非易失性半导体存储装置及其读出方法

    公开(公告)号:CN103003884B

    公开(公告)日:2015-04-01

    申请号:CN201280001452.0

    申请日:2012-07-11

    Abstract: 本发明提供一种交叉点型非易失性存储装置,能够抑制由于潜行电流而引起的存储单元中包含的存储元件的电阻值的检测灵敏度低下。交叉点型非易失性存储装置具有:多个位线,与多个字线垂直;由存储单元构成的交叉点单元阵列(1),根据在其立体交差点配置的电信号以可逆的方式在2个以上的状态下使电阻值变化;偏移检测单元阵列(2E),构成为包括偏移检测单元,该偏移检测单元的字线共通,具有比存储单元的高电阻状态下的电阻值高的电阻值;读出电路(读出放大器(7)等),利用在交叉点单元阵列(1)的选择位线中流过的电流判别选择存储单元的电阻状态;以及电流源(6),在读出动作的期间内,对偏移检测单元阵列供给电流。

    交叉点型非易失性存储装置及其成形方法

    公开(公告)号:CN103339682A

    公开(公告)日:2013-10-02

    申请号:CN201280007370.7

    申请日:2012-11-13

    Abstract: 读出放大器电路(7)具有潜行电流补偿用负载电流供给部(8),对由列选择电路(6)所选择的位线(4)选择性地切换电流量不同的负载电流并供给,在流入列选择电路(6)所选择的位线(4)的电流量比标准电流量多的情况下,输出‘L’电平,在比标准电流量少的情况下,输出‘H’电平。控制电路(18)在选择了规定的存储器单元(2)的状态下,在对规定的存储器单元(2)施加成形之前,按照如下方式控制写入电路(15):将负载电流的电流量调整为使读出放大器电路(7)的输出为‘H’电平的规定的电流量之后,供给规定的电流量的负载电流,并且对规定的存储器单元(2)施加成形脉冲直到读出放大器电路(7)的输出变为‘L’电平为止。

    电阻变化型非易失性存储装置及其写入方法

    公开(公告)号:CN103229244A

    公开(公告)日:2013-07-31

    申请号:CN201280003856.3

    申请日:2012-11-26

    Abstract: 本发明提供一种在用于写入速度改善的多比特同时写入中,实现减少存储单元的位置的偏差的写入的电阻变化型非易失性存储装置。该电阻变化型非易失性存储装置具有:多个位线、多个字线、多个存储单元、第一写入电路(例如,写入电路(60-0))、第二写入电路(例如,写入电路(60-k-1))、第一选择电路(例如,选择电路(S0_0))、第二选择电路(例如,选择电路(S0_k-1))、以及第一字线驱动电路(字线驱动电路(40-1));其中,构成第一选择电路(例如,构成选择电路(S0_0)的NMOS晶体管(TS0_0_0~TS0_0_m-1))导通电阻值比第二选择电路(例如,构成选择电路(S0_k-1)的NMOS晶体管(TS0_k-1_0~TS0_k-1_m-1))的导通电阻值大。

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