等离子体处理设备
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101258786B

    公开(公告)日:2012-08-29

    申请号:CN200680032251.1

    申请日:2006-09-01

    CPC classification number: H01J37/321

    Abstract: 实现了均匀性出色的等离子体掺杂。当预定气体从气体供应设备引入真空容器时,该真空容器通过排气孔藉由作为排气装置的涡轮分子泵被排气,且通过压力调节阀在真空容器内维持预定压力。通过将13.56MHz的高频功率从高频电源供应到置为与样品电极对立的介电质窗口附近的线圈,由此在真空容器内产生感应耦合等离子体。介电质窗口是由多个介电质板组成,且槽形成于相互对立的至少两个介电质板的至少一侧内。气体通道由该槽和其对立的平坦表面形成,且设置于最靠近样品电极的介电质板内的气体排出口被允许连通介电质窗口内的槽。从气体排出口引入的气体的流速可以独立地被控制,且处理的均匀性可以提高。

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