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    流体排出装置和流体排出方法
    1.
    发明授权
    流体排出装置和流体排出方法 失效

    公开(公告)号：CN100384545C

    公开(公告)日：2008-04-30

    申请号：CN03164954.8

    申请日：2003-09-30

    Applicant: 松下电器产业株式会社

    Inventor： 丸山照雄 ,  井上隆史 ,  日向亮二

    IPC: B05D1/26 ,  B05C5/02

    CPC classification number: B05C11/1034 ,  B05C5/0225 ,  B05C11/1047 ,  F04B17/003 ,  F04B17/042 ,  F04B19/006

    Abstract: 一种流体排出方法，包括从流体供给装置向由两个部件的两个相对的表面形成的间隙供给流体，同时保持两个部件沿间隙方向彼此相对移动；利用通过改变间隙造成的压力改变而间歇地排出流体，根据流体供给装置的压力和流量特性控制每滴的流体排出量；和设定间隙最小值h0，在h0＞hx时执行间歇排出，其中当h0在0＜h0＜hx的范围内时，每滴的间歇排出量与最小值h0成比例，当h0＞hx时，每滴的间歇排出量恒定且独立于最小值h0，当h0在0＜h0＜hx的范围内时，相对于h0的每滴的间歇排出量由曲线表示，且在接近最小值h0＝0的一部分处第一直线与曲线相切，当h0＞hx时，每滴的间歇排出量是恒定的且由第二直线表示，第一直线和第二直线之间的交点定义为h0＝hx。

    流体排出方法及流体排出装置
    2.
    发明公开
    流体排出方法及流体排出装置 失效

    公开(公告)号：CN1521793A

    公开(公告)日：2004-08-18

    申请号：CN200410005081.0

    申请日：2004-02-16

    Applicant: 松下电器产业株式会社

    Inventor： 丸山照雄 ,  井上隆史 ,  日向亮二

    IPC: H01J9/227 ,  B05C5/02

    CPC classification number: F04D3/02 ,  B01L3/0206 ,  B01L3/0241 ,  F04B13/00 ,  F04D15/0022

    Abstract: 一种流体排出方法及流体排出装置，配置向在空隙方向上相对移动的2个面供给流体的流体供给装置，利用由所述相对移动面的空隙的变动造成的压力变化，将由流体供给装置供给的连续流变换为间歇流，同时，利用所述流体供给装置的转数对每1点的间歇排出量进行调节。利用此方法，可以在电子部件、家电制品、显示器等领域中的生产工艺中，对粘接剂、清洁焊锡、荧光体、电极材料、油脂、涂料、热熔胶、药品、食品等各种液体以高速度并且高精度地进行间歇定量排出·供给。

    流体排出方法及流体排出装置
    5.
    发明授权
    流体排出方法及流体排出装置 失效

    公开(公告)号：CN100553796C

    公开(公告)日：2009-10-28

    申请号：CN200410005081.0

    申请日：2004-02-16

    Applicant: 松下电器产业株式会社

    Inventor： 丸山照雄 ,  井上隆史 ,  日向亮二

    IPC: B05C5/02 ,  B05D1/26 ,  H01J9/227

    CPC classification number: F04D3/02 ,  B01L3/0206 ,  B01L3/0241 ,  F04B13/00 ,  F04D15/0022

    Abstract: 一种流体排出方法及流体排出装置，配置向在空隙方向上相对移动的2个面供给流体的流体供给装置，利用由所述相对移动面的空隙的变动造成的压力变化，将由流体供给装置供给的连续流变换为间歇流，同时，利用所述流体供给装置的转数对每1点的间歇排出量进行调节。利用此方法，可以在电子部件、家电制品、显示器等领域中的生产工艺中，对粘接剂、清洁焊锡、荧光体、电极材料、油脂、涂料、热熔胶、药品、食品等各种液体以高速度并且高精度地进行间歇定量排出·供给。

    显像管制造用曝光装置
    6.
    发明授权
    显像管制造用曝光装置 失效

    公开(公告)号：CN1080897C

    公开(公告)日：2002-03-13

    申请号：CN96103081.X

    申请日：1996-03-07

    Applicant: 松下电器产业株式会社

    Inventor： 长野宽之 ,  井上隆史 ,  上野和夫 ,  持田省郎 ,  上田修治

    IPC: G03F7/20 ,  H01J9/227

    CPC classification number: H01J9/2274 ,  H01J9/2272 ,  H01J9/2273

    Abstract: 本发明的曝光装置，由椭圆反射镜2使光源1产生的光会聚。会聚光在棒状光积分器中积分并均匀，从光积分器3另一端辐射。透镜系统7辐射光积分器的出射光10，投影到显像管的显示区域6a。透镜系统7具有在其虚像区形成第一和第二虚像焦点的非点像差。辐射光表观上由第一虚像焦点在垂直方向上辐射，由第二虚像焦点在水平方向上辐射。上述第一和第二虚像焦点分别定位于该显像管垂直和水平偏转装置相对应的位置上。因而，偏转电子束可以正确地与图像信号同步在G、B、R点阵上扫描。

    曝光方法及其装置
    7.
    发明公开
    曝光方法及其装置 无效

    公开(公告)号：CN1120683A

    公开(公告)日：1996-04-17

    申请号：CN95103125.2

    申请日：1995-03-15

    Applicant: 松下电器产业株式会社

    Inventor： 井上隆史 ,  长野宽之 ,  石井好道

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70575 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70783

    Abstract: 曝光方法及其装置，从掩模上方用光束照射与基片靠近保持着的掩模，将掩模图案转印到基片的感光层上，包括如下步骤：用间隙测量装置测量被局部扫描和照射的掩模部分和被局部照射的基片部分之间的间隙；比较该间隙测定值和设定值；按测定值和设定值之差使掩模和/或基片局部变形以使该间隙趋向预定值。不必使用大口径的聚光透镜，可使装置小型化、降低成本，并可在整个区域获得高析像度的曝光。

    显像管制造用曝光装置
    9.
    发明公开
    显像管制造用曝光装置 失效

    公开(公告)号：CN1156267A

    公开(公告)日：1997-08-06

    申请号：CN96103081.X

    申请日：1996-03-07

    Applicant: 松下电器产业株式会社

    Inventor： 长野宽之 ,  井上隆史 ,  上野和夫 ,  持田省郎 ,  上田修治

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: H01J9/2274 ,  H01J9/2272 ,  H01J9/2273

    Abstract: 本发明的曝光装置，由椭圆反射镜2使光源1产生的光会聚。会聚光在棒状光积分器中积分并均匀，从光积分器3另一端辐射。透镜系统7辐射光积分器的出射光10，投影到显像管的显示区域6a。透镜系统7具有在其虚像区形成第一和第二虚像焦点的非点像差。辐射光表观上由第一虚像焦点在垂直方向上辐射，由第二虚像焦点在水平方向上辐射。上述第一和第二虚像焦点分别定位于该显像管垂直和水平偏转装置相对应的位置上。因而，偏转电子束可以正确地与图像信号同步在G、B、R点阵上扫描。

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