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公开(公告)号：CN117226680A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202310687732.1
申请日：2023-06-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种衬底及其制造方法。本文中提供了用于制造适于EUVL的掩模坯料的衬底的方法，以及能够抑制深度小于5nm的凹陷缺陷的方法。本发明提供了制造衬底的方法，其中通过具有配备有抛光垫的上抛光板的抛光设备来进行最终抛光，所述方法包括以下步骤：将衬底原料放置在抛光设备中，使得该衬底原料的主表面朝向该上抛光板；旋转上抛光板并在衬底原料的主表面上与抛光浆料一起抛光该衬底原料；以及将保持旋转的上抛光板升高以使其与抛光的衬底原料的主表面分离。
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公开(公告)号：CN113497172A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202110288846.X
申请日：2021-03-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及带抗反射膜的合成石英玻璃基板、窗材料、光学元件封装用盖、光学元件封装和光照射装置。带抗反射膜的合成石英玻璃基板，包括：合成石英玻璃基板；和在合成石英玻璃基板的主面上形成的抗反射膜，其中，合成石英玻璃基板的主表面的通过JIS R 3257：1999的静滴法测定的接触角在5度以内，并且抗反射膜包括在合成石英玻璃基板的主表面上依次层叠的含Al2O3的第一层、含HfO2的第二层和含MgF2或SiO2的第三层。
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公开(公告)号：CN104099025B
公开(公告)日：2019-08-20
申请号：CN201410129403.6
申请日：2014-04-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C09K3/14
Abstract: 本发明涉及胶态二氧化硅抛光组合物和使用其制造合成石英玻璃基板的方法。本发明提供一种抛光组合物，其包含球形二氧化硅颗粒和缔合二氧化硅颗粒的胶体分散体作为研磨料。当在抛光合成石英玻璃基板的步骤中使用时，该抛光组合物确保比常规胶态二氧化硅更高的抛光速率，并且有效防止基板表面上的任何微小缺陷，从而提供具有高平滑度的基板。该抛光组合物可作为二氧化铈的替代抛光组合物用于抛光经研磨的表面。
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公开(公告)号：CN104860521B
公开(公告)日：2019-05-28
申请号：CN201510085325.9
申请日：2015-02-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: C03B25/02 , C03B19/1453 , C03B32/00 , C03B2201/23
Abstract: 本发明提供了合成石英玻璃的热处理方法。具体地，提供了用于热处理合成石英玻璃的方法，该合成石英玻璃具有最大值/最小值差异(△OH)小于350ppm的羟基浓度，该方法包括以下步骤：在1150－1060℃下保持0.5‑10小时的时间的第一热处理，以－7℃/小时至－30℃/小时的速率冷却至第二热处理温度，在1030－950℃下保持5－20小时的时间的第二热处理，和以－25℃/小时至－85℃/小时的速率退火。两阶段的热处理确保了该玻璃具有低双折射。
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公开(公告)号：CN108873599A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810428812.4
申请日：2018-05-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: C03C19/00 , B24B1/00 , C03C3/06 , C03C2204/08 , G01B5/285 , G03F1/60 , G03F1/36
Abstract: 本发明涉及一种大尺寸合成石英玻璃衬底、评价方法、和制造方法。该大尺寸合成石英玻璃衬底具有至少1,000mm的对角线长度。假设在衬底表面上限定有效范围，并且将有效范围划分为多个评价区域，使得所述评价区域彼此部分重叠，每个评价区域中的平坦度为至多3μm。从具有高平坦度和在衬底表面内的最小局部梯度的石英玻璃衬底制备大尺寸光掩模。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107775484A
公开(公告)日：2018-03-09
申请号：CN201710738241.X
申请日：2017-08-25
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: B24B9/10
