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公开(公告)号：CN103852972B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201410122627.4
申请日：2014-03-28
Applicant: 西安交通大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 一种双焦点微透镜阵列的微米压印与激光诱导成形方法，首先利用电润湿法获得初级微透镜结构初始凹模，然后利用翻模和压印技术获得初级微透镜结构，再利用激光诱导聚合物膨胀技术在初级微透镜结构上制备次级级隆起结构，最后利用翻模和压印技术获得所需的双焦点微透镜，进而实现双焦点微透镜阵列的简单快速制造，本发明结合激光光致膨胀特性制备凸起结构解决了在微结构上继续加工微结构的问题，采用微米压印技术可有效提高双焦点微透镜的加工效率和结构的均匀性。
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公开(公告)号：CN103159164B
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：CN201310066561.7
申请日：2013-03-01
Applicant: 西安交通大学
Abstract: 一种高深宽比微柱阵列的电场诱导压印方法，先进行压印模具的制备及处理，然后进行基材、电极和聚合物材料的选择再压印及脱模，然后施加外电场，电场诱导再成型最后进行聚合物的固化，本发明最终得到的高深宽比柱状阵列，广泛的用于微机电系统以及生物微流体领域，同时由于本发明不需要复杂的工艺控制，大大降低了加工成本，提高了加工效率。
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公开(公告)号：CN102629669B
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201210088157.5
申请日：2012-03-29
Applicant: 西安交通大学
IPC: H01L51/56
Abstract: 本发明公开了一种以多孔氧化铝为模板压印制备OLED上亚微米级结构的工艺，包括如下步骤：(1)制备模具；(2)紫外固化胶图形化；(3)采用磁控溅射氮化硅在图形化的紫外固化胶上制备高折射率介质层；(4)在阳极上制作OLED器件。本发明大大降低了现有图形化技术的成本，同时且具有大面积制备的潜力，使OLED的效率得到显著提高，并且不影响基片上面的有机器件结构，适用于任何发光结构的OLED器件。
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公开(公告)号：CN102555415B
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201110455547.7
申请日：2011-12-30
Applicant: 西安交通大学
Abstract: 本发明公开一种机床测量用光栅尺保护膜的涂覆方法，该方法是用辊涂的方式在转移薄膜上涂覆保护膜，用刮刀控制厚度，以张紧力控制保护膜的均匀性，将转移薄膜上的保护膜的进行预固化，以提高其粘度，便于其向光栅线槽中填充；然后采用辊压的方式将保护膜与光栅尺表面贴合并填充到光栅线纹凹槽处，在辊压的线接触前，用真空泵降低待接触部位附近的气压，便于保护膜的填充，待保护膜填充完成后，对转移有保护膜的光栅尺进行充分曝光，确保保护膜结构固定，最后将转移薄膜剥离。本发明方法具有高效率、低成本、可实现连续转移等优点。
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公开(公告)号：CN103871804A
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201410122626.X
申请日：2014-03-28
Applicant: 西安交通大学
Abstract: 室温下Pd薄膜大面积纳米缝阵列并行制造方法，在刚性基底和Pd薄膜之间引入易产生应力集中的环氧树脂阵列，反复使Pd薄膜处于较高氢气浓度和较低氢气浓度环境中，Pd与氢气发生可逆化学反应，导致Pd薄膜体积循环增大和减小，给Pd薄膜施加循环应力载荷，当循环次数足够多时，Pd薄膜在应力集中区发生疲劳断裂，本发明解决了传统金属薄膜断裂所需的应变来源问题，裂缝位置精确可控，控制氢气浓度、置于氢气环境中的时间及循环次数可以改变纳米缝宽度大小；Pd薄膜厚度均匀，循环应力作用均匀保证了阵列化纳米裂缝电极大面积并行制造的可行性和均匀性；同时，实验在室温下进行，方法简单有效。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102320554B
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：CN201110191568.2
