半导体激光器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1495978A

    公开(公告)日:2004-05-12

    申请号:CN03164975.0

    申请日:2003-08-29

    Inventor: 渡边昌规

    Abstract: 本发明公开了一种半导体激光器件及其制造方法,该半导体激光器件具有电流注入区(A)和比电流注入区(A)更靠近各激光束发射端面的电流非注入区(B)。半导体激光器件具有形成在每个电流非注入区(B)中p型(AlpGa1-p)qIn1-qP(0≤p≤1,0≤q≤1)中间带隙层(106)表面上的氧化层(106A)、形成在电流注入区(A)中中间带隙层(106)上的p型GaAs顶部覆盖层(107)、以及形成在氧化层(106A)和p型GaAs顶部覆盖层(107)上的p型GaAs接触层(125)。

    氮化物半导体发光元件

    公开(公告)号:CN107924966B

    公开(公告)日:2020-12-22

    申请号:CN201580046876.2

    申请日:2015-08-31

    Abstract: 氮化物半导体发光元件(1)至少具备n型氮化物半导体层(8)、发光层(14)、p型氮化物半导体层(16)。n型氮化物半导体层(8)和发光层(14)之间,设置有具有1组以上的第一半导体层(121)和第二半导体层(122)的层叠结构的多层结构体。第二半导体层(122)的带隙能量比第一半导体层(121)的带隙能量大。第一半导体层(121)和第二半导体层(122)的各自的厚度大于10nm而在30nm以下。或者,在重视室温下的发光效率的用途中,第一半导体层(121)的厚度大于10nm而在30nm以下,第二半导体层(122)的厚度大于10nm而在40nm以下,发光层上形成有在其剖视时为V字形的凹部。

Patent Agency Ranking