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公开(公告)号：CN107614745A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680029641.7
申请日：2016-04-20
Applicant: 株式会社钢臂功科研
Inventor： 高木胜寿
Abstract: 本发明是一种溅射靶材，其包含含有0.1原子％～3原子％的Nd的铝合金，X射线衍射峰值强度满足下述式(1)的关系，维氏硬度为29～36；IAl(200)＞IAl(311)＞IAl(220)＞IAl(111)…(1)式中，IAl(200)表示Al(200)面的X射线衍射峰值强度，IAl(311)表示Al(311)面的X射线衍射峰值强度，IAl(220)表示Al(220)面的X射线衍射峰值强度，IAl(111)表示Al(111)面的X射线衍射峰值强度。
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公开(公告)号：CN101376962B
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN200810145432.6
申请日：2008-08-05
Applicant: 株式会社钢臂功科研
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F3/15 , C22C5/06 , G11B7/259
Abstract: 本发明提供一种能够在膜面方向(膜面内)稳定地形成成分均匀性优异的薄膜的Ag-Ta-Cu合金溅射靶。该溅射靶由Ta含量为0.6～10.5原子％、Cu含量为2～13原子％的Ag基合金构成，对溅射靶的溅射面进行图像分析时，(1)相对于Ta粒子的整个面积，当量圆直径为10～50μm的Ta粒子的合计面积为60面积％以上，且，Ta粒子的平均重心间距离为10～50μm；(2)相对于Cu粒子的整个面积，当量圆直径为10μm～50μm的Cu粒子的合计面积为70面积％以上，且，Cu粒子的平均重心间距离为60μm～120μm。
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公开(公告)号：CN1238554C
公开(公告)日：2006-01-25
申请号：CN03800885.8
申请日：2003-06-23
Applicant: 株式会社钢臂功科研
CPC classification number: C23C14/3414 , C22C5/06 , C22C5/08
Abstract: 一种银合金溅射靶及其制造方法，该银合金溅射靶，特别有利于由溅射法形成膜厚分布均匀的银合金薄膜，由X射线衍射法求出任意4个位置的结晶取向强度时，4个测定位置的表示最高结晶取向强度(Xa)的方位相同，且在各测定位置最高结晶取向强度(Xa)与第二高的结晶取向强度(Xb)的强度比(Xb/Xa)的偏差在20%以下的银合金溅射靶。
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公开(公告)号：CN1545569A
公开(公告)日：2004-11-10
申请号：CN03800885.8
申请日：2003-06-23
Applicant: 株式会社钢臂功科研
CPC classification number: C23C14/3414 , C22C5/06 , C22C5/08
Abstract: 一种银合金溅射靶及其制造方法，该银合金溅射靶，特别有利于由溅射法形成膜厚分布均匀的银合金薄膜，由X射线衍射法求出任意4个位置的结晶取向强度时，4个测定位置的表示最高结晶取向强度(Xa)的方位相同，且在各测定位置最高结晶取向强度(Xa)与第二高的结晶取向强度(Xb)的强度比(Xb/Xa)的偏差在20％以下的银合金溅射靶。
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公开(公告)号：CN107636194A
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201680031260.2
申请日：2016-05-02
Applicant: 株式会社钢臂功科研
IPC: C23C14/34 , H01L21/203
CPC classification number: C23C14/34 , H01L21/203
Abstract: 本发明为一种溅射靶材组装体，其含有多个载置部，所述多个载置部是配置于底板上，且彼此空开间隔而配置，在各载置部上经由接合材料而配置有一个以上的溅射靶材构件，并且在相邻的所述载置部之间的间隙部中具有Ni基材料的涂层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101376962A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200810145432.6
申请日：2008-08-05
Applicant: 株式会社钢臂功科研
CPC classification number: C23C14/3414 , B22F3/15 , C22C5/06 , G11B7/259
Abstract: 本发明提供一种能够在膜面方向(膜面内)稳定地形成成分均匀性优异的薄膜的Ag－Ta－Cu合金溅射靶。该溅射靶由Ta含量为0.6～10.5原子％、Cu含量为2～13原子％的Ag基合金构成，对溅射靶的溅射面进行图像分析时，(1)相对于Ta粒子的整个面积，当量圆直径为10～50μm的Ta粒子的合计面积为60面积％以上，且，Ta粒子的平均重心间距离为10～50μm；(2)相对于Cu粒子的整个面积，当量圆直径为10μm～50μm的Cu粒子的合计面积为70面积％以上，且，Cu粒子的平均重心间距离为60μm～120μm。
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公开(公告)号：CN110205591A
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：CN201910619403.7
申请日：2016-04-20
Applicant: 株式会社钢臂功科研
Inventor： 高木胜寿
Abstract: 本发明是一种铝合金溅射靶材，其包含含有0.1原子％～3原子％的Nd的铝合金，X射线衍射峰值强度满足下述式(1)的关系，维氏硬度为29～36；IAl(200)＞IAl(311)＞IAl(220)＞IAl(111)…(1)式中，IAl(200)表示Al(200)面的X射线衍射峰值强度，IAl(311)表示Al(311)面的X射线衍射峰值强度，IAl(220)表示Al(220)面的X射线衍射峰值强度，IAl(111)表示Al(111)面的X射线衍射峰值强度。
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公开(公告)号：CN107614745B
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201680029641.7
申请日：2016-04-20
Applicant: 株式会社钢臂功科研
Inventor： 高木胜寿
Abstract: 本发明是一种铝合金溅射靶材，其包含含有0.1原子％～3原子％的Nd的铝合金，X射线衍射峰值强度满足下述式(1)的关系，维氏硬度为29～36；IAl(200)＞IAl(311)＞IAl(220)＞IAl(111)…(1)式中，IAl(200)表示Al(200)面的X射线衍射峰值强度，IAl(311)表示Al(311)面的X射线衍射峰值强度，IAl(220)表示Al(220)面的X射线衍射峰值强度，IAl(111)表示Al(111)面的X射线衍射峰值强度。
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公开(公告)号：CN102498233A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201080041069.9
申请日：2010-09-15
Applicant: 株式会社钢臂功科研
CPC classification number: G11B7/266 , C23C14/3414 , G11B2007/24302 , G11B2007/2432
Abstract: 提供一种对于含有金属氧化物和金属的光信息记录媒体用记录层等的形成有用的金属氧化物-金属复合溅射靶。本发明的溅射靶是含有金属氧化物A和金属B的金属氧化物-金属复合溅射靶，所述金属氧化物A的当量圆直径的最大值控制在200μm以下。
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公开(公告)号：CN100339900C
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：CN200410090068.X
申请日：2004-11-01
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: G11B7/258 , C23C14/14 , C23C14/3414 , G11B7/2585
Abstract: 本发明提供(1)光信息记录用铝合金反射膜，以Al为主成分，含有1.0～10.0原子数量%的稀土类元素中的至少1种，此外，含有0.5～5.0原子数量%的Cr、Ta、Ti、Mo、V、W、Zr、Hf、Nb、Ni中的至少1种，(2)在上述铝合金反射膜中，含有1.0～5.0原子数量%的Fe、Co中的至少1种，或含有1.0～10.0原子数量%的In、Zn、Ge、Cu、Li中的至少1种，(3)光信息记录介质，具有上述铝合金反射膜，(4)所述铝合金构成的溅射靶材。根据本发明可以实现具有低导热率、低熔化温度、高耐腐蚀性的与激光标记对应的光信息记录用铝合金反射膜及其形成用溅射靶材、光信息记录介质。
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