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公开(公告)号:CN101981479A
公开(公告)日:2011-02-23
申请号:CN200980112502.0
申请日:2009-04-02
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3058 , G02F1/133536 , G02F2001/133548
Abstract: 本发明提供在可见光范围内对从正面侧入射的光显示出高偏振度、高p偏振光透射率和高s偏振光反射率,并且对从背面侧入射的光显示出低s偏振光反射率的线栅型偏振器及其制造方法。该线栅型偏振器(10)具有以间距(Pp)形成于透光性基板(14)的表面的凸条(12),凸条(12)的上表面(16)、第一侧面(18)、第二侧面(20)这共计3个面被金属细线(22)被覆,满足下述条件:(a)被覆第一侧面(18)的金属细线(22)的厚度Dm1和被覆第二侧面(20)的金属细线(22)的厚度Dm2在20以下;(b)被覆上表面(16)的金属细线(22)的厚度Hm和凸条(12)的高度Hp满足40nm≤Hm≤0.5×Hp;(c)Dm1、Dm2、Pp和凸条(12)的宽度Dp满足Dm1+Dm2≤0.4×(Pp-Dp)。
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公开(公告)号:CN101981478A
公开(公告)日:2011-02-23
申请号:CN200980112453.0
申请日:2009-04-06
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3058 , G02F1/133536 , G02F2001/133548
Abstract: 本发明提供可容易地制造在可见光范围内显示出高偏振光分离能力且提高了短波长范围的透射率的线栅型偏振器的方法。通过满足条件(A)~(F)的蒸镀法在表面形成有多条凸条(12)的透光性基板(14)上形成基底层(22)、第一金属细线(24)和第二金属细线(30)。(A)从成角度θL的方向对凸条(12)的上表面(16)和第一侧面(18)蒸镀基底层材料;(B)从与条件(A)相反的成角度θR的方向对第一基底层(22a)的上表面和第二侧面(20)蒸镀基底层材料;(C)θL、θR为60°~90°;(D)基底层(22)的高度Hma1为1~20nm;(E)对基底层(22)的上表面和沟(26)的底面(28)蒸镀金属或金属化合物;(F)第一金属细线(24)的高度Hma2和凸条的高度Hp满足40nm≤Hma2≤0.9×Hp。
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公开(公告)号:CN100540723C
公开(公告)日:2009-09-16
申请号:CN200480010952.6
申请日:2004-04-23
Abstract: 本发明提供一种制造氧化硅薄膜的方法,因而能以高沉积速率连续形成具有一致光学常数如折射率、吸收系数等的薄膜。该方法包括:使用包含碳化硅和硅的溅射靶,其C与Si的原子数比为0.5-0.95,在含氧化气体的气氛中,用频率为1-1,000kHz交流电进行AC溅射,在一基片上沉积氧化硅薄膜。
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公开(公告)号:CN102781659A
公开(公告)日:2012-11-14
申请号:CN201180012169.3
申请日:2011-03-02
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C23C14/024 , B05D3/144 , B05D7/54 , B05D2201/06 , C23C14/022 , C23C14/081 , H01L31/049 , Y02E10/50 , Y10T428/3154
Abstract: 提供耐候性、防潮性优异,层间的密合性及其长期稳定性也优异的层叠体及其制造方法。一种层叠体,其特征在于,按照含有氟树脂的基材板、含有丙烯酸树脂的密合层、以选自无机氧化物、无机氮化物和无机氮氧化物中的至少一种无机化合物为主成分的防潮层的顺序层叠而成,上述氟树脂板的与上述密合层相接的表面的表面组成(通过X射线光电子能谱分析测定)为:氮原子比率0.2原子%以上3.0原子%以下且氧原子比率1.0原子%以上5.0原子%以下。
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公开(公告)号:CN101981478B
公开(公告)日:2012-11-07
申请号:CN200980112453.0
申请日:2009-04-06
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3058 , G02F1/133536 , G02F2001/133548
