公开(公告)号：CN109440062B

公开(公告)日：2021-02-05

申请号：CN201811389315.4

申请日：2016-03-22

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 田村纯香 ,  三上菜穗子 ,  藤户大生 ,  西辻清明 ,  西刚广

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/12 ,  C23F1/02 ,  C23C14/24 ,  H01L51/56 ,  G01N21/55

Abstract: 本发明涉及金属掩模基材、金属掩模基材的管理方法、金属掩模以及金属掩模的制造方法。金属掩模基材具备构成为配置有抗蚀剂的金属制的表面，入射到表面的光的镜面反射的反射率为45.2％以上。

公开(公告)号：CN107406964B

公开(公告)日：2018-12-18

申请号：CN201680013004.0

申请日：2016-03-22

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 田村纯香 ,  三上菜穗子 ,  藤户大生 ,  西辻清明 ,  西刚广

IPC: C23C14/04 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

Abstract: 本发明涉及金属掩模基材、金属掩模基材的管理方法、金属掩模以及金属掩模的制造方法。金属掩模基材具备构成为配置有抗蚀剂的金属制的表面，入射到表面的光的镜面反射的反射率为45.2％以上。

公开(公告)号：CN106350768A

公开(公告)日：2017-01-25

申请号：CN201610561108.7

申请日：2016-07-15

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 田村纯香 ,  新纳干大 ,  藤户大生 ,  西辻清明 ,  西刚广 ,  三上菜穗子 ,  仓田真嗣 ,  武田宪太

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24

CPC classification number: C23C14/042 ,  C23C14/24

Abstract: 本发明提供能够将通过蒸镀形成的图案的构造上的精度的提高以及蒸镀用金属掩模的操作性的提高这两者兼顾的蒸镀用金属掩模以及蒸镀用金属掩模的制造方法。具备：掩模部(32)，具备用于与蒸镀对象接触的接触面以及与上述接触面相反侧的非接触面，形成为片形状，而且，该掩模部具有分别从位于上述接触面的第一开口贯通到位于上述非接触面的第二开口的多个掩模孔，上述第一开口的大小小于上述第二开口的大小；以及掩模框架(31)，具有比上述掩模部高的刚性，并且形成为将上述多个掩模孔包围的框状。上述掩模部(32)在上述非接触面中具有将上述多个掩模孔包围的部分，在该部分通过接合部与掩模框架接合。

公开(公告)号：CN205974646U

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201620749297.6

申请日：2016-07-15

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 田村纯香 ,  新纳干大 ,  藤户大生 ,  西辻清明 ,  西刚广 ,  三上菜穗子 ,  仓田真嗣 ,  武田宪太

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24

Abstract: 本实用新型提供能够将通过蒸镀形成的图案的构造上的精度的提高以及蒸镀用金属掩模的操作性的提高这两者兼顾的蒸镀用金属掩模。具备：掩模部(32)，具备用于与蒸镀对象接触的接触面以及与上述接触面相反侧的非接触面，形成为片形状，而且，该掩模部具有分别从位于上述接触面的第一开口贯通到位于上述非接触面的第二开口的多个掩模孔，上述第一开口的大小小于上述第二开口的大小；以及掩模框架(31)，具有比上述掩模部高的刚性，并且形成为将上述多个掩模孔包围的框状。上述掩模部(32)在上述非接触面中具有将上述多个掩模孔包围的部分，在该部分通过接合部与掩模框架接合。