connecting structures (108), wherein the connecting structures (108) mechanically connect a plurality of connection areas (106) to one another, - fixing a sealing frame (104) in the mould (116), wherein the sealing frame (104) entirely surrounds the punched leadframe (102), and - applying a moulding composition (400) to the punched leadframe (102) and the sealing frame (104), wherein the moulding composition (400) mechanically connects the punched leadframe (102) and the sealing frame (104).
Abstract:
The invention relates to an optical element for coupling out light and/or converting light from a light-emitting semiconductor chip (5), comprising at least one layer selected from a wavelength conversion layer (1), a diffusion layer (2), a light out-coupling layer (3), and a lens layer (7), which each have a plastic that can be processed in a compressing molding process. The invention further relates to an optoelectronic component, comprising a substrate (4) having a light-emitting semiconductor chip (5) and an optical element, and to a method for producing an optical element and an optoelectronic component.
Abstract:
The invention relates to a carrier film (200, 210, 220, 230) for accommodating a silicon element (410) in a pressing method, wherein the carrier film (200, 210, 220, 230) is surface-treated at least in a sub-area (211, 231) in such a way that the adhesive effect with respect to silicon is increased in the treated area. The invention further relates to a system comprising a surface-treated carrier film (200, 210, 220, 230) and a silicon element (410) applied to the carrier film (200, 210, 220, 230), wherein the silicon element (410) lies at least partially on the surface-treated area (211, 213).
Abstract:
A method for producing a multiplicity of optoelectronic semiconductor components is specified, comprising the following steps: - providing an auxiliary carrier (1), - applying a multiplicity of arrangements (20) of electrically conductive first contact elements (21) and second contact elements (22) on the auxiliary carrier (1), - applying an optoelectronic semiconductor chip (3) in each case on the second contact element (22) of each arrangement (20), - electrically conductively connecting the optoelectronic semiconductor chips (3) to the first contact elements (21) of the relevant arrangement (20), - encapsulating the first contact elements (21) and the second contact elements (22) with an encapsulation material (4), and - singulating into a multiplicity of optoelectronic semiconductor components, wherein - the encapsulation material (4) terminates flush with the underside (21b) of each first contact element (21), said underside facing the auxiliary carrier (1), and - the encapsulation material (4) terminates flush with the underside (22b) of each second contact element (22), said underside facing the auxiliary carrier (1).
Abstract:
An optoelectronic component (100) comprises a substrate (102) and a transparent cover (106) in which a cavity (108) is formed. A semiconductor (104) is mounted on the substrate (102). The transparent cover (106) covers at least the surface of the semiconductor chip (104) facing away from the substrate (102). The transparent cover (106) has a hardness greater than that of silicone.
Abstract:
Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements (10, 20)mit den folgenden Schritten:- Anordnen eines optoelektronischen Halbleiterchips (200) und eines Reflektors (400) an einer Oberseite (111) einer Trägerfolie (110);- Anordnen eines Vergussmaterials (500) in einem Bereich zwischen dem optoelektronischen Halbleiterchip (200) und dem Reflektor (400);- Ausbilden eines Formkörpers (600), wobei der optoelektronische Halbleiterchip (200), der Reflektor (400) und das Vergussmaterial (500) in den Formkörper (600) eingebettet werden,wobei der Formkörper (600) so ausgebildet wird, dass eine von der Trägerfolie (110) abgewandte Oberfläche (202) des optoelektronischen Halbleiterchips (200) durch den Formkörper (600) bedeckt wird,wobei das Verfahren den folgenden weiteren Schritt umfasst:- Entfernen eines Teils (610) des Formkörpers (600), um die von der Trägerfolie (110) abgewandte Oberfläche (202) des optoelektronischen Halbleiterchips (200) zumindest teilweise freizulegen.
