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公开(公告)号：CN111007016A
公开(公告)日：2020-04-14
申请号：CN201911248661.5
申请日：2019-12-09
Applicant: 暨南大学
Abstract: 一种检测透明材料表面微小颗粒杂质的装置，包括平行光路模块、偏振照明模块、待测样品和相衬成像模块和图像收集模块，所述待测样品设置于偏振照明模块内，所述相衬成像模块包括第一透镜、相位板、第二透镜和聚焦显微物镜，平行光路模块产生的光速通过偏振照明模块，随后依次通过第一透镜、相位板、第二透镜和聚焦显微物镜形成光斑传输至图像收集模块。
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公开(公告)号：CN110132169A
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201910430146.2
申请日：2019-05-22
Applicant: 暨南大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明公开了一种基于同轴干涉的波面测量系统，包括：马赫曾德双光束干涉光路、同轴干涉记录单元、二维移动平台、激光干涉仪单元及数据处理单元；待测光学元件设置在所述马赫曾德双光束干涉光路中，所述马赫曾德双光束干涉光路用于产生两束马赫曾德干涉光路，一路作为参考光，另一路作为测量光，其中测量光经过待测光学元件，所述同轴干涉记录单元设置在二维移动平台上，用于将两束马赫曾德干涉光路合路成同轴干涉信号，并记录同轴干涉信号的光强信息，本发明测量波面的尺寸和精度不再受限于分束镜的大小和表面质量，因此在大尺寸波面以及大尺寸光学元件面形测量中具有很好的应用前景。
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公开(公告)号：CN109343162A
公开(公告)日：2019-02-15
申请号：CN201811445709.7
申请日：2018-11-29
Applicant: 暨南大学
Abstract: 本发明涉及一种基于超透镜的激光直写装置及其激光直写方法。将超透镜置于直写基底之上，充分利用超透镜的超分辨成像，使得在超透镜的下表面及其近场范围内的距离可以形成高分辨的图像，缩小聚焦的光斑尺寸，从而提高刻写密度，能够实现高密度光栅的刻写。利用达曼光栅，可以一次直写多条光栅栅线，提高激光直写的直写并行度。本装置适用于刻写高密度、高精度的大尺寸衍射光学元件。
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公开(公告)号：CN115097558A
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN202210709648.0
申请日：2022-06-22
Applicant: 暨南大学
Abstract: 本发明公开一种基于高折射率材料的‑2级倾斜光栅，包括光波导层和光栅层，所述光波导层和光栅层采用折射率为1.71的树脂材料制成，所述光栅层倾斜设置。倾斜光栅的光栅周期为980～992纳米，占空比为0.74～0.76，光栅深度为1475～1490纳米，倾斜角为26～27°。TE偏振光垂直入射时，可以实现中心波长620纳米‑2级衍射效率高于80％。本发明还公开了一种基于高折射率材料的‑2级倾斜光栅在近眼显示设备上的应用，适用于AR、VR近眼显示设备，取材方便，加工简单，具有重要的实用前景。
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公开(公告)号：CN114442209A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202011209254.6
申请日：2020-11-03
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种适用于RGB波段高效率偏振无关的倾斜光栅，其中三原色的中心波长分别为：红光：620nm，绿光：526nm，蓝光：460nm。光栅层与基底层都为熔融石英，光栅的周期为：723～745纳米，脊宽为：460～494纳米，倾斜角：15～16.4度，光栅总深度为：1400～1440纳米，当TE偏振光或者TM偏振光垂直入射时，其‑1级透射率在RGB波段均超过80％，同时0级和1级透射光的衍射效率比较低，使得出射光的能量主要集中在‑1级上。本发明中倾斜光栅由电子束直写装置与微电子深刻蚀加工而成，结构简单，容差较大，制作方便，能够大规模制造，可适用于显示器中成像显示技术，具有重要的使用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110057543A