申请日：2011-07-11
Applicant: 西安交通大学
IPC: B81C1/00
Abstract: 一种纳米缝的模板对准压印制备工艺，先进行刚性衬底、柔性材料以及刚性材料三层结构的制备，然后采用模板进行对准压印，根据不同的纳米缝结构制备相应的压印模板，采用对准工艺使模板在需要产生纳米缝的位置处施加外在压力进行压印，最后利用第二平板二次对准施压，使断裂错位的薄膜材料上的纳米缝对齐，进一步减小纳米缝的间距，采用纳米缝的模板对准压印，导致柔性材料层变形，顶层刚性材料薄膜断裂，形成单个纳米缝或是纳米缝阵列，可以有效的突破常规纳米缝制备工艺中复杂的工艺流程以及昂贵的加工设备，能够低廉地制备纳米缝结构，可以广泛地应用在SED显示器以及分子器件等方面。
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公开(公告)号：CN103545464A
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：CN201310462950.1
申请日：2013-09-29
Applicant: 西安交通大学
Abstract: 本发明公开了一种具有微纳结构的0LED制造方法，包括以下步骤：1）分别在清洗后的石英基片上旋涂单层直径不同的二氧化硅纳米球；2）对涂布有二氧化硅纳米小球的石英基片进行刻蚀，形成散射结构石英基片和增透结构石英基片；3）将聚氨酯分别涂在刻蚀后的两种石英基片上，烘烤待聚氨酯固化后，脱模得到具有增透结构的聚氨酯模具和具有散射结构的聚氨酯模具；4）将上述聚氨酯模分别放置在聚碳酸酯基底的上下两端同时进行热压印，在聚碳酸酯基底形成散射结构和增透结构；5）在聚碳酸酯基底的散射结构上制备OLED器件。聚碳酸酯基底具有双面亚微米级结构，解决了OLED的聚合物基底上的图形化成本高，效率低且难以大面积制备的问题。
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公开(公告)号：CN103482564A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201310379324.6
申请日：2013-08-27
Applicant: 西安交通大学
IPC: B81C1/00
Abstract: 本发明公开了一种基于纳米粒子掩膜刻蚀的图形化亲疏复合表面制备工艺，包括：（a）纳米粒子单层排布；（b）纳米粒子掩膜刻蚀制备纳米结构；（c）光刻制备图形化表面；（d）图形化表面制备C4F8层。采用超声清洗去除（c）中光刻胶得到图形化亲疏复合表面。本发明的方法大大降低了现有亲疏复合表面制备技术成本，并且通过控制参数，制备出具有不同润湿性差异的亲疏复合表面，扩大了亲疏复合表面的应用范围。
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公开(公告)号：CN103193194A
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201310069978.9
申请日：2013-03-05
Applicant: 西安交通大学
IPC: B81C1/00
Abstract: 基于纳米粒子介电泳组装的有序纳米微结构制造方法，先制造平面平行微电极，再制造具有光刻胶导向结构的微电极系统，再进行银纳米粒子介电泳组装，最后进行有序的纳米微结构形成，本发明通过对银纳米粒子悬浮液施加高频交流电，使其在具有光刻胶导向作用下的微电极系统中，进行正介电泳力的组装，形成有序银纳米微结构的方法，可以有效的实现低成本，又简单易行地实现按照人的意志来调控图案多样、有序度高、稳定性好的自组装纳米微结构，可以广泛的应用于光电子器件、光伏器件等。
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公开(公告)号：CN103091370A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201310007582.1
申请日：2013-01-09
Applicant: 西安交通大学
Abstract: 一种用于气敏传感器制造的纳米线原位成形方法，先进行传感器图形化结构制造，在刚性基材表面均匀制备一层聚合物材料，在聚合物表面制备出具有应力豁口的金属薄膜电极，在此结构上制备出引线电极，然后进行一维纳米间隙结构制造，采用掩模板通过低能电子束对聚合物材料进行曝光，金属薄膜电极将在应力集中的豁口位置形成缝隙结构，然后将制成的缝隙结构置于气体敏感材料纳米粒子的悬浮液中，在金属薄膜电极两侧施加交变电场，纳米粒子形成纳米线，最后完成纳米线两端连接对电极的传感器制造；本发明解决了纳米线气敏传感器中纳米线的组装和安放的问题，达到传感器制造的批量化、低成本和一致性等制造技术属性要求。
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