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公开(公告)号：CN103934747A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201410027681.0
申请日：2014-01-21
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: B24B37/08
CPC classification number: B24B37/08 , B24B37/005
Abstract: 本发明涉及玻璃基板的研磨方法及制造方法、以及研磨装置。提供能够获得平行度优异的玻璃基板的玻璃基板的研磨方法以及研磨装置。玻璃基板的研磨方法的特征在于，基于使与研磨装置的平板的研磨面抵接的多个玻璃基板的位置变化的马达的电力或者电流的检测值，对上述玻璃基板的研磨条件进行控制，以使得在上述研磨面中研磨速度差变小。研磨装置具备：平板，该平板具有研磨面；保持件，该保持件能够保持要利用上述研磨面进行研磨的多个玻璃基板；马达，该马达使上述研磨面与上述保持件之间的相对位置变化；以及控制部，该控制部基于上述马达的电力或者电流的检测值对上述玻璃基板的研磨条件进行控制，以使得在上述研磨面中研磨速度差变小。
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公开(公告)号：CN103429383A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201280013296.X
申请日：2012-03-12
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: B24B7/24 , B24B37/10 , G02F1/1333
CPC classification number: B24B37/10 , B24B37/26 , G02F1/1303 , G02F2201/48
Abstract: 本发明涉及一种板状体的研磨方法，使板状体保持部件和研磨工具相对靠近，从而通过上述研磨工具研磨由上述板状体保持部件所保持的上述板状体，其中，上述板状体保持部件保持板状体的非研磨面，并且进行公转及自转的某一个动作，上述研磨工具在对上述板状体的研磨面进行研磨的面上具有沿着一个方向的多个槽，并且该研磨工具进行公转及自转的另一个动作，在所述板状体的研磨方法中，独立控制上述板状体保持部件及上述研磨工具的上述公转动作及上述自转动作，在上述板状体的研磨过程中，变更上述自转的角速度。
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公开(公告)号：CN103396763A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201310058694.X
申请日：2013-02-25
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明提供二氧化硅溶液制备方法、研磨液及玻璃基板的制造方法。一种二氧化硅溶液制备方法，其为将异物从含有一次粒径为1～80nm的二氧化硅粒子的二氧化硅溶液中除去的二氧化硅溶液制备方法，其中，对离心加速度G、沉降距离与沉降时间之比h/t和上述溶液的粘度η进行控制，以使被除去的异物的粒径Dp为0.1～1μm；一种研磨液，在磁记录介质用玻璃基板的主平面的研磨中使用，其中，含有通过使被除去的异物的粒径Dp为0.1～1μm的二氧化硅溶液制备方法制备的二氧化硅溶液；以及一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，具有使用该研磨液对主平面进行研磨的工序。
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公开(公告)号：CN105798767A
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：CN201610211050.3
申请日：2012-03-12
Applicant: 旭硝子株式会社
CPC classification number: B24B37/10 , B24B37/26 , G02F1/1303 , G02F2201/48
Abstract: 本发明涉及一种板状体的研磨方法及研磨装置，使板状体保持部件和研磨工具相对靠近，从而通过上述研磨工具研磨由上述板状体保持部件所保持的上述板状体，其中，上述板状体保持部件保持板状体的非研磨面，并且进行公转及自转的某一个动作，上述研磨工具在对上述板状体的研磨面进行研磨的面上具有沿着一个方向的多个槽，并且该研磨工具进行公转及自转的另一个动作，在所述板状体的研磨方法中，独立控制上述板状体保持部件及上述研磨工具的上述公转动作及上述自转动作，在上述板状体的研磨过程中，变更上述自转的角速度。
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公开(公告)号：CN103396763B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201310058694.X
申请日：2013-02-25
