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公开(公告)号：CN103181240A
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：CN201180050915.8
申请日：2011-10-21
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: H01L51/5275 , H01L51/0096 , H01L51/5215 , H01L51/5268 , H01L51/56 , H05B33/10 , H05B33/24 , Y02E10/549 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种有机EL元件，具有透明基板、第一电极、形成在该第一电极上的有机发光层和形成在该有机发光层上的第二电极，其特征在于，在所述透明基板上设置有具有包含玻璃的基材和分散在该基材中的散射物质的散射层，在所述散射层与所述第一电极之间设置有光提取辅助层，所述光提取辅助层由除玻璃以外的其他无机材料构成。
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公开(公告)号：CN100482849C
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：CN200380101764.X
申请日：2003-10-22
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G02B1/10 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/3414 , C23C16/401 , C23C16/505 , C23C28/04 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C28/42 , G02B1/116 , G02B1/16 , G02B5/285
Abstract: 采用导电性溅射材料并通过溅射法在基板上高速成膜由金属氧化物膜和二氧化硅膜构成的多层膜，提供松弛了膜应力的带多层膜的基板和制造上述低应力的带多层膜的基板的方法。它是在基板上1次或1次以上重复层叠至少金属氧化物膜和二氧化硅膜而形成的带多层膜的基板，其特征在于，该金属氧化物膜的至少一层是如下消除氧不足的金属氧化物膜，并且该多层膜的应力为-100MPa-+100MPa：采用比化学计量组分更缺氧的金属氧化物MOx作为靶材，进行溅射成膜所形成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1705766A
公开(公告)日：2005-12-07
申请号：CN200380101764.X
申请日：2003-10-22
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: G02B1/10 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/3414 , C23C16/401 , C23C16/505 , C23C28/04 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C28/42 , G02B1/116 , G02B1/16 , G02B5/285
Abstract: 采用导电性溅射材料并通过溅射法在基板上高速成膜由金属氧化物膜和二氧化硅膜构成的多层膜，提供松弛了膜应力的带多层膜的基板和制造上述低应力的带多层膜的基板的方法。它是在基板上1次或1次以上重复层叠至少金属氧化物膜和二氧化硅膜而形成的带多层膜的基板，其特征在于，该金属氧化物膜的至少一层是如下消除氧不足的金属氧化物膜，并且该多层膜的应力为－100Mpa—+100MPa：采用比化学计量组分更缺氧的金属氧化物MOx作为靶材，进行溅射成膜所形成。
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公开(公告)号：CN1258616C
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN02804597.1
申请日：2002-02-06
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C23C14/352 , C23C14/505 , C23C14/547 , C23C14/568 , G02B1/10 , H01J37/32779 , H01J37/3405
Abstract: 本发明的溅射装置及溅射成膜方法，是在腔室内设置基板保持架的转盘型溅射装置中，对于形成低折射率膜的应用及形成高折射率膜的应用可分别同时设置常用磁控管及AC磁控管，用AC磁控管成膜达到设计膜厚的90%，然后仅用常用的磁控管成膜，这样能够进行高精度的膜厚控制，生产率高。
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公开(公告)号：CN1491293A
公开(公告)日：2004-04-21
申请号：CN02804597.1
申请日：2002-02-06
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C23C14/352 , C23C14/505 , C23C14/547 , C23C14/568 , G02B1/10 , H01J37/32779 , H01J37/3405
Abstract: 本发明的溅射装置及溅射成膜方法，是在腔室内设置基板保持架的转盘型溅射装置中，对于形成低折射率膜的应用及形成高折射率膜的应用可分别同时设置常用磁控管及AC磁控管，用AC磁控管成膜达到设计膜厚的90％，然后仅用常用的磁控管成膜，这样能够进行高精度的膜厚控制，生产率高。
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公开(公告)号：CN105814003A
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：CN201480067813.0
申请日：2014-12-05
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: C03C17/3417 , C03C2217/734 , G02B1/115
Abstract: 本发明提供一种带防反射膜玻璃，其是具备具有第一以及第二表面的玻璃基板、和配置于上述玻璃基板的第一表面的第一层叠膜的带防反射膜玻璃；其特征在于，上述第一层叠膜从靠近上述玻璃基板的第一表面的一侧起具备第一层、第二层、以及最外层，上述第二层与上述第一层邻接配置，上述最外层由掺杂有氧化锆的二氧化硅构成，在上述最外层的正下方配置有不含有二氧化硅的层。
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公开(公告)号：CN100545301C
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200610059588.3
申请日：2002-02-06
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明的溅射装置及溅射成膜方法，是在腔室内设置基板保持架的转盘型溅射装置中，对于形成低折射率膜的应用及形成高折射率膜的应用可分别同时设置常用磁控管及AC磁控管，用AC磁控管成膜达到设计膜厚的90%，然后仅用常用的磁控管成膜，这样能够进行高精度的膜厚控制，生产率高。
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