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公开(公告)号：CN106232296B
公开(公告)日：2018-10-19
申请号：CN201580020884.X
申请日：2015-04-07
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/24
Abstract: 研磨垫(13)用于对具有凸状曲面部分(1a)的被研磨物(1)的所述凸状曲面部分进行研磨，其特征在于，在圆盘状且具有厚度的弹性体的侧表面配置有环状凹研磨部(13a)，一边以该圆盘的圆的中心为轴沿圆周方向驱动所述环状凹研磨部旋转，一边使所述环状凹研磨部与被研磨物的凸状曲面部分相接触，并且构成环状凹研磨部的弹性体的压缩0.1mm时的压缩应力为50gf/cm2～150gf/cm2的范围，且压缩应力的比(压缩0.5mm时的压缩应力/压缩0.1mm时的压缩应力)为5～30的范围。能够高精度地对被研磨物的所述凸状曲面部分进行抛光研磨。
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公开(公告)号：CN108068009A
公开(公告)日：2018-05-25
申请号：CN201710667432.1
申请日：2017-08-07
Applicant: 富士纺控股株式会社
Abstract: 本发明涉及研磨垫及其制造方法、以及研磨物的制造方法。本发明的目的在于提供研磨垫及其制造方法、以及使用了研磨垫的研磨物的制造方法，所述研磨垫能够确保对具有曲面的被研磨物进行研磨时的研磨面品质。本发明的课题是一种研磨垫，所述研磨垫具有基材和含浸于该基材中的树脂，所述基材具有配置有绒头的研磨面和连接所述绒头的一端的连接部，所述研磨垫至少满足下述条件：所述绒头来自于具有形成表面背面的表面背面纤维和连接所述表面背面的中间纤维的针织物中的所述中间纤维，所述针织物是以经编或纬编构成的针织物；所述连接部来自于所述表面背面纤维中的任一方。
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公开(公告)号：CN106232296A
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201580020884.X
申请日：2015-04-07
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/24
CPC classification number: B24B37/24
Abstract: 研磨垫(13)用于对具有凸状曲面部分(1a)的被研磨物(1)的所述凸状曲面部分进行研磨，其特征在于，在圆盘状且具有厚度的弹性体的侧表面配置有环状凹研磨部(13a)，一边以该圆盘的圆的中心为轴沿圆周方向驱动所述环状凹研磨部旋转，一边使所述环状凹研磨部与被研磨物的凸状曲面部分相接触，并且构成环状凹研磨部的弹性体的压缩0.1mm时的压缩应力为50gf/cm2～150gf/cm2的范围，且压缩应力的比(压缩0.5mm时的压缩应力/压缩0.1mm时的压缩应力)为5～30的范围。能够高精度地对被研磨物的所述凸状曲面部分进行抛光研磨。
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公开(公告)号：CN207289791U
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：CN201720319834.8
申请日：2017-03-29
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/11
Abstract: 本实用新型提供一种研磨刷，可以对工件的侧端部整体、尤其是厚度比较薄的侧端部的边缘部分及其内方侧区域也充分地进行研磨。根据本实用新型，研磨刷(10)是旋转的同时进行工件(W)的研磨的圆板状的研磨刷，具有大致圆形的板状基部(12)、以及从板状基部的外缘朝向径向外侧延伸并且在周向上离开地配置的多个研磨部(14)，在研磨部形成有不连续面(18)，所述不连续面(18)从研磨部的径向外端朝向径向内侧与研磨刷的表面平行地延伸并遍及研磨部的整个宽度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN206185715U
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201621197445.4
申请日：2016-11-04
Applicant: 富士纺控股株式会社
