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公开(公告)号:FR2955205B1
公开(公告)日:2012-09-21
申请号:FR0959060
申请日:2009-12-16
Applicant: ST MICROELECTRONICS SA , ST MICROELECTRONICS CROLLES 2
Inventor: MARTY MICHEL , DUTARTRE DIDIER , ROY FRANCOIS , BESSON PASCAL , PRIMA JENS
IPC: H01L27/14 , H01L21/20 , H01L21/302 , H01L21/768 , H01L21/77 , H01L23/48
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公开(公告)号:FR2955205A1
公开(公告)日:2011-07-15
申请号:FR0959060
申请日:2009-12-16
Applicant: ST MICROELECTRONICS SA , ST MICROELECTRONICS CROLLES 2
Inventor: MARTY MICHEL , DUTARTRE DIDIER , ROY FRANCOIS , BESSON PASCAL , PRIMA JENS
IPC: H01L27/14 , H01L21/20 , H01L21/302 , H01L21/768 , H01L21/77 , H01L23/48
Abstract: Procédé de réalisation d'un dispositif microélectronique comprenant une réalisation d'un premier substrat (1) semiconducteur comportant une formation d'une première couche (5) et d'une deuxième couche (4) entre une première face (7) et une deuxième face (2) du substrat, une réalisation de premiers composants (10) et d'une partie d'interconnexion au niveau et au dessus de la deuxième face (2), un amincissement du substrat comprenant une première gravure sélective du premier substrat depuis la première face (7) avec arrêt sur la première couche (5) suivie d'une deuxième gravure sélective avec arrêt sur la deuxième couche (4).
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公开(公告)号:FR2888146A1
公开(公告)日:2007-01-12
申请号:FR0507210
申请日:2005-07-06
Applicant: ST MICROELECTRONICS CROLLES 2
Inventor: PETITDIDIER SEBASTIEN , BESSON PASCAL
Abstract: Procédé et dispositif d'alimentation d'une machine (1) de polissage mécano-chimique en un produit de polissage comprenant des particules abrasives en suspension dans un liquide réactif, dans lesquels l'opération de polissage est divisée en au moins une première étape et une deuxième étape. Au cours de la seconde étape, la machine de polissage est alimentée au travers d'un filtre (14) en un produit contenant moins de particules de grandes dimensions que le produit alimentant la machine de polissage lors de la première étape. Le dispositif d'alimentation peut comprendre deux conduits parallèles (9, 10) munis de vannes (12, 13) dont l'un au moins est muni du filtre (14).
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