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公开(公告)号：CN110573474A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201880028756.3
申请日：2018-02-06
Applicant: 住友金属矿山株式会社
IPC: C04B35/453 , C23C14/34 , H01B1/08
Abstract: 提供：也能用于阻隔膜、保护膜等用途、高密度且低电阻的Sn-Zn-O系氧化物烧结体和其制造方法。为一种具有锌(Zn)和锡(Sn)作为成分的Sn-Zn-O系氧化物烧结体，还至少含有锗(Ge)、钽(Ta)和镓(Ga)作为成分，金属原子数比是Sn/(Zn+Sn)为0.1以上且0.3以下、Ge/(Zn+Sn+Ge+Ta+Ga)为0.0005以上且0.01以下、Ta/(Zn+Sn+Ge+Ta+Ga)为0.0005以上且0.01以下、Ga/(Zn+Sn+Ge+Ta+Ga)为0.001以上且0.1以下，电阻率为5Ω·cm以上且12000Ω·cm以下，相对密度为94％以上。
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公开(公告)号：CN110317969A
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201910242445.3
申请日：2019-03-28
Applicant: 住友金属矿山株式会社
Abstract: 提供一种具备具有优异的焊料润湿性的铜合金覆膜的焊料接合电极，以及能够形成该铜合金覆膜的、焊料接合电极的覆膜形成用铜合金靶，所述焊料接合电极与使用了以银作为主要成分的合金靶的溅射成膜相比，能够减少覆膜形成成本，并且即使对于近年来尺寸、形状已经微细化的接合部而言也显示良好的焊料接合性。具有如下的铜合金覆膜：由铜、银、镍和钯的合金形成，以铜作为主要成分，以大于10质量％且小于50质量％的比例含有银、以大于0.05质量％且小于1.0质量％的比例含有镍、以大于0.1质量％且小于1.0质量％的比例含有钯。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102134700B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201010583539.6
申请日：2010-12-07
Applicant: 住友金属矿山株式会社
CPC classification number: H01B1/08 , C04B35/01 , C04B35/6261 , C04B2235/3229 , C04B2235/3286 , C04B2235/5445 , C04B2235/6562 , C04B2235/6565 , C04B2235/6585 , C04B2235/6586 , C04B2235/77 , C04B2235/786 , C23C14/0015 , C23C14/08
Abstract: 本发明的氧化物蒸镀材料，其特征在于，由以氧化铟作为主要成分且铈含量以Ce/In原子数比为超过0.110且为0.538以下的烧结体构成，CIE1976色系中的L*值为62～95。由于L*值为62～95的上述氧化物蒸镀材料具有最佳氧量，因此，即使向成膜真空槽中的氧气导入量少，也能够以真空蒸镀法制造出波长550nm下的折射率为2.15～2.51的、低电阻且可见光～近红外光区域中为高透过性的高折射率透明膜，并且，由于氧气导入量少，所以能够减小膜与蒸镀材料之间的组成偏差。
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公开(公告)号：CN102102173B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201010559242.6
申请日：2010-11-22
Applicant: 住友金属矿山株式会社
IPC: C23C14/08 , C23C14/24 , H01L31/0224
CPC classification number: H01B1/08 , C04B35/01 , C04B2235/3229 , C04B2235/3256 , C04B2235/3258 , C04B2235/3286 , C04B2235/3293 , C04B2235/5436 , C04B2235/5445 , C04B2235/608 , C04B2235/6562 , C04B2235/6565 , C04B2235/6567 , C04B2235/658 , C04B2235/6585 , C04B2235/6586 , C04B2235/77 , C04B2235/786 , C04B2235/9646 , C23C14/08 , C23C14/3414 , C23C30/005 , H01L31/022466 , H01L31/022475 , H01L31/0749 , H01L31/1884 , Y02E10/541