Abstract: 本发明提供可容易地制造在可见光范围内显示出高偏振光分离能力且提高了短波长范围的透射率的线栅型偏振器的方法。通过满足条件(A)~(F)的蒸镀法在表面形成有多条凸条(12)的透光性基板(14)上形成基底层(22)、第一金属细线(24)和第二金属细线(30)。(A)从成角度θL的方向对凸条(12)的上表面(16)和第一侧面(18)蒸镀基底层材料;(B)从与条件(A)相反的成角度θR的方向对第一基底层(22a)的上表面和第二侧面(20)蒸镀基底层材料;(C)θL、θR为60°~90°;(D)基底层(22)的高度Hma1为1~20nm;(E)对基底层(22)的上表面和沟(26)的底面(28)蒸镀金属或金属化合物;(F)第一金属细线(24)的高度Hma2和凸条的高度Hp满足40nm≤Hma2≤0.9×Hp。
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公开(公告)号:CN102308234A
公开(公告)日:2012-01-04
申请号:CN201080006885.6
申请日:2010-02-04
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3058
Abstract: 本发明提供一种在可见光范围显示出较高偏光度、较高p偏振光透过率和较高s偏振光折射率并且光学特性的角度依赖性较低、波长依赖性较低的线栅型偏振片及其制造方法。该线栅型偏振片(10)包括透光性基板(14)和金属层(20),在该透光性基板(14)的表面上形成有多个宽度从底部朝向顶部逐渐变窄的凸条(12),该多个凸条(12)以隔着形成在凸条(12)之间的平坦部(13)相互平行并且隔开规定的间距(Pp)的方式形成在该透光性基板(14)的表面上,该金属层(20)覆盖凸条(12)的第1侧面(16)的整个表面及与该侧面相邻的平坦部(13)的一部分,并且该金属层(20)覆盖上述凸条(12)的第2侧面(18)的一部分或者不覆盖上述凸条(12)的第2侧面(18);该线栅型偏振片的制造方法如下,即,从与上述凸条(12)的长度方向大致正交且相对于上述凸条(12)的高度方向朝向第1侧面(16)侧形成25°~40°的角度的方向,在蒸镀量为40nm~60nm的条件下蒸镀金属或者金属化合物,从而形成该金属层(20)。
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公开(公告)号:CN102209628A
公开(公告)日:2011-10-05
申请号:CN200980145426.3
申请日:2009-11-10
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: H05K9/0096
Abstract: 本发明提供导电性(电磁波屏蔽性)良好、可见光透射率高、生产性良好的导电性层叠体及电磁波屏蔽性良好、透射·反射带宽、生产性良好的等离子显示器用保护板。所述导电性层叠体是包括基体和形成于基体上的导电膜的导电性层叠体,其特征在于,所述导电膜通过层叠n次(n为1~6的整数)层叠单元并进一步作为导电膜的最表层设置第1金属氧化物层而形成,该层叠单元是从基体侧开始依次配置了第1金属氧化物层、第2金属氧化物层及金属层的层叠单元,所述第1金属氧化物层是含有钛元素和M元素的氧化物层,所述M元素是选自原子量80以上的元素的1种以上的元素,在第1金属氧化物层中,相对于钛元素和M元素的合计量,M元素的含量为10~60原子%,所述第2金属氧化物层是以含锌元素的氧化物为主成分的层,所述金属层是以银为主成分的层,所述层叠单元中的第2金属氧化物层和金属层直接接合。
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公开(公告)号:CN102084275A
公开(公告)日:2011-06-01
申请号:CN200980126783.5
申请日:2009-07-09
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C23C14/225 , C23C14/024 , C23C14/205 , G02B5/3058
Abstract: 本发明提供在可见光范围内显示出高偏振光分离能力且提高了短波长范围的透射率的线栅型偏振器以及可容易地制造该线栅型偏振器的方法。该线栅型偏振器(10)包括:透光性基板(14),该透光性基板(14)的表面以相互平行且隔开规定的间距的方式形成有多条凸条(12);基底层(22),该基底层(22)至少存在于该凸条(12)的顶部,由金属氧化物形成;金属细线,该金属细线由位于该基底层(22)的表面上并且至少存在于凸条(12)的顶部的金属层(24)形成。
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公开(公告)号:CN1258616C
公开(公告)日:2006-06-07
申请号:CN02804597.1
申请日:2002-02-06
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C23C14/352 , C23C14/505 , C23C14/547 , C23C14/568 , G02B1/10 , H01J37/32779 , H01J37/3405
Abstract: 本发明的溅射装置及溅射成膜方法,是在腔室内设置基板保持架的转盘型溅射装置中,对于形成低折射率膜的应用及形成高折射率膜的应用可分别同时设置常用磁控管及AC磁控管,用AC磁控管成膜达到设计膜厚的90%,然后仅用常用的磁控管成膜,这样能够进行高精度的膜厚控制,生产率高。
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