CIRCUIT INTEGRE AVEC ELEMENT CAPACITIF A STRUCTURE VERTICALE, ET SON PROCEDE DE FABRICATION

    公开(公告)号:FR3070535A1

    公开(公告)日:2019-03-01

    申请号:FR1757907

    申请日:2017-08-28

    Abstract: Le circuit intégré comprend un élément capacitif (C) comprenant au moins une tranchée (TR) comportant une portion centrale conductrice (5) enveloppée d'une enveloppe isolante (7) et s'étendant verticalement dans un caisson (3) depuis une première face (10), une première couche conductrice (15) recouvrant une première couche isolante (17) située sur la première face (10) et une deuxième couche conductrice (25) recouvrant une deuxième couche isolante (27) située sur la première couche conductrice (15), la portion centrale conductrice (5) et la première couche conductrice (15) étant électriquement connectées et formant ainsi une première électrode (E2) de l'élément capacitif (C), la deuxième couche conductrice et le caisson (3) étant électriquement connectés et formant ainsi une deuxième électrode (E2) de l'élément capacitif (C), l'enveloppe isolante (7), la première couche isolante (17) et la deuxième couche isolante (27) formant une région diélectrique de l'élément capacitif (C).

    DISPOSITIF DE MEMOIRE NON VOLATILE DU TYPE A PIEGEAGE DE CHARGES ET PROCEDE DE FABRICATION

    公开(公告)号:FR3080949B1

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:FR1853887

    申请日:2018-05-04

    Abstract: Le dispositif de mémoire non volatile, comprend un plan mémoire (PM) comportant des rangées (RG) et des colonnes (COL) de cellules mémoires, les colonnes (COL) de cellules mémoires comportant des paires de cellules mémoires jumelles (CEL1, CEL2), les deux transistors de sélection (ST1, ST2) d'une paire de cellules mémoires jumelles (CEL1, CEL2) ayant une grille de sélection enterrée commune (SG), les deux transistors d'état (T1, T2) d'une paire de cellules mémoires jumelles (CEL1, CEL2) ayant une grille de commande enterrée commune (CG) surmontant la grille de sélection commune (SG), le dispositif comprenant en outre, pour chaque paire de cellules mémoires jumelles (CEL1, CEL2) deux régions diélectriques (QDi) situées entre la grille de commande commune (CG) et le caisson (IPW) formant de part et d'autre de la grille de commande (CG) deux interfaces diélectriques de piégeage de charges (QTI1, QTI2) respectivement dédiées aux deux cellules mémoires jumelles (CEL1, CEL2).

    PROCEDE DE DETECTION D'UN AMINCISSEMENT DU SUBSTRAT D'UN CIRCUIT INTEGRE PAR SA FACE ARRIERE, ET CIRCUIT INTEGRE ASSOCIE

    公开(公告)号:FR3069954B1

    公开(公告)日:2020-02-07

    申请号:FR1757372

    申请日:2017-08-01

    Abstract: Circuit électronique intégré comportant un substrat semi-conducteur (1) comprenant un caisson semi-conducteur (2) isolé du reste du substrat (1) par au moins une région semi-conductrice (3) réalisée au moins en partie sous le caisson semi-conducteur (2), et comprenant un dispositif (DIS) de détection d'un amincissement du substrat (1) par sa face arrière comportant un transistor vertical (TR2), des moyens de polarisation du transistor vertical, et des moyens de comparaison (5) couplés au transistor vertical (TR2) et configurés pour générer un signal (RST) ayant une première valeur si la valeur du courant traversant le transistor vertical (TR2) est supérieure ou égale à une valeur seuil, et une deuxième valeur si la valeur du courant traversant le transistor vertical (TR2) est inférieure à la valeur seuil.

    DISPOSITIF DE MEMOIRE NON VOLATILE DU TYPE A PIEGEAGE DE CHARGES ET PROCEDE DE FABRICATION

    公开(公告)号:FR3080949A1

    公开(公告)日:2019-11-08

    申请号:FR1853887

    申请日:2018-05-04

    Abstract: Le dispositif de mémoire non volatile, comprend un plan mémoire (PM) comportant des rangées (RG) et des colonnes (COL) de cellules mémoires, les colonnes (COL) de cellules mémoires comportant des paires de cellules mémoires jumelles (CEL1, CEL2), les deux transistors de sélection (ST1, ST2) d'une paire de cellules mémoires jumelles (CEL1, CEL2) ayant une grille de sélection enterrée commune (SG), les deux transistors d'état (T1, T2) d'une paire de cellules mémoires jumelles (CEL1, CEL2) ayant une grille de commande enterrée commune (CG) surmontant la grille de sélection commune (SG), le dispositif comprenant en outre, pour chaque paire de cellules mémoires jumelles (CEL1, CEL2) deux régions diélectriques (QDi) situées entre la grille de commande commune (CG) et le caisson (IPW) formant de part et d'autre de la grille de commande (CG) deux interfaces diélectriques de piégeage de charges (QTI1, QTI2) respectivement dédiées aux deux cellules mémoires jumelles (CEL1, CEL2).

    PROCEDE DE DETECTION D'UN AMINCISSEMENT DU SUBSTRAT D'UN CIRCUIT INTEGRE PAR SA FACE ARRIERE, ET CIRCUIT INTEGRE ASSOCIE

    公开(公告)号:FR3069954A1

    公开(公告)日:2019-02-08

    申请号:FR1757372

    申请日:2017-08-01

    Abstract: Circuit électronique intégré comportant un substrat semi-conducteur (1) comprenant un caisson semi-conducteur (2) isolé du reste du substrat (1) par au moins une région semi-conductrice (3) réalisée au moins en partie sous le caisson semi-conducteur (2), et comprenant un dispositif (DIS) de détection d'un amincissement du substrat (1) par sa face arrière comportant un transistor vertical (TR2), des moyens de polarisation du transistor vertical, et des moyens de comparaison (5) couplés au transistor vertical (TR2) et configurés pour générer un signal (RST) ayant une première valeur si la valeur du courant traversant le transistor vertical (TR2) est supérieure ou égale à une valeur seuil, et une deuxième valeur si la valeur du courant traversant le transistor vertical (TR2) est inférieure à la valeur seuil.

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