线栅型偏振片及其制造方法

    公开(公告)号:CN102713697A

    公开(公告)日:2012-10-03

    申请号:CN201080045518.7

    申请日:2010-10-07

    CPC classification number: G02B5/3058

    Abstract: 本发明提供偏光度及p偏振光透过率较高、背面s偏振光反射率较低的线栅型偏振片及其制造方法。该线栅型偏振片(10)包括透光性基板(14)和第1金属层(20),在该透光性基板(14)上形成有多个从底部朝向顶部宽度逐渐变窄的凸条(12),该凸条(12)隔着形成在该凸条(12)之间的平坦部(13)相互平行且隔开规定的间距地形成在该透光性基板(14)的表面上,该第1金属层(20)由覆盖凸条(12)的侧面的金属构成,从凸条(12)的二分之一高度的位置至底部的覆盖厚度的最大值小于从凸条(12)的二分之一高度的位置至顶部(19)的覆盖厚度的最大值;该线栅型偏振片的制造方法如下:从与第1侧面(16)一侧形成满足的角度的方向蒸镀金属,接着从形成满足的角度的方向蒸镀金属,从而形成第1金属层(20)。

    溅射装置及溅射成膜方法

    公开(公告)号:CN100545301C

    公开(公告)日:2009-09-30

    申请号:CN200610059588.3

    申请日:2002-02-06

    Abstract: 本发明的溅射装置及溅射成膜方法,是在腔室内设置基板保持架的转盘型溅射装置中,对于形成低折射率膜的应用及形成高折射率膜的应用可分别同时设置常用磁控管及AC磁控管,用AC磁控管成膜达到设计膜厚的90%,然后仅用常用的磁控管成膜,这样能够进行高精度的膜厚控制,生产率高。

Patent Agency Ranking