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公开(公告)号：CN117821896A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202311802064.9
申请日：2016-07-15
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 本发明提供能够将通过蒸镀形成的图案的构造上的精度的提高以及蒸镀用金属掩模的操作性的提高这两者兼顾的蒸镀用金属掩模以及蒸镀用金属掩模的制造方法。具备：掩模部(32)，具备用于与蒸镀对象接触的接触面以及与上述接触面相反侧的非接触面，形成为片形状，而且，该掩模部具有分别从位于上述接触面的第一开口贯通到位于上述非接触面的第二开口的多个掩模孔，上述第一开口的大小小于上述第二开口的大小；以及掩模框架(31)，具有比上述掩模部高的刚性，并且形成为将上述多个掩模孔包围的框状。上述掩模部(32)在上述非接触面中具有将上述多个掩模孔包围的部分，在该部分通过接合部与掩模框架接合。
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公开(公告)号：CN109440060A
公开(公告)日：2019-03-08
申请号：CN201811311762.8
申请日：2016-07-15
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 蒸镀用金属掩模基材(10)包括具备表面以及与上述表面相反侧的面即背面的含镍金属片(11)，上述表面以及上述背面的至少一方为抗蚀剂层所位于的对象面，上述对象面的表面粗糙度Sa为0.019μm以下，并且，上述对象面的表面粗糙度Sz为0.308μm以下。
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公开(公告)号：CN110117767A
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201910317040.1
申请日：2016-06-29
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 在具备表面以及与表面相反侧的面即背面的金属轧制片中，表面及背面的至少一方为处理对象。金属掩模用基材的制造方法为，通过用酸性蚀刻液将处理对象蚀刻3μm以上来使金属轧制片所具有的厚度变薄到10μm以下，并且，将处理对象粗糙化为具有0.2μm以上的表面粗糙度Rz的抗蚀剂用处理面，得到金属制的金属掩模用片。
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公开(公告)号：CN112981319A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202110185064.3
申请日：2018-09-13
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及蒸镀掩模、带玻璃基板的蒸镀掩模及带玻璃基板的掩模片材。蒸镀掩模具备：掩模部，由铁‑镍系合金形成，具备与蒸镀对象接触的接触面以及接触面的相反侧的非接触面，形成为片状，并且具有从位于非接触面的第一开口贯通至位于接触面的第二开口的多个掩模孔，第二开口的大小与第一开口的大小相比较小；及掩模框架，具备与非接触面焊接的焊接痕，并且与掩模部相比具有更高的刚性，形成为将多个掩模孔包围的框状，焊接痕是利用激光光线对掩模框架与掩模部进行焊接而形成的，该激光光线经过与掩模部的接触面接合的树脂层以及经由树脂层而与掩模部接合的玻璃基板对掩模部之中的与掩模框架相接的部分进行照射。
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公开(公告)号：CN110997970A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201880049314.7
申请日：2018-10-26
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 一种作为使用电镀形成的金属箔的蒸镀掩模用基材。金属箔为铁镍类合金制。包含第一面和作为与第一面相反的一侧的面的第二面。第一面具有第一面中的镍的质量相对于铁的质量与镍的质量的合计的百分率即第一镍质量比(质量％)。第二面具有第二面中的镍的质量相对于铁的质量与镍的质量的合计的百分率即第二镍质量比(质量％)。第一镍质量比(质量％)和第二镍质量比(质量％)之差的绝对值为质量差(质量％)。质量差除以蒸镀掩模用基材的厚度(μm)而得的值为标准值。标准值为0.05(质量％/μm)以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107429380A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201680013003.6
申请日：2016-06-29
Applicant: 凸版印刷株式会社
CPC classification number: B21B3/02 , B21B1/227 , B21B2261/04 , B32B15/015 , B32B15/04 , C23C14/042 , C23C16/042 , C23F1/28 , C23F1/40 , H01L51/0015
Abstract: 在具备表面以及与表面相反侧的面即背面的金属轧制片中，表面及背面的至少一方为处理对象。金属掩模用基材的制造方法为，通过用酸性蚀刻液将处理对象蚀刻3μm以上来使金属轧制片所具有的厚度变薄到10μm以下，并且，将处理对象粗糙化为具有0.2μm以上的表面粗糙度Rz的抗蚀剂用处理面，得到金属制的金属掩模用片。
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公开(公告)号：CN107406964A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680013004.0
申请日：2016-03-22
Applicant: 凸版印刷株式会社
CPC classification number: C23C14/042 , C23C14/024 , C23C14/028 , C23C14/085 , C23C14/12 , C23C14/225 , C23F1/02 , C23F1/14 , C23F1/44 , G01N21/55 , G03F7/0002 , H01L51/0011 , H01L51/5012 , H01L51/5271
Abstract: 本发明涉及金属掩模基材、金属掩模基材的管理方法、金属掩模以及金属掩模的制造方法。金属掩模基材具备构成为配置有抗蚀剂的金属制的表面，入射到表面的光的镜面反射的反射率为45.2％以上。
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公开(公告)号：CN112981319B
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202110185064.3
申请日：2018-09-13
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及蒸镀掩模、带玻璃基板的蒸镀掩模及带玻璃基板的掩模片材。蒸镀掩模具备：掩模部，由铁‑镍系合金形成，具备与蒸镀对象接触的接触面以及接触面的相反侧的非接触面，形成为片状，并且具有从位于非接触面的第一开口贯通至位于接触面的第二开口的多个掩模孔，第二开口的大小与第一开口的大小相比较小；及掩模框架，具备与非接触面焊接的焊接痕，并且与掩模部相比具有更高的刚性，形成为将多个掩模孔包围的框状，焊接痕是利用激光光线对掩模框架与掩模部进行焊接而形成的，该激光光线经过与掩模部的接触面接合的树脂层以及经由树脂层而与掩模部接合的玻璃基板对掩模部之中的与掩模框架相接的部分进行照射。
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公开(公告)号：CN113403574A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202110664955.7
申请日：2016-06-29
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及金属掩模用基材的制造方法、蒸镀用金属掩模的制造方法、金属掩模用基材及蒸镀用金属掩模。在具备表面以及与表面相反侧的面即背面的金属轧制片中，表面及背面的至少一方为处理对象。金属掩模用基材的制造方法为，通过用酸性蚀刻液将处理对象蚀刻3μm以上来使金属轧制片所具有的厚度变薄到10μm以下，并且，将处理对象粗糙化为具有0.2μm以上的表面粗糙度Rz的抗蚀剂用处理面，得到金属制的金属掩模用片。
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公开(公告)号：CN109440062B
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN201811389315.4
申请日：2016-03-22
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及金属掩模基材、金属掩模基材的管理方法、金属掩模以及金属掩模的制造方法。金属掩模基材具备构成为配置有抗蚀剂的金属制的表面，入射到表面的光的镜面反射的反射率为45.2％以上。
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