图像传感器的部分掩埋沟道传送装置

    公开(公告)号:CN103050500B

    公开(公告)日:2016-03-30

    申请号:CN201210385836.9

    申请日:2012-10-12

    CPC classification number: H01L27/14616 H01L27/14689

    Abstract: 本申请案涉及图像传感器的部分掩埋沟道传送装置。本发明涉及包含光敏元件、浮动扩散区及传送装置的图像传感器像素的实施例。所述光敏元件安置于衬底层中以用于响应于光而积累图像电荷。所述浮动扩散区安置于所述衬底层中以从所述光敏元件接收所述图像电荷。所述传送装置安置于所述光敏元件与所述浮动扩散区之间以选择性地将所述图像电荷从所述光敏元件传送到所述浮动扩散区。所述传送装置包含掩埋沟道装置,所述掩埋沟道装置包含安置于掩埋沟道掺杂剂区上方的掩埋沟道栅极。所述传送装置还包含表面沟道装置,所述表面沟道装置包含安置于表面沟道区上方的表面沟道栅极。所述表面沟道装置与所述掩埋沟道装置串联。所述表面沟道栅极具有与所述掩埋沟道栅极相反的极性。

    图像传感器像素及制造所述图像传感器像素的方法

    公开(公告)号:CN105405854A

    公开(公告)日:2016-03-16

    申请号:CN201510556654.7

    申请日:2015-09-02

    Abstract: 本申请案涉及图像传感器像素及制造所述图像传感器像素的方法。包含光电二极管的图像传感器像素包含安置于半导体层内的第一掺杂剂区域及安置在所述第一掺杂剂区域的上方且在所述半导体层内的第二掺杂剂区域。所述第二掺杂剂区域接触所述第一掺杂剂区域且所述第二掺杂剂区域具有与所述第一掺杂剂区域相反的多数电荷载流子类型。第三掺杂剂区域安置在所述第一掺杂剂区域的上方且在所述半导体层内。第三掺杂剂区域具有与所述第二掺杂剂区域相同的多数电荷载流子类型但具有大于所述第二掺杂剂区域的自由电荷载流子浓度。传输栅极经定位以传输来自所述光电二极管的光生电荷。所述第二掺杂剂区域比所述第三掺杂剂区域延伸得更接近于所述传输栅极的边缘。

    具有多个放大器晶体管的高动态范围像素

    公开(公告)号:CN104023183A

    公开(公告)日:2014-09-03

    申请号:CN201310511423.5

    申请日:2013-10-25

    Abstract: 本发明涉及具有多个放大器晶体管的高动态范围像素。本发明揭示一种供在高动态范围图像传感器中使用的像素单元,其包含光电二极管,所述光电二极管安置于半导体材料中以响应于入射于所述光电二极管上的光而积累电荷。传送晶体管安置于所述半导体材料中且耦合于浮动扩散部与所述光电二极管之间。第一放大器晶体管安置于所述半导体材料中,所述第一放大器晶体管具有耦合到所述浮动扩散部的栅极端子及经耦合以产生所述像素单元的第一输出信号的源极端子。第二放大器晶体管安置于所述半导体材料中,所述第二放大器晶体管具有耦合到所述浮动扩散部的栅极端子及经耦合以产生所述像素单元的第二输出信号的源极端子。

    具有分段式蚀刻停止层的图像传感器

    公开(公告)号:CN103383948A

    公开(公告)日:2013-11-06

    申请号:CN201310154196.5

    申请日:2013-04-28

    CPC classification number: H01L27/14636 H01L27/14643 H01L27/14689

    Abstract: 本申请案涉及具有分段式蚀刻停止层的图像传感器。一种装置包含其中布置有像素阵列的半导体层。钝化层在所述像素阵列之上邻近于所述半导体层而安置。包含多个蚀刻停止层段的分段式蚀刻停止层在所述像素阵列之上邻近于所述钝化层而安置。在所述多个蚀刻停止层段中的每一者之间的边界与在所述像素阵列中的像素之间的边界对准。

Patent Agency Ranking