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公开(公告)号：CN113302331A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202080009495.8
申请日：2020-03-19
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供靶材的研磨方法，其可从靶材去除接合材料并且可减少研磨材料的堵塞。本发明涉及的靶材的研磨方法为对从溅射靶分离出的靶材进行研磨的方法，所述溅射靶通过接合材料将靶材与支承部件接合而构成，其中，所述靶材的研磨方法包括：使用研磨材料对所述靶材中的与所述支承部件接合而成的接合面进行研磨，所述研磨材料包含由磨石形成的多个块状体，并且所述多个块状体以与邻接的块状体通过间隙而隔开的方式排列在同一面上。
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公开(公告)号：CN112638791A
公开(公告)日：2021-04-09
申请号：CN201980056277.7
申请日：2019-09-11
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供捆包体的制造方法，其是圆筒状溅射靶被片状缓冲材料捆包而成的捆包体的制造方法，并且能够在保持使圆筒状溅射靶横卧的状态的情况下容易地打开包装。本发明涉及下述捆包体的制造方法，其是圆筒状溅射靶被片状缓冲材料捆包而成的捆包体的制造方法，其中，将圆筒状溅射靶的圆筒部用至少2层片状缓冲材料覆盖，在该圆筒状溅射靶的圆筒部的包含周向的截面中，使片状缓冲材料的两端部以该圆筒部的圆周的二分之一以下的长度叠合、或者使片状缓冲材料的两端部对接，由此进行捆包。
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公开(公告)号：CN113316659B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202080009480.1
申请日：2020-02-10
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供靶材的清洗方法、用该清洗方法处理的靶材的制造方法、及将通过该方法得到的靶材作为原料的循环铸块的制造方法，所述靶材的清洗方法能够通过喷砂处理从使用过的靶材简便且充分地去除来源于构成接合层的接合材料及支承部件的杂质。本发明中的靶材的清洗方法是清洗从溅射靶分离出的靶材的方法，所述溅射靶将靶材与支承部件用接合材料接合而构成，所述靶材的清洗方法包括：对于所述靶材中的、所述靶材与所述支承部件接合而成的第1面喷射新莫氏硬度为3以上且体积比重为2g/cm3以下的研磨材料。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113811562A
公开(公告)日：2021-12-17
申请号：CN202080033043.3
申请日：2020-05-01
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C08G73/14 , C08K5/1535 , C08L79/08 , G02B5/30 , C09D179/08
Abstract: 本发明提供一种清漆，其即使在以清漆的状态长期保存后制造聚酰亚胺系高分子膜的情况下，也能够有效地防止该膜的黄变。清漆，其包含聚酰亚胺系高分子及含有下述γ‑丁内酯的溶剂，所述γ‑丁内酯是：波长275nm处的光线透过率为88％以上的γ‑丁内酯；或者，在以聚乙二醇为固定相的毛细管气相色谱分析中，在以柱温保持于120℃的状态进样、然后将温度于120℃保持1分钟、然后以10℃/分钟的速度升温至240℃、然后于240℃保持7分钟的情况下，以γ‑丁内酯的峰为基准的相对保留时间为1.05～1.50处所检测出的成分的面积比为260ppm以下的γ‑丁内酯。
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公开(公告)号：CN113316659A
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：CN202080009480.1
申请日：2020-02-10
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供靶材的清洗方法、用该清洗方法处理的靶材的制造方法、及将通过该方法得到的靶材作为原料的循环铸块的制造方法，所述靶材的清洗方法能够通过喷砂处理从使用过的靶材简便且充分地去除来源于构成接合层的接合材料及支承部件的杂质。本发明中的靶材的清洗方法是清洗从溅射靶分离出的靶材的方法，所述溅射靶将靶材与支承部件用接合材料接合而构成，所述靶材的清洗方法包括：对于所述靶材中的、所述靶材与所述支承部件接合而成的第1面喷射新莫氏硬度为3以上且体积比重为2g/cm3以下的研磨材料。
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公开(公告)号：CN108690991A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201810266231.5
申请日：2018-03-28
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: Y02P10/212 , C23G1/22 , C22B7/001 , C22B21/0007 , C23C14/3407 , C23C14/3414 , C23G1/125
Abstract: 本发明涉及清洗靶材的方法、靶材的制造方法、再循环铸锭的制造方法及再循环铸锭。本发明提供一种清洗靶材的方法，所述方法包括下述工序：从用接合材料将主要由金属构成的靶材与支承构件结合而形成的溅射靶分离靶材的工序；以及，用碱对靶材的与上述支承构件的结合面进行处理的工序。
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公开(公告)号：CN108690957A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201810266212.2
申请日：2018-03-28
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/3407 , C23C14/3414
Abstract: 本发明涉及清洗使用过的靶材的方法、靶材的制造方法、再循环铸锭的制造方法及再循环铸锭。本发明提供清洗溅射靶的靶材的方法，其是对在溅射中使用后的溅射靶的靶材进行清洗的方法，所述溅射靶是用接合材料将主要由金属构成的靶材与支承构件结合而形成的，所述方法包括下述工序：将上述靶材从上述溅射靶分离的工序；以及，将由上述工序得到的靶材的与上述支承构件的结合面用酸处理后、进一步用碱处理的工序。
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