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公开(公告)号：CN103348484B
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201280007738.X
申请日：2012-01-31
Applicant: 夏普株式会社
IPC: H01L29/786 , G02F1/1368 , H01L21/28 , H01L29/41 , H01L29/417
Abstract: 漏极电极（17）包括：以覆盖半导体层（14）的上表面的一部分的方式层叠的下层漏极电极（17a）和上层漏极电极（17b），半导体层（14）、下层漏极电极（17a）和上层漏极电极（17b）构成为台阶状，在构成为上述台阶状的部分，下层漏极电极（17a）的周边与上层漏极电极（17b）的周边的距离大于0.4μm且小于1.5μm。
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公开(公告)号：CN102834547A
公开(公告)日：2012-12-19
申请号：CN201180007492.1
申请日：2011-01-28
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社 , 夏普株式会社
IPC: C23F1/18 , C23F1/26 , H01L21/308 , H01L21/3205 , H01L21/3213 , H01L23/52
CPC classification number: H01L21/32134 , C23F1/18 , C23F1/26 , C23F1/44 , H01L23/53238 , H01L2924/0002 , H05K3/067 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供用于包括铜层和钛层的多层薄膜的蚀刻液和使用其的包括铜层和钛层的多层薄膜的蚀刻方法。一种用于包括铜层和钛层的多层薄膜的蚀刻液和使用其的蚀刻方法，该蚀刻液含有：(A)过氧化氢、(B)硝酸、(C)氟离子供给源、(D)唑类、(E)季铵氢氧化物和(F)过氧化氢稳定剂，且pH为1.5~2.5。
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公开(公告)号：CN110447309A
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201780088732.2
申请日：2017-03-30
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: EL设备的制造方法包含在母玻璃基板(50)上层压树脂层(12)、势垒层(3)、以及保护膜(11)的层压工序，层压工序包含粘接力强化层形成工序，即，沿着母玻璃基板(50)的端面形成用于强化势垒层(3)与保护膜(11)之间的粘接力的粘接力强化层(1)。
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公开(公告)号：CN103984166B
公开(公告)日：2017-08-25
申请号：CN201410222378.6
申请日：2008-08-04
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1345 , G02F1/1362 , G02F1/1368 , H01L27/12 , H01L21/84
CPC classification number: G02F1/1345 , H01L27/1244 , H01L27/1288
Abstract: 本发明涉及有源矩阵基板、有源矩阵基板的制造方法和液晶显示装置。本发明涉及用于液晶显示装置的有源矩阵基板和具备该有源矩阵基板的液晶显示装置。本发明的有源矩阵基板具备：基板；形成在基板上的栅极配线；和层间绝缘层，该层间绝缘层用于将形成在栅极配线上的其它层与栅极配线绝缘，在基板的一部分区域中，层间绝缘层不设置在栅极配线的上表面而使上表面露出，另一方面，在栅极配线的至少沿着长度方向的端面，层间绝缘层以与端面相接的方式设置在基板上。根据本发明，能够减少在有源矩阵基板的制造时和部件安装时的不良情况的产生，因此能够利用在追求低成本且高可靠性的液晶显示装置的制造中。
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公开(公告)号：CN103984166A
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201410222378.6
申请日：2008-08-04
Applicant: 夏普株式会社
IPC: G02F1/1345 , G02F1/1362 , G02F1/1368 , H01L27/12 , H01L21/84
CPC classification number: G02F1/1345 , H01L27/1244 , H01L27/1288
Abstract: 本发明涉及有源矩阵基板、有源矩阵基板的制造方法和液晶显示装置。本发明涉及用于液晶显示装置的有源矩阵基板和具备该有源矩阵基板的液晶显示装置。本发明的有源矩阵基板具备：基板；形成在基板上的栅极配线；和层间绝缘层，该层间绝缘层用于将形成在栅极配线上的其它层与栅极配线绝缘，在基板的一部分区域中，层间绝缘层不设置在栅极配线的上表面而使上表面露出，另一方面，在栅极配线的至少沿着长度方向的端面，层间绝缘层以与端面相接的方式设置在基板上。根据本发明，能够减少在有源矩阵基板的制造时和部件安装时的不良情况的产生，因此能够利用在追求低成本且高可靠性的液晶显示装置的制造中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103733727A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201280039897.8
申请日：2012-09-20
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L33/405 , H01L27/156 , H01L33/42 , H01L51/0023 , H01L2251/308 , H05B33/28
Abstract: 在a—ITO层(112)上形成IZO层(113)，至少在子像素(71R、71G)形成膜厚不同的抗蚀剂图案(202R、202G)，利用通过灰化实现的抗蚀剂图案(202R、202G)的薄膜化以及通过a—ITO层(112)向p—ITO层(114)的转化来实现的蚀刻耐性的变化，对a—ITO层(112)和IZO层(113)进行蚀刻。
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公开(公告)号：CN110476255A
公开(公告)日：2019-11-19
申请号：CN201780089175.6
申请日：2017-03-29
Applicant: 夏普株式会社
IPC: H01L29/786 , G02F1/1368
Abstract: 本发明是设置在显示装置(1)的像素电路中的半导体装置(10)，从下方向侧起依次包括基板(11)、LTPS层(135SLA)、第一栅极绝缘层(14)、第一金属层(145GA、145GB)、第一平坦化层(15)、第二栅极绝缘层(16)、氧化物半导体层(165SLB)半导体层、第二金属层(165SB、165DB)、钝化层(17)以及第三金属层(165CA)。LTPS-TFT(10A)的栅极电极(145GA)与氧化物半导体TFT(10B)的栅极电极(145GB)由第一金属层形成。
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公开(公告)号：CN110326363A
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201780086899.5
申请日：2017-02-24
Applicant: 夏普株式会社
Inventor： 田中哲宪
Abstract: 本发明提供一种OLED面板的制造方法，其在透光性基板的上表面侧形成包括树脂层(12)、TFT层(4)、OLED层(5)和具有有机密封膜(27)的密封层的层叠体后，向与上述透光性基板接触的树脂层照射激光而将上述透光性基板与上述层叠体分离，其中，上述树脂层包含被照射第一强度(P1)的激光的第一区域(X)和被照射比上述第一强度大的第二强度(P2)的激光的第二区域(Y)，上述第一区域与有机密封膜(27)重叠，上述第二区域与上述有机密封膜(27)不重叠。
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