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公开(公告)号：CN107429380A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201680013003.6
申请日：2016-06-29
Applicant: 凸版印刷株式会社
CPC classification number: B21B3/02 , B21B1/227 , B21B2261/04 , B32B15/015 , B32B15/04 , C23C14/042 , C23C16/042 , C23F1/28 , C23F1/40 , H01L51/0015
Abstract: 在具备表面以及与表面相反侧的面即背面的金属轧制片中，表面及背面的至少一方为处理对象。金属掩模用基材的制造方法为，通过用酸性蚀刻液将处理对象蚀刻3μm以上来使金属轧制片所具有的厚度变薄到10μm以下，并且，将处理对象粗糙化为具有0.2μm以上的表面粗糙度Rz的抗蚀剂用处理面，得到金属制的金属掩模用片。
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公开(公告)号：CN107406964A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680013004.0
申请日：2016-03-22
Applicant: 凸版印刷株式会社
CPC classification number: C23C14/042 , C23C14/024 , C23C14/028 , C23C14/085 , C23C14/12 , C23C14/225 , C23F1/02 , C23F1/14 , C23F1/44 , G01N21/55 , G03F7/0002 , H01L51/0011 , H01L51/5012 , H01L51/5271
Abstract: 本发明涉及金属掩模基材、金属掩模基材的管理方法、金属掩模以及金属掩模的制造方法。金属掩模基材具备构成为配置有抗蚀剂的金属制的表面，入射到表面的光的镜面反射的反射率为45.2％以上。
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公开(公告)号：CN117821896A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202311802064.9
申请日：2016-07-15
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 本发明提供能够将通过蒸镀形成的图案的构造上的精度的提高以及蒸镀用金属掩模的操作性的提高这两者兼顾的蒸镀用金属掩模以及蒸镀用金属掩模的制造方法。具备：掩模部(32)，具备用于与蒸镀对象接触的接触面以及与上述接触面相反侧的非接触面，形成为片形状，而且，该掩模部具有分别从位于上述接触面的第一开口贯通到位于上述非接触面的第二开口的多个掩模孔，上述第一开口的大小小于上述第二开口的大小；以及掩模框架(31)，具有比上述掩模部高的刚性，并且形成为将上述多个掩模孔包围的框状。上述掩模部(32)在上述非接触面中具有将上述多个掩模孔包围的部分，在该部分通过接合部与掩模框架接合。
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公开(公告)号：CN109440060A
公开(公告)日：2019-03-08
申请号：CN201811311762.8
申请日：2016-07-15
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 蒸镀用金属掩模基材(10)包括具备表面以及与上述表面相反侧的面即背面的含镍金属片(11)，上述表面以及上述背面的至少一方为抗蚀剂层所位于的对象面，上述对象面的表面粗糙度Sa为0.019μm以下，并且，上述对象面的表面粗糙度Sz为0.308μm以下。
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公开(公告)号：CN110117767A
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201910317040.1
申请日：2016-06-29
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 在具备表面以及与表面相反侧的面即背面的金属轧制片中，表面及背面的至少一方为处理对象。金属掩模用基材的制造方法为，通过用酸性蚀刻液将处理对象蚀刻3μm以上来使金属轧制片所具有的厚度变薄到10μm以下，并且，将处理对象粗糙化为具有0.2μm以上的表面粗糙度Rz的抗蚀剂用处理面，得到金属制的金属掩模用片。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109440060B
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN201811311762.8
申请日：2016-07-15
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 蒸镀用金属掩模基材(10)包括具备表面以及与上述表面相反侧的面即背面的含镍金属片(11)，上述表面以及上述背面的至少一方为抗蚀剂层所位于的对象面，上述对象面的表面粗糙度Sa为0.019μm以下，并且，上述对象面的表面粗糙度Sz为0.308μm以下。
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公开(公告)号：CN109440062A
公开(公告)日：2019-03-08
申请号：CN201811389315.4
申请日：2016-03-22
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及金属掩模基材、金属掩模基材的管理方法、金属掩模以及金属掩模的制造方法。金属掩模基材具备构成为配置有抗蚀剂的金属制的表面，入射到表面的光的镜面反射的反射率为45.2％以上。
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公开(公告)号：CN107406963B
公开(公告)日：2018-11-20
申请号：CN201680012997.X
申请日：2016-07-15
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 蒸镀用金属掩模基材(10)包括具备表面以及与上述表面相反侧的面即背面的含镍金属片(11)，上述表面以及上述背面的至少一方为抗蚀剂层所位于的对象面，上述对象面的表面粗糙度Sa为0.019μm以下，并且，上述对象面的表面粗糙度Sz为0.308μm以下。
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公开(公告)号：CN107406963A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680012997.X
申请日：2016-07-15
Applicant: 凸版印刷株式会社
CPC classification number: C25B11/041 , C23C14/042 , C25C1/08 , C25C7/08 , C25D1/10 , C25D5/16 , C25D11/34 , H01L51/0011
Abstract: 蒸镀用金属掩模基材(10)包括具备表面以及与上述表面相反侧的面即背面的含镍金属片(11)，上述表面以及上述背面的至少一方为抗蚀剂层所位于的对象面，上述对象面的表面粗糙度Sa为0.019μm以下，并且，上述对象面的表面粗糙度Sz为0.308μm以下。
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公开(公告)号：CN113403574A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202110664955.7
申请日：2016-06-29
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及金属掩模用基材的制造方法、蒸镀用金属掩模的制造方法、金属掩模用基材及蒸镀用金属掩模。在具备表面以及与表面相反侧的面即背面的金属轧制片中，表面及背面的至少一方为处理对象。金属掩模用基材的制造方法为，通过用酸性蚀刻液将处理对象蚀刻3μm以上来使金属轧制片所具有的厚度变薄到10μm以下，并且，将处理对象粗糙化为具有0.2μm以上的表面粗糙度Rz的抗蚀剂用处理面，得到金属制的金属掩模用片。
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