曝光方法及装置、以及元件制造方法

    公开(公告)号:CN102890431B

    公开(公告)日:2015-09-09

    申请号:CN201210359535.9

    申请日:2008-11-17

    Inventor: 奈良圭

    CPC classification number: G03F7/70791 G03F7/70275

    Abstract: 基板的曝光方法,包含:图案配置步骤,对分别具有放大倍率、并排的复数个投影光学系统,配置于既定方向具有大于将该投影光学系统的曝光宽度除以该放大倍率所得的宽度、小于该投影光学系统的配置间隔的区域宽度的图案区域;以及曝光步骤,将以该投影光学系统形成的第1图案的投影像、以及第2图案的投影像依序转印至基板上,该第1图案设在各该图案区域的第1部分图案区域,该第2图案则设在相对该第1部分图案区域、至少部分区域在该图案区域内于该既定方向相异的第2部分图案区域。如此,能抑制图案投影像的接合误差的产生,提升图案全体的投影像的转印精度。

    显示器件的缺陷检测方法及显示器件的缺陷检测装置

    公开(公告)号:CN101861516B

    公开(公告)日:2013-09-11

    申请号:CN200880110250.3

    申请日:2008-09-26

    Abstract: 本发明提供一种显示器件(50)的缺陷检测方法及显示器件的缺陷检测装置,可以判定是能够在修理线中修正的缺陷还是必须停止生产线的缺陷。显示器件的缺陷检测方法具备:对显示器件的每个局部区域计测特征量(P32),基于计测出的区域的特征量计数判定为缺陷区域的区域的缺陷计数步骤(P36);在缺陷计数步骤中缺陷数大于第一阈值的情况下,停止显示器件的生产线的步骤(P38、P42);在缺陷计数步骤中缺陷数小于第一阈值的情况下,计算给定面积内的缺陷密度的缺陷密度计算步骤(P38);在缺陷密度计算步骤中缺陷密度大于第二阈值的情况下,停止显示器件的生产线的步骤(P40、P42)。

    基板处理装置
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102835189A

    公开(公告)日:2012-12-19

    申请号:CN201180018300.7

    申请日:2011-04-11

    CPC classification number: B65H23/32 B65H2301/517

    Abstract: 基板处理装置,具备:基板供应部,在使形成为带状的基板的短边方向竖立的状态下供应基板;基板处理部,具有搬送部及多个处理部,该搬送部,将从该基板供应部供应的基板在竖立状态下搬送,该多个处理部,是沿着该搬送部的基板的搬送路径配置,对竖立状态的基板的被处理面进行处理;以及基板回收部,将在该基板处理部进行处理后的基板在竖立状态下回收。

    基板处理装置
    25.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111781806B

    公开(公告)日:2023-06-16

    申请号:CN202010741934.6

    申请日:2016-10-26

    Abstract: 曝光装置EX,一边将长条的基板P搬送于长边方向,一边于基板P上形成既定图案,其具备:圆筒卷筒DR,支承基板P;作为第1支承构件的本体框架21及第1光学平台23轴支圆筒卷筒DR;描绘装置11,隔着基板P与旋转卷筒DR对向配置,于基板P上形成图案;作为第2支承构件的第2光学平台25保持描绘装置11;旋转机构24,将第1光学平台23与第2光学平台25能旋转地连结;标尺部GPa,GPb,用以测量圆筒卷筒DR的位置变化;以及编码器读头EN1,EN2,检测标尺部GPa,GPb的刻度。

    基板处理装置
    26.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114229474A

    公开(公告)日:2022-03-25

    申请号:CN202210005576.1

    申请日:2017-08-07

    Abstract: 一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置,且设置有:处理机构,其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理;搬送机构,其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力,一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送;卡留机构,其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置,且能够将片状基板卡留于既定位置;以及控制装置,其于暂时停止片状基板的搬送的情形时,以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构,并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。

    基板处理装置、元件制造系统及元件制造方法

    公开(公告)号:CN107209461B

    公开(公告)日:2019-10-18

    申请号:CN201680006570.9

    申请日:2016-02-26

    Abstract: 一种基板处理装置,具备:旋转圆筒DR,以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送;描绘装置11,具有多个描绘模块UW1~UW5,将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上,以通过多个描绘模块UW1~UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式,将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔;调整机构24,调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜;以及旋转位置检测机构,检测出基板P的搬送速度;根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度,通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。

    基板处理方法
    29.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107255913B

    公开(公告)日:2019-10-11

    申请号:CN201710536605.6

    申请日:2015-03-31

    Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式,沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息,并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。

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