Abstract:
Lichtemittierendes Bauteil (100), aufweisend ein lichtemittierendes Bauelement (110) und ein Gehäuse (120) mit einer Kavität (121), wobei das Gehäuse (120) ein Gehäusematerial aufweist, wobei das Gehäusematerial eine Absorption von Licht im sichtbaren Bereich von mindestens 80 Prozent aufweist, wobei die Kavität (121) durch eine Begrenzungswand (123) und eine Bauelementebene (122) (122) gebildet ist, wobei die Begrenzungswand (123) durch eine Oberfläche des Gehäuses (120) gebildet wird, wobei das lichtemittierende Bauelement (110) innerhalb der Kavität (121) des Gehäuses (120) angeordnet und oberhalb der Bauelementebene (122) platziert ist, wobei das lichtemittierende Bauelement (110) eine Emissionsseite (111) aufweist, wobei die Emissionsseite (111) der Bauelementebene (122) gegenüberliegt, wobei eine Emissionsebene durch die Emissionsseite (111) des lichtemittierenden Bauelements (110) verläuft, wobei die Kavität (121) mit einem transparenten Material (130) zumindest teilweise gefüllt ist, wobei das transparente Material (130) aus einem ersten Material (131) und einem zweiten Material (132) aufgebaut ist, wobei das erste Material (131) die Begrenzungswand (123) zumindest teilweise bedeckt, wobei das zweite Material (132) die Emissionsseite (111) zumindest teilweise bedeckt, wobei eine Grenzfläche (133) zwischen dem ersten Material (131) und dem zweiten Material (132) ausgebildet ist, wobei ein erster Brechungsindex des ersten Materials (131) kleiner ist als ein zweiter Brechungsindex des zweiten Materials (132), wobei die Grenzfläche (133) eine Krümmung aufweist, wobei durch die Krümmung ein Teil des ersten Materials (131) oberhalb der Emissionsebene des lichtemittierenden Bauelements (110) angeordnet ist, wobei die Krümmung der Grenzfläche (133) derart ausgebildet ist, dass ein von der Emissionsseite (111) ausgehender, vom lichtemittierenden Bauelement (110) ausgesendeter Lichtstrahl unter einem Winkel auf die Grenzfläche (133) trifft, und wobei der Winkel größer ist als ein Grenzwinkel für eine Totalreflexion.
Abstract:
Verfahren zum Herstellen einer Mehrzahl von optoelektronischen Halbleiterbauelementen (1) mit den Schritten:a) Bereitstellen einer Mehrzahl von Halbleiterchips (2), die in einer lateralen Richtung voneinander beabstandet sind;b) Ausbilden eines Gehäusekörperverbunds (30), der zumindest bereichsweise zwischen den Halbleiterchips angeordnet ist;c) Ausbilden einer Mehrzahl von Kehlen (4), die jeweils an einen Halbleiterchip (2) angrenzen und die in lateraler Richtung durch eine Seitenfläche (20) des jeweiligen Halbleiterchips (2) und den Gehäusekörperverbund (30) begrenzt sind, wobei das Ausbilden der Kehlen (4) zumindest teilweise vor dem Ausbilden des Gehäusekörperverbunds (30) erfolgt; undd) Vereinzeln des Gehäusekörperverbunds (30) in eine Mehrzahl von optoelektronischen Halbleiterbauelementen (1), wobei jedes Halbleiterbauelement (1) zumindest einen Halbleiterchip (2) und einen Teil des Gehäusekörperverbunds (30) als Gehäusekörper (3) aufweist und wobei die Halbleiterchips (2) jeweils an einer einer Montagefläche (15) gegenüberliegenden Strahlungsaustrittsfläche (10) der Halbleiterbauelemente frei von Material des Gehäusekörpers (3) sind; wobei die Halbleiterchips (2) zur Ausbildung der Kehlen vor Schritt b) mit einem Umformungsmaterial derart umformt werden, dass die Seitenflächen (20) der Halbleiterchips (2) zumindest teilweise bedeckt sind und das Umformungsmaterial in Schritt b) von einer Formmasse für den Gehäusekörperverbund (30) umformt wird und wobei das Umformungsmaterial (30) ein Füllmaterial (40) ist, das in den Halbleiterbauelementen (1) verbleibt.
Abstract:
Das Verfahren ist zur Herstellung von optoelektronischen Halbleiterbauteilen eingerichtet und umfasst die Schritt:A) Bereitstellen eines Chipträgers (2) mit elektrischen Leiterstrukturen (22) an einer Trägeroberseite (20),B) Anbringen mindestens eines Halbleiterchips (3), der zur Lichterzeugung eingerichtet ist, auf zumindest einer der elektrischen Leiterstrukturen (22),C) Aufbringen zumindest einer Abdichtstruktur (4) auf zumindest einer der elektrischen Leiterstrukturen (22), sodass die Abdichtstruktur (4) mindestens einen Kontaktbereich (24) in Draufsicht gesehen ringsum vollständig umschließt,D) Erzeugen eines Vergusskörpers (5) direkt an dem mindestens einen Halbleiterchip (3) und direkt an der zumindest einen Abdichtstruktur (4) mittels Spritzgießen oder Spritzpressen, wobei die zumindest eine Abdichtstruktur (4) in einem Spritzwerkzeug (61, 62) den mindestens einen Kontaktbereich (24) gegenüber einem Material des Vergusskörpers (5) abdichtet, sodass der mindestens eine Kontaktbereich (24) frei von dem Vergusskörper (5) bleibt.