公开(公告)日：2019-07-26
申请号：CN201910331365.5
申请日：2019-04-24
Applicant: 暨南大学
IPC: G01M11/00
Abstract: 本发明公开了一种基于同轴干涉的波面测量装置，包括用于产生干涉条纹场的马赫曾德双光束干涉系统、用于产生同轴干涉的合束元件、采集干涉信号的光探测器、以及用于扫描双光束干涉场的二维移动台和测量位移的激光干涉仪系统。其特点是在传统的马赫曾德双光束干涉仪中引入小尺寸合束元件，使两束相干光产生同轴干涉，通过二维扫描测量该干涉信号的周期变化，实现对马赫曾德双光束干涉场周期的高精度测量，从而推算出双光束波面的分布情况。利用小尺寸合束元件的扫描测量，该发明可以实现大尺寸波面的测量，而不需要相应尺寸的合束元件或参考波面。
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公开(公告)号：CN109283805A
公开(公告)日：2019-01-29
申请号：CN201811444399.7
申请日：2018-11-29
Applicant: 暨南大学
Abstract: 本发明涉及一种基于达曼光栅激光直写装置。将STED超分辨引入到达曼光栅激光直写光路部分，充分利用STED超分辨成像，将激发光和损耗光的两种空间分布的光斑进行重叠，重叠区域荧光被猝灭，因此只有中心区域很小范围内才能够辐射荧光，实现了超分辨成像，可以产生一个更小的聚焦光斑，从而提高刻写密度，能够实现高密度光栅的刻写。在此基础上利用达曼光栅，可以一次直写多条光栅栅线，提高激光直写的直写并行度。本装置适用于刻写高密度、高精度的大尺寸衍射光学元件。
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公开(公告)号：CN114609714A
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202210190096.7
申请日：2022-02-24
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种正入射条件下基于RGB三色波段偏振无关的透射式倾斜多层二维阵列光栅，单个周期的光栅结构由上至下为由SiO2介质材料、MgF2介质材料构成二维结构介质光栅层、SiO2基底层。位于光栅顶层的二维结构介质光栅层为对称排放的带有单方向倾斜的倾斜长方体结构阵列，其中长方体的长和宽相等。本发明公开的偏振无关的透射式倾斜多层二维光栅可以使得TE和TM两种偏振模式的入射光以正入射条件入射时，透射能量主要集中于(0,‑1)阶透射级次。本发明适用于基于RGB三基色(430～700纳米)波段的高效率偏振无关斜双层光栅，实现对偏振无关入射光的高效率衍射，同时制作容宽大，方便制作。
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公开(公告)号：CN112987511A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202110253890.7
申请日：2021-03-09
Applicant: 暨南大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种基于超透镜阵列的激光并行直写装置及方法，将超透镜阵列置于直写光路中，充分利用超透镜的超分辨成像，使得在超透镜的下表面及其近场范围内的距离可以形成高分辨的图像，缩小聚焦的光斑尺寸，从而提高刻写密度，能够实现高密度光栅的刻写。利用超透镜阵列，可以形成多点光斑，即一次直写多条光栅栅线，提高激光直写装置的直写并行度。本发明适用于刻写高密度、高精度的大尺寸衍射光学元件。
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公开(公告)号：CN112034545A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN202011045243.9
申请日：2020-09-29
Applicant: 暨南大学
Abstract: 本发明公开了一种二维孔洞阵列光栅及光栅尺位移测量系统，该光栅由上至下由顶层Ta2O5介质材料构成二维圆形孔洞结构光栅层、SiO2介质缓冲层、Ag金属层和基底构成光栅结构；所述的顶层二维结构介质光栅层为对称排放的二维圆柱形孔洞或圆台孔洞型阵列结构。本发明的偏振无关多层金属介质二维孔洞阵列光栅可以使TE和TM两种偏振模式的入射光以利特罗角(Littrow)入射时，(-1，0)级反射衍射效率在中心波长780纳米波长高于98％，且两个偏振态之间的效率差异小于0.3％，衍射效率平衡达到99.74％，实现对偏振无关入射光的高效率衍射，同时制作容宽大，方便制作。
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