Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Bauelements mit den folgenden Schritten angegeben: - Bereitstellen eines strahlungsemittierenden Halbleiterchips (1) auf einem Träger (2), - Aufbringen mehrerer Einzelkonversionsschichten (4, 4`, 4``) aufeinander über eine Strahlungsaustrittsfläche (3) des Halbleiterchips (1) mittels Sprühbeschichten, wobei - die Einzelkonversionsschichten (4, 4`, 4``) ein Harz (5) mit Leuchtstoffpartikeln (6) aufweisen, - die jeweilige Einzelkonversionsschicht (4, 4`, 4``) vor dem Aufbringen der nächsten Einzelkonversionsschicht (4, 4`, 4``) nicht ausgehärtet wird. Außerdem wirdein optoelektronisches Bauelement angegeben.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements. Das Verfahren umfasst ein Bereitstellen einer Ausgangsanordnung (100) aufweisend einen optoelektronischen Halbleiterchip (110) und eine den Halbleiterchip (110) umgebende Vergussmasse (130). Der Halbleiterchip (110) ist zum Abgeben einer Primärstrahlung (170) ausgebildet. Die Vergussmasse (130) ist zum Umwandeln eines Teils der Primärstrahlung (170) in eine Konversionsstrahlung (175) ausgebildet, so dass eine Mischstrahlung (179) aus Primär- und Konversionsstrahlung (170, 175) erzeugbar ist. Das Verfahren umfasst ferner ein Einbringen wenigstens einer Verdrängungsmasse (140, 141, 142, 143) in die Vergussmasse (130), so dass eine veränderte Mischstrahlung (179) erzeugbar ist. Die Vergussmasse (130) und die Verdrängungsmasse (140, 141, 142, 143) weisen eine unterschiedliche Materialbeschaffenheit auf. Die Erfindung betrifft des Weiteren ein optoelektronisches Bauelement.
Abstract:
Es wird ein Gehäuse (1) für ein strahlungsemittierendes Bauelement mit den folgenden Merkmalen angegeben: - zumindest einer elektrischen Kontaktstelle (8), die an einer ersten Hauptfläche (6) des Gehäuses (1) angeordnet ist, und - zumindest einer Vertiefung (7) in der ersten Hauptfläche (6) des Gehäuses (5), die neben der elektrischen Kontaktstelle (8) angeordnet ist. Außerdem werden ein Verfahren zur Herstellung eines strahlungsemittierenden Bauelements und ein strahlungsemittierendes Bauelement angegeben.
Abstract:
Herstellung eines optoelektronischen Bauelements Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements. Bei dem Verfahren werden mehrere optoelektronische Halbleiterchips auf einem Träger angeordnet. Weiter vorgesehen ist ein gemeinsames Zusammendrücken von separaten Formmassen im Bereich der optoelektronischen Halbleiterchips, wobei separate Formkörper im Bereich der optoelektronischen Halbleiterchips gebildet werden.
Abstract:
Elektrisches Bauteil, aufweisend: einen geschlossenen Leiterrahmen (2) mit einer Durchgangsöffnung (3); mindestens ein in der Durchgangsöffnung (3) angeordnetes elektrisches Bauelement (5), wobei das elektrische Bauelement (5) eine erste Anschlussfläche (6) auf einer ersten Seite (11) des elektronischen Bauelements (5) und eine zweite Anschlussfläche (7) auf einer zweiten Seite (12) des elektrischen Bauelements (5), die der ersten Seite (11) gegenüberliegt, aufweist; wobei die zweite Anschlussfläche (7) mit dem Leiterrahmen (2) elektrisch gekoppelt ist; und eine Verkapselung (9), welche das elektrische Bauelement (5) mit dem Leiterrahmen (2) mechanisch koppelt.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements (10) angegeben. Es wird ein Halbleiterchip (2) bereitgestellt, der eine zur Strahlungserzeugung geeignete aktive Schicht aufweist und auf einem Träger (1) angeordnet ist. Auf dem Halbleiterchip (2) und/oder dem Träger (1) wird ein dispergiertes Material (3) zumindest bereichsweise aufgebracht. Das dispergierte Material (3) umfasst ein Matrixmaterial (31) und darin eingebettete Partikel (32). Vor Aufbringen des dispergierten Materials (3) wird eine vom Träger (1) abgewandte Chipkante (22) des Halbleiterchips (2) derart modifiziert, dass sich das dispergierte Material (3) beim Aufbringen an der Chipkante (22) zumindest teilweise in seine Bestandteile auftrennt. Weiter wird ein derart hergestelltes Bauelement (10) angegeben.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform des optoelektronischen Halbleiterbauteils (1) umfasst dieses einen Träger (2) sowie mindestens einen optoelektronischen Halbleiterchip (3), der an einer Trägeroberseite (20) angebracht ist. Weiterhin beinhaltet das Halbleiterbauteil (1) mindestens einen Bonddraht (4), über den der Halbleiterchip (3) elektrisch kontaktiert ist, sowie mindestens einen Abdeckkörper (5), der auf einer Strahlungshauptseite (30) angebracht ist und der den Bonddraht (4) überragt. Zumindest eine reflektierende Vergussmasse (6) umgibt den Halbleiterchip (3) in lateraler Richtung und reicht mindestens bis zu der Strahlungshauptseite (30) des Halbleiterchips (3). Der Bonddraht (4) ist vollständig von der reflektierenden Vergussmasse (6) oder vollständig von der reflektierenden Vergussmasse (6) zusammen mit dem Abdeckkörper (5) überdeckt.
Abstract:
Es wird ein Halbleiterbauelement (2) mit einem optoelektronischen Halbleiterchip (2) und einem auf einer Strahlungsdurchtrittsfläche (20) des Halbleiterchips (2) angeordneten optischen Element (3) angegeben. Das optische Element (3) basiert auf einem hochbrechenden Polymermaterial. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements angegeben.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform des optoelektronischen Halbleiterbauteils (1) weist dieses einen optoelektronischen Halbleiterchip (3) auf, der an einer Trägeroberseite (20) angebracht ist und der eine Strahlungshauptseite (30) aufweist. Ferner beinhaltet das Halbleiterbauteil (1) eine Abdeckschicht (4), die ein klarsichtiges Matrixmaterial (40) und darin eingebettete, reflektierende und/oder streuende Partikel (45) umfasst. Die Abdeckschicht (4) erstreckt sich sowohl über die Strahlungshauptseite (30) als auch über einen von dem Halbleiterchip (3) freigelassenen Umgebungsbereich (5) der Trägeroberseite (20) um den Halbleiterchip (3) herum. Die Abdeckschicht (4) weist über der Strahlungshauptseite (30) bevorzugt eine geringere mittlere Dicke (T) auf als über dem Umgebungsbereich (5).
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen mindestens eines elektronischen Bauteils, insbesondere eines opto-elektronischen Bauteils, eines LED-Packages oder eines Laserbauteils, mit den Schritten - Bereitstellen (S1) eines an einem ersten Oberflächenbereich (1) angrenzenden zweiten Oberflächenbereich (2) des Bauteils, wobei der zweite Oberflächenbereich für ein aufzubringendes erstes Fluid (3) abweisend geschaffen wird; - Aufbringen (S2) des ersten Fluids (3) ohne zusätzliche Druckbeaufschlagung (PA) auf den ersten und/oder zweiten Oberflächenbereich, wobei der erste Oberflächenbereich (1) von dem ersten Fluid benetzt wird und das erste Fluid von dem zweiten Oberflächenbereich (2) abgewiesen wird. Die Erfindung umfasst zudem entsprechend hergestellte Vorrichtungen.