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公开(公告)号：CN108349062A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201680063033.8
申请日：2016-10-25
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/24 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/24 , H01L21/304
Abstract: 研磨材料，其具有以经编或纬编构成的针织物、和含浸于该针织物中的树脂。
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公开(公告)号：CN119013122A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202380028544.6
申请日：2023-03-23
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/24 , B24B37/013 , B24B49/12 , H01L21/304
Abstract: 研磨垫，其具有研磨层、和设置于该研磨层的开口的终点检测窗，在拉伸模式、频率1.6Hz、30～55℃、及浸水状态的条件下进行的动态粘弹性测定中，40℃时的前述终点检测窗的储能模量E’w40与40℃时的前述研磨层的储能模量E’p40之比(E’p40/E’w40)为0.70～3.00。
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公开(公告)号：CN115397614B
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN202180023262.8
申请日：2021-03-19
Applicant: 富士纺控股株式会社
Abstract: 提供能够减少抛光浆料向基材层的渗透且能够防止抛光性能降低的抛光单元。本发明的第一方面的抛光单元(10a)具备：具有抛光层(101)及基材层(103)的抛光垫(100a)、以及定盘(150)，其中，基材层(103)的直径小于抛光层(101)的直径且大于定盘(150)的直径。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115397614A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202180023262.8
申请日：2021-03-19
Applicant: 富士纺控股株式会社
Abstract: 提供能够减少抛光浆料向基材层的渗透且能够防止抛光性能降低的抛光单元。本发明的第一方面的抛光单元(10a)具备：具有抛光层(101)及基材层(103)的抛光垫(100a)、以及定盘(150)，其中，基材层(103)的直径小于抛光层(101)的直径且大于定盘(150)的直径。
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公开(公告)号：CN107000173B
公开(公告)日：2018-09-25
申请号：CN201580006144.0
申请日：2015-07-27
Applicant: 富士纺控股株式会社
Abstract: 一种研磨刷，该研磨刷(4)，其多个离开间隔的突起部(4b)和固定突起部(4b)的支承部(4a)由具有挠性的相同的材料一体地形成，进而突起部(4b)的侧面具有多个开孔，开孔率是10～70％。另外，突起部的高度(h)和该突起部的基部的在截面形状中的外接圆的半径(r)之比(h/r)是1.0～5.0的范围。由此，在研磨被研磨物(1)时，突起部的侧面能与被研磨物(1)压接，由保持在形成于突起部的侧面上的开孔中的料浆进行研磨。没有突起部(4b)的脱落，另外，能在突起部(4b)的侧面中良好地保持料浆地进行研磨。
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公开(公告)号：CN116323100A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202180064768.3
申请日：2021-09-29
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/24
Abstract: 本发明的目的在于，提供无需变更研磨层的物性、气泡结构就能够实现端部塌边的改善和/或台阶消除性能的提高的研磨垫。一种研磨垫，其具备：研磨层，该研磨层具有用于对被研磨物进行研磨加工的研磨面；以及缓冲层，该缓冲层配置于所述研磨层的与研磨面相反一侧，关于通过以弯曲模式利用于25℃的频散进行的动态粘弹性试验得到的、研磨垫整体的储能弹性模量E’和损耗弹性模量E”之比(tanδ)，以100～1000rad/s测得的tanδ的最大值(tanδmax100‑1000)相对于以1～10rad/s测得的tanδ的最大值(tanδmax1‑10)的比值为0.75～1.30。
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