公开(公告)号：CN104204283A

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：CN201380015355.1

申请日：2013-03-19

Applicant: 株式会社钢臂功科研 ,  株式会社丰岛制作所

Inventor： 武富雄一 ,  田尾幸树 ,  金丸守贺 ,  坂井健二 ,  长谷山秀悦 ,  菊山英志

IPC: C23C14/34 ,  C04B35/00 ,  H01M4/525

CPC classification number: H01J37/3426 ,  B28B3/025 ,  C04B35/01 ,  C04B35/016 ,  C04B35/26 ,  C04B35/62695 ,  C04B35/645 ,  C04B2235/3203 ,  C04B2235/3275 ,  C04B2235/3279 ,  C04B2235/652 ,  C04B2235/6567 ,  C04B2235/663 ,  C04B2235/72 ,  C04B2235/77 ,  C23C14/08 ,  C23C14/3414 ,  H01J2237/332 ,  H01M4/1391 ,  H01M4/485 ,  H01M4/505 ,  H01M4/525 ,  H01M6/40

Abstract: 本发明提供一种含Li过渡金属氧化物烧结体，其作为杂质元素的Al、Si、Zr、Ca以及Y被抑制为Al≤90ppm、Si≤100ppm、Zr≤100ppm、Ca≤80ppm、Y≤20ppm的范围内，并且满足相对密度为95％以上以及电阻率小于2×107Ωcm。根据本发明，能够不产生异常放电地、稳定地以高成膜速度成膜为作为二次电池等的正极薄膜来说有用的含Li过渡金属氧化物薄膜。

公开(公告)号：CN103154308A

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN201180048311.X

申请日：2011-10-05

Applicant: 株式会社神户制钢所 ,  株式会社钢臂功科研

Inventor： 松本克史 ,  高木胜寿 ,  武富雄一 ,  中井淳一 ,  莳野秀忠 ,  高木敏晃

IPC: C23C14/34 ,  B22F3/115 ,  B22F3/15 ,  B22F3/24 ,  C22C1/02 ,  C22C1/04 ,  C22C21/00 ,  C22F1/00

CPC classification number: C23C14/3414 ,  B22F3/115 ,  B22F3/15 ,  B22F3/24 ,  C22C1/0416 ,  C22C21/00 ,  C22F1/04 ,  C23C16/45504 ,  C23C16/4585 ,  C23C16/4586

Abstract: 本发明提供使用了溅射钯时的成膜速度(溅射速率)被提高、理想的是能够防止飞溅的发生的Al基合金溅射钯。本发明的Al基合金溅射钯含有Ta。优选的是含有Al及Ta的Al-Ta系金属间化合物的平均粒子直径为0.005μm以上且1.0μm以下，且Al-Ta系金属间化合物的平均粒子间距离满足0.01μm以上且10.0μm以下。

公开(公告)号：CN104245623B

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201380019399.1

申请日：2013-04-10

Applicant: 株式会社钢臂功科研

Inventor： 武富雄一 ,  田尾幸树 ,  金丸守贺

IPC: C04B35/447 ,  C04B35/645 ,  C23C14/34 ,  H01M10/0562

CPC classification number: H01J37/3429 ,  C01D15/00 ,  C04B35/447 ,  C04B35/62605 ,  C04B35/645 ,  C04B2235/3203 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/658 ,  C04B2235/72 ,  C04B2235/76 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/786 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/81 ,  C23C14/3414 ,  H01J2237/332 ,  H01M10/052 ,  H01M10/0562

Abstract: 本发明提供一种不会发生靶的裂纹和异常放电，能够稳定地并以高的成膜速度成膜为作为二次电池等的固体电解质有用的含Li磷酸化合物薄膜，兼备高相对密度和微细的晶粒直径，并且抑制了气孔等缺陷(空隙)的含Li磷酸化合物烧结体。本发明的含Li磷酸化合物烧结体具有以下要旨：在烧结体内部的截面1mm2的区域中不存在50μm以上的缺陷，平均晶粒直径在15μm以下，相对密度在85％以上。

公开(公告)号：CN103154308B

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：CN201180048311.X

申请日：2011-10-05

Applicant: 株式会社神户制钢所 ,  株式会社钢臂功科研

Inventor： 松本克史 ,  高木胜寿 ,  武富雄一 ,  中井淳一 ,  莳野秀忠 ,  高木敏晃

IPC: C23C14/34 ,  B22F3/115 ,  B22F3/15 ,  B22F3/24 ,  C22C1/02 ,  C22C1/04 ,  C22C21/00 ,  C22F1/00

CPC classification number: C23C14/3414 ,  B22F3/115 ,  B22F3/15 ,  B22F3/24 ,  C22C1/0416 ,  C22C21/00 ,  C22F1/04 ,  C23C16/45504 ,  C23C16/4585 ,  C23C16/4586

Abstract: 本发明提供使用了溅射靶时的成膜速度(溅射速率)被提高、理想的是能够防止飞溅的发生的Al基合金溅射靶。本发明的Al基合金溅射靶含有Ta。优选的是含有Al及Ta的Al-Ta系金属间化合物的平均粒子直径为0.005μm以上且1.0μm以下，且Al-Ta系金属间化合物的平均粒子间距离满足0.01μm以上且10.0μm以下。

公开(公告)号：CN104245623A

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：CN201380019399.1

申请日：2013-04-10

Applicant: 株式会社钢臂功科研

Inventor： 武富雄一 ,  田尾幸树 ,  金丸守贺

IPC: C04B35/447 ,  C04B35/645 ,  C23C14/34 ,  H01M10/0562

CPC classification number: H01J37/3429 ,  C01D15/00 ,  C04B35/447 ,  C04B35/62605 ,  C04B35/645 ,  C04B2235/3203 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/658 ,  C04B2235/72 ,  C04B2235/76 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/786 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/81 ,  C23C14/3414 ,  H01J2237/332 ,  H01M10/052 ,  H01M10/0562

Abstract: 本发明提供一种不会发生靶的裂纹和异常放电，能够稳定地并以高的成膜速度成膜为作为二次电池等的固体电解质有用的含Li磷酸化合物薄膜，兼备高相对密度和微细的晶粒直径，并且抑制了气孔等缺陷(空隙)的含Li磷酸化合物烧结体。本发明的含Li磷酸化合物烧结体具有以下要旨：在烧结体内部的截面1mm2的区域中不存在50μm以上的缺陷，平均晶粒直径在15μm以下，相对密度在85％以上。