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明提供二氧化硅溶液制备方法、研磨液及玻璃基板的制造方法。一种二氧化硅溶液制备方法，其为将异物从含有一次粒径为1～80nm的二氧化硅粒子的二氧化硅溶液中除去的二氧化硅溶液制备方法，其中，对离心加速度G、沉降距离与沉降时间之比h/t和上述溶液的粘度η进行控制，以使被除去的异物的粒径Dp为0.1～1μm；一种研磨液，在磁记录介质用玻璃基板的主平面的研磨中使用，其中，含有通过使被除去的异物的粒径Dp为0.1～1μm的二氧化硅溶液制备方法制备的二氧化硅溶液；以及一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，具有使用该研磨液对主平面进行研磨的工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102019579B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201010287381.8
申请日：2010-09-17
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: B24B37/10 , B24B37/005
CPC classification number: G11B5/7315 , B24B37/005 , B24B37/042 , B24B37/08 , B24B49/10 , G11B5/8404 , Y10T428/24479
Abstract: 本发明提供一种玻璃基板的制造方法、研磨方法及研磨装置以及玻璃基板，能够提高玻璃基板的研磨精度。该研磨装置具备：驱动上平台(40)的电动机、驱动下平台(30)的电动机、驱动设于下平台(30)的内周的内侧的太阳齿轮的电动机、驱动设于下平台(30)的外周的外侧的内啮合齿轮的电动机、以及控制这些电动机的控制部(90)，控制部(90)通过控制这些电动机的驱动而对玻璃基板进行研磨，其特征在于，控制部(90)基于这些电动机的驱动所需的电力或者电力量调整玻璃基板的研磨。
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公开(公告)号：CN102019580B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201010287565.4
申请日：2010-09-17
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明提供一种使研磨品质稳定并使生产效率提高的玻璃板局部研磨装置、玻璃板局部研磨方法、玻璃制品的制造装置及玻璃制品的制造方法。在利用检测单元(4)检测出玻璃板(G)表面的缺陷后，将玻璃板(G)吸附固定到工作台(2)上，利用比玻璃板(G)的外形尺寸小的外形尺寸的研磨垫(34)对由检测单元(4)检测出的缺陷(D)的位置及其周围进行研磨，由此即使不进行整面研磨也能去除缺陷(D)。
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公开(公告)号：CN102672599A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210068484.4
申请日：2012-03-15
Applicant: 旭硝子株式会社
Abstract: 本发明涉及一种板状体的研磨装置，具有：板状体贴附部，其贴附板状体；板状体保持部，其保持所述板状体贴附部；及研磨件，其与所述板状体贴附部对向配置，对由所述板状体贴附部贴附的所述板状体的研磨面进行研磨，其中，所述板状体贴附部在所述研磨件的对向面具有平面部分，在该平面部分具备板状体的贴附部，所述平面部分由通过所述板状体保持部保持的板状部件构成，所述板状体的研磨装置具有加压流体供给单元，所述加压流体供给单元向所述板状部件和所述板状体保持部之间的空间供给加压流体。
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公开(公告)号：CN102407491A
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：CN201010293621.5
申请日：2010-09-26
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: B24B55/12
Abstract: 本发明提供一种研磨垫用修整部件及研磨垫的修整方法，所述修整部件能够高效率有效地对贴合多个小尺寸研磨垫而构成的研磨垫进行修整。修整部件的底板为矩形，电沉积金刚石磨粒而形成的磨粒固定部以在底板的对角线上朝向底板的中心变细的方式形成。使修整部件和研磨垫相对旋转的同时进行公转，将修整部件按压在研磨垫上，从而研磨垫与磨粒固定部的接触时间在研磨垫的整个面上是相等的，因此能够均匀地对研磨垫的整个面进行研磨。
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公开(公告)号：CN203003686U
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201220315924.7
申请日：2012-06-29
Applicant: 旭硝子株式会社
IPC: B24B57/00
CPC classification number: Y02P70/177
Abstract: 研磨剂回收设备10为从由研磨机20排出的研磨废液中回收研磨剂并再利用的装置。研磨废液回收装置30具有回收选择装置31、回收罐32及第一泵34。第一除去单元装置40具有利用离心力将回收罐32回收的研磨废液中包含的研磨剂与水及玻璃成分分离并生成包含研磨剂的第一研磨剂浓缩液的脱水·玻璃成分除去装置100。第二除去装置50具有利用比重差异将第一研磨剂浓缩液中包含的研磨剂与研磨时产生损伤的损伤因子(粗大离子)及异物连续地分离并生成将损伤因子及异物除去的第二研磨剂浓缩液的研磨损伤因子·异物除去装置200。
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