CPC classification number: C03C19/00 , B24B9/005 , B24B9/10 , B24B29/005 , C03C3/06 , C03C21/00 , C03C23/0075 , H01L21/02422 , H01L29/06
Abstract: 本发明涉及方形玻璃基板及其制造方法。本发明提供一种方形玻璃基板，是具有表面、背面、4个侧面、和在表面与各侧面以及背面与各侧面之间分别形成了的8个倒角面的方形玻璃基板，在表面与该表面侧的倒角面之间的棱线部具有使表面朝上水平地载置时从该表面到50μm下方的位置的平均梯度为25％以下的第一曲面，并且在侧面与上述表面侧的倒角面之间的棱线部具有使该侧面朝上水平地载置时从该侧面到50μm下方的位置的平均梯度为30％以上的第二曲面，并且板厚为6mm以上。采用本发明的方形玻璃基板，无论清洗方式如何，都能够抑制清洗后的亚微米尺寸的表面污染，抑制制造成品率的降低。
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公开(公告)号：CN107176794A
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201710134890.9
申请日：2017-03-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: C03B33/02 , B28D5/00 , C03C3/06 , C03C15/00 , C03C17/28 , C03C2201/02 , C03C2203/50 , C03C2218/114 , C03C2218/32 , G01B11/06 , G01N21/23 , C03C17/34 , B24B1/00 , C03B33/074 , C03C2217/70
Abstract: 通过提供合成石英玻璃块材，用在双折射测定波长下具有至少99.0％/mm的透射率的液体涂布该玻璃块材的两个相对表面，通过引导光从其经过而测定该玻璃块材的双折射，基于双折射测定和该基板的尺寸来确定切割厚度，和以确定的切割厚度将该玻璃块材切割，从而制备合成石英玻璃基板。
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公开(公告)号：CN104860521A
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201510085325.9
申请日：2015-02-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: C03B25/02 , C03B19/1453 , C03B32/00 , C03B2201/23
Abstract: 本发明提供了合成石英玻璃的热处理方法。具体地，提供了用于热处理合成石英玻璃的方法，该合成石英玻璃具有最大值/最小值差异(△OH)小于350ppm的羟基浓度，该方法包括以下步骤：在1150－1060℃下保持0.5-10小时的时间的第一热处理，以－7℃/小时至－30℃/小时的速率冷却至第二热处理温度，在1030－950℃下保持5－20小时的时间的第二热处理，和以－25℃/小时至－85℃/小时的速率退火。两阶段的热处理确保了该玻璃具有低双折射。
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公开(公告)号：CN102179731B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201010609290.1
申请日：2010-12-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
CPC classification number: C03C15/02 , C03C19/00 , C03C23/0075 , C09G1/02 , C09K3/1463
Abstract: 本发明提供了一种合成石英玻璃衬底的制备方法。本发明还提供了一种合成石英玻璃衬底，其通过如下步骤制备：(1)使用抛光浆料抛光合成石英玻璃衬底，该浆料包含胶体颗粒、带有与胶体颗粒相同类型电荷的离子有机化合物、和水，及(2)将抛光的衬底浸入酸或碱溶液用以将衬底表面刻蚀到0.001-1nm的深度。本方法制备了合成石英玻璃衬底同时抑制了其尺寸通过高敏感度缺陷检测工具可检测的缺陷的形成，且提供了具有令人满意的表面粗糙度的衬底。
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公开(公告)号：CN104099025A
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201410129403.6
申请日：2014-04-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及胶态二氧化硅抛光组合物和使用其制造合成石英玻璃基板的方法。本发明提供一种抛光组合物，其包含球形二氧化硅颗粒和缔合二氧化硅颗粒的胶体分散体作为研磨料。当在抛光合成石英玻璃基板的步骤中使用时，该抛光组合物确保比常规胶态二氧化硅更高的抛光速率，并且有效防止基板表面上的任何微小缺陷，从而提供具有高平滑度的基板。该抛光组合物可作为二氧化铈的替代抛光组合物用于抛光经研磨的表面。
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