Abstract: 本发明的氧化物蒸镀材料，其特征在于，由以氧化铟为主要成分且以Ce/In原子数比计含0.001～0.110的铈的烧结体构成，且CIE1976表色系中的L*值为62～95。L*值为62～95的上述氧化物蒸镀材料具有最佳氧量，因此，即使向成膜真空槽导入的氧气量少的情况下，也能够通过真空蒸镀法制造出低电阻且在可见光到近红外区域具有高透过性的透明导电膜，且由于氧气导入量少，能够缩小膜与蒸镀材料之间的组成差，由此，也能够减少批量生产时膜组成的变动和特性的变动。
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公开(公告)号：CN102812150B
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201180014684.5
申请日：2011-02-21
Applicant: 住友金属矿山株式会社
CPC classification number: C23C14/30 , C01G19/00 , C01P2004/61 , C01P2006/62 , C04B35/01 , C04B35/62625 , C04B2235/3286 , C04B2235/3293 , C04B2235/604 , C04B2235/6585 , C04B2235/6586 , C04B2235/786 , C23C14/086 , C23C14/32
Abstract: 本发明的氧化物蒸镀材料，其特征在于，由以氧化铟为主要成分且以Sn/In原子数比计含有0.001～0.614的锡的氧化物烧结体构成，且CIE1976色度系统中的L*值为54～75。L*值为54～75的上述氧化物蒸镀材料具有最佳氧量，因此，即使向成膜真空槽导入的氧气量少，也可以通过真空蒸镀法制造出低电阻且在可见区具有高透过性的透明导电膜，并且由于氧气的导入量少，可以缩小膜与蒸镀材料之间的组成差，也可减少批量生产时膜组成的变动和特性的变动。
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公开(公告)号：CN102134700A
公开(公告)日：2011-07-27
申请号：CN201010583539.6
申请日：2010-12-07
Applicant: 住友金属矿山株式会社
CPC classification number: H01B1/08 , C04B35/01 , C04B35/6261 , C04B2235/3229 , C04B2235/3286 , C04B2235/5445 , C04B2235/6562 , C04B2235/6565 , C04B2235/6585 , C04B2235/6586 , C04B2235/77 , C04B2235/786 , C23C14/0015 , C23C14/08
Abstract: 本发明的氧化物蒸镀材料，其特征在于，由以氧化铟作为主要成分且铈含量以Ce/In原子数比为超过0.110且为0.538以下的烧结体构成，CIE1976色系中的L*值为62～95。由于L*值为62～95的上述氧化物蒸镀材料具有最佳氧量，因此，即使向成膜真空槽中的氧气导入量少，也能够以真空蒸镀法制造出波长550nm下的折射率为2.15～2.51的、低电阻且可见光～近红外光区域中为高透过性的高折射率透明膜，并且，由于氧气导入量少，所以能够减小膜与蒸镀材料之间的组成偏差。
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公开(公告)号：CN102102173A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN201010559242.6
申请日：2010-11-22
Applicant: 住友金属矿山株式会社
IPC: C23C14/08 , C23C14/24 , H01L31/0224
CPC classification number: H01B1/08 , C04B35/01 , C04B2235/3229 , C04B2235/3256 , C04B2235/3258 , C04B2235/3286 , C04B2235/3293 , C04B2235/5436 , C04B2235/5445 , C04B2235/608 , C04B2235/6562 , C04B2235/6565 , C04B2235/6567 , C04B2235/658 , C04B2235/6585 , C04B2235/6586 , C04B2235/77 , C04B2235/786 , C04B2235/9646 , C23C14/08 , C23C14/3414 , C23C30/005 , H01L31/022466 , H01L31/022475 , H01L31/0749 , H01L31/1884 , Y02E10/541
Abstract: 本发明的氧化物蒸镀材料，其特征在于，由以氧化铟为主要成分且以Ce/In原子数比计含0.001～0.110的铈的烧结体构成，且CIE1976表色系中的L*值为62～95。L*值为62～95的上述氧化物蒸镀材料具有最佳氧量，因此，即使向成膜真空槽导入的氧气量少的情况下，也能够通过真空蒸镀法制造出低电阻且在可见光到近红外区域具有高透过性的透明导电膜，且由于氧气导入量少，能够缩小膜与蒸镀材料之间的组成差，由此，也能够减少批量生产时膜组成的变动和特性的变动。
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