具有电子发射增强的混合相氮化物薄膜场发射阴极及其制备方法

    公开(公告)号:CN102280331B

    公开(公告)日:2013-10-02

    申请号:CN201110193383.5

    申请日:2011-07-12

    Abstract: 具有电子发射增强的混合相氮化物薄膜场发射阴极及其制备方法,属于场发射阴极技术领域,该阴极材料为GaN和AlN的混合物,同时具有六方纤锌矿和立方闪锌矿两种晶体结构;组分为:AlxGa1-xN,0<x≤0.95。制备方法:将衬底及GaN和AlN烧结成的靶材放入激光脉冲沉积系统,抽真空、加热衬底、通入保护气体,用脉冲激光沉积系统制备了铝镓氮纤锌矿六方相和闪锌矿立方相两相共存的纳米薄膜。该薄膜相对单相薄膜场发射开启电压和最大电流密度提高了2-5个数量级。这种两相共存的薄膜有助于提高薄膜场发射性能和场发射显示器的商业化,有着明显的应用前景和潜在的经济效益。

    具有电子发射增强的混合相氮化物薄膜场发射阴极及其制备方法

    公开(公告)号:CN102280331A

    公开(公告)日:2011-12-14

    申请号:CN201110193383.5

    申请日:2011-07-12

    Abstract: 具有电子发射增强的混合相氮化物薄膜场发射阴极及其制备方法,属于场发射阴极技术领域,该阴极材料为GaN和AlN的混合物,同时具有六方纤锌矿和立方闪锌矿两种晶体结构;组分为:AlxGa1-xN,0<x≤0.95。制备方法:将衬底及GaN和AlN烧结成的靶材放入激光脉冲沉积系统,抽真空、加热衬底、通入保护气体,用脉冲激光沉积系统制备了铝镓氮纤锌矿六方相和闪锌矿立方相两相共存的纳米薄膜。该薄膜相对单相薄膜场发射开启电压和最大电流密度提高了2-5个数量级。这种两相共存的薄膜有助于提高薄膜场发射性能和场发射显示器的商业化,有着明显的应用前景和潜在的经济效益。

    光辅助/脉冲调制用大电流密度电子源及其应用方法

    公开(公告)号:CN102280330A

    公开(公告)日:2011-12-14

    申请号:CN201110191195.9

    申请日:2011-07-08

    Applicant: 东南大学

    Abstract: 本发明公开了一种光辅助/脉冲调制用大电流密度的电子源,应用于大功率超高频真空电子器件领域。电子源包括衬底(1)、N个大小相同的同心环电极(3)、电极引线(2)、衬底外缘电极(4);其中,所述N个同心环电极(3)均匀分布在衬底(1)上,所述同心环电极具有亚波长周期电极结构,通过电极引线与衬底外缘电极(4)连接,在同心环电极(3)表面制备有冷阴极电子发射材料。本发明还公开了该电子源的电子发射方法,在直流电场作用下,利用连续输出或飞秒脉冲激光束辐射其上或下表面,实现发射电流的光辅助/脉冲调制。本发明将电子源设计为亚波长周期结构,提高了光-场发射中的光子吸收效率,增强光脉冲对电子发射的调制效果。

    具有增强电子发射性能的薄膜场发射阴极及其制备方法

    公开(公告)号:CN102157316A

    公开(公告)日:2011-08-17

    申请号:CN201110057064.1

    申请日:2011-03-09

    Abstract: 本发明公开了具有增强电子发射性能的薄膜场发射阴极及其制备方法,属于场发射阴极领域。本发明采用激光脉冲沉积系统,在保护气体下,依次在导电衬底上沉积一层具有表面突起形貌的半导体传导缓冲层,然后在半导体传导缓冲层上沉积一层半导体电子势垒层,再在半导体电子势垒层上沉积一层半导体电子势阱层,得到由导电衬底自下向上依次为半导体传导缓冲层、半导体电子势垒层和半导体电子势阱层的增强电子发射性能的薄膜场发射阴极。本发明的薄膜场发射阴极具有低阈值电场、高发射电流密度、电子发射稳定并兼具工艺简单、使用寿命长,制备工艺简单易行,不涉及复杂、昂贵的光刻技术及其相关设备。

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