Abstract: 本实用新型提供一种研磨刷，可以防止研磨刷的研磨材料脱落，保持研磨浆料，并且可以均匀地使用所有的研磨材料。研磨刷(1)具有：圆板状的基体材料(3)、以及与该基体材料(3)一体地形成并从该基体材料(3)的外周朝向径向外侧延伸的多个研磨材料(5)。通过使基体材料(3)和研磨材料(5)一体地形成，可以防止研磨材料(5)脱落。而且，通过使如上所述构成的研磨刷(1)以基体材料(3)的中心为轴进行旋转而使研磨材料(5)与被研磨物接触来使用，从而可以均匀地使用在基体材料(3)的外周形成的所有的研磨材料。
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公开(公告)号：CN206869633U
公开(公告)日：2018-01-12
申请号：CN201590000935.8
申请日：2015-09-08
Applicant: 富士纺控股株式会社
Abstract: 提供一种在用于镜面精加工研磨时能够得到足够的研磨精度的研磨垫。研磨垫(1)是将研磨薄膜(9)贴附在圆板形状的中心基材(7)的外周面上而成的研磨垫，其特征在于，研磨薄膜(9)利用湿式成膜法形成。根据按这种方式构成的研磨垫(1)，能够得到在外周上贴附有利用湿式成膜法形成的研磨薄膜(9)的研磨垫。而且，通过使用利用湿式成膜法形成的研磨薄膜(9)进行精加工研磨，能够得到反射光的歪斜少、损伤少、且形状稳定的产品。
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公开(公告)号：CN205703717U
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201620586890.3
申请日：2016-06-16
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/11
Abstract: 本实用新型提供一种研磨刷，其对在表面上具有凹凸部的对象物也能适当地进行研磨。这种研磨刷是在研磨层的表面上具有由多个槽隔离的用于研磨被研磨物的表面的多个突起部的研磨刷，其中，上述槽的容积相对于研磨区域整体的体积是55～95％，进而，上述研磨刷的研磨层包含位于上述研磨刷的中心附近的第一区域和包围上述第一区域的第二区域，在上述第一区域中，从上述第一区域的上述研磨层的上述槽的底部到上述突起部的顶面具有第一高度，在上述第二区域中，从上述第二区域的上述研磨层的上述槽的底部到上述突起部的顶面具有第二高度，上述第一高度和上述第二高度不同。
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公开(公告)号：CN207480365U
公开(公告)日：2018-06-12
申请号：CN201721092683.3
申请日：2017-08-29
Applicant: 富士纺控股株式会社
Abstract: 本实用新型涉及研磨装置。解决的问题为提供适用于立体的被研磨物的研磨加工的研磨装置。本实用新型的研磨装置(1)具有：保持被研磨物(W)的俯视圆形的板状部件(10)，使板状部件旋转的旋转机构(20)，和隔着被研磨物而与板状部件相对配置的研磨垫(30)，旋转机构具有在板状部件的外周形成的第一齿部(11)，具有与第一齿部啮合的第二齿部(21a，22a)且在板状部件的侧方配置的齿轮(21，22)，和产生用于使齿轮旋转的旋转驱动力的驱动部，经由齿轮的第二齿部及第一齿部而将驱动部的旋转驱动力传递至板状部件，由此使板状部件旋转。在板状部件的一个面(10a)与被研磨物之间设置有具有规定厚度的保持垫(40)。
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公开(公告)号：CN206883425U
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201720728015.9
申请日：2017-06-21
Applicant: 富士纺控股株式会社
Abstract: 目的在于提供一种在不从水平方向与薄板状被研磨物的侧端部等凸状曲面部抵接的情况下不会施加过大的负荷的圆板状研磨垫。根据本实用新型，提供一种研磨垫，所述研磨垫是一边以中心轴线(A)为中心旋转一边对被研磨物(W)的侧端部进行研磨的圆板状研磨垫(1)，其具备遍及外周面整体地形成并向径向外侧开口的环状凹部(4)，环状凹部的横截面形状具有底边(6)、第一侧边(8)及第二侧边(10)，所述第一侧边及第二侧边分别从底边的两端到达环状凹部的各开口端部，第一侧边及第二侧边中的至少一方和底边为大致直线状，大致直线状的侧边向开口端，向圆板状研磨垫的轴线方向外侧相对于径向倾斜地延伸。
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