抛光后的磁盘清洁处理
    31.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102310065B

    公开(公告)日:2015-07-15

    申请号:CN201110187642.3

    申请日:2011-06-29

    CPC classification number: B08B1/04 B08B3/08 G11B5/82 G11B5/8404

    Abstract: 本发明提供一种清洁用于硬盘驱动器介质中的电镀抛光磁盘的方法。该方法包括将多个电镀抛光磁盘定位在包括多个第一刷子的第一批处理刷洗器中,其中多个电镀抛光磁盘的每个定位在第一刷子的两个之间;以及用第一刷子刷洗所述多个电镀抛光磁盘。该方法还包括将在第一批处理刷洗器中刷洗的多个电镀抛光磁盘定位在包括多个第二刷子的第二批处理刷洗器中,其中所述多个电镀抛光磁盘的每个定位在第二刷子的两个之间;以及用第二刷子刷洗所述多个电镀抛光磁盘。

    包括双盘片夹具的旋转架

    公开(公告)号:CN102270478A

    公开(公告)日:2011-12-07

    申请号:CN201110057859.2

    申请日:2011-03-04

    Inventor: T·A·欧戴尔

    CPC classification number: G11B17/04

    Abstract: 公开了一种包括双盘片夹具的旋转架。本发明公开一种包括具有转子的主轴马达的旋转架。第一盘片夹具可操作用于将第一盘片夹持到转子,并且第二盘片夹具可操作用于将第二盘片夹持到转子。致动器可操作用于夹持第二盘片夹具以在第一盘片被夹持到转子之后将第二盘片夹持到转子。

    用于热辅助磁记录介质的铱下层

    公开(公告)号:CN106024028B

    公开(公告)日:2019-04-12

    申请号:CN201610206138.6

    申请日:2016-03-31

    Abstract: 本发明涉及一种用于热辅助磁记录介质的铱下层。本申请提供了一种热辅助磁记录(HAMR)介质堆栈,其中基于铱(Ir)的材料可以被利用为次级的下层代替被利用在传统的介质堆栈中的氧化镁(MgO)下层。这样的基于铱的材料可以包括,例如,纯铱、基于铱的合金、基于铱的化合物、以及具有分离子的颗粒状的铱层。将铱或者基于铱的材料用作下层,提供了优于使用MgO作为下层的优势。例如,直流(DC)溅射能够被用于沉积介质堆栈层,其中Ir的沉积率明显高于MgO的沉积率,导致较高的制造产量。更进一步地,较小的粒子在基于铱层的沉积过程中被生成,并且基于铱的下层能够作为更好的散热器。更进一步地,沉积在基于铱层上的记录层的晶体形态和结构能够被更好地控制。

    用于校准盘抛光机的测力传感器的系统和方法

    公开(公告)号:CN105764651A

    公开(公告)日:2016-07-13

    申请号:CN201480051817.X

    申请日:2014-09-25

    Inventor: J·赵

    CPC classification number: G01L25/00 G01G21/26

    Abstract: 本申请提供用于执行设置在盘抛光机内的测力传感器的原地测试的系统和方法。一种此类系统包括附接至盘抛光机的部件的测力传感器托架,其中,所述测力传感器安装在所述测力传感器托架内并具有力测量表面。所述测力传感器托架可以经取向,使得所述力测量表面面向与重力方向大约相反的方向。所述系统还可以包括预选砝码和砝码支架,所述砝码支架经构造容纳预选砝码、安装至所述测力传感器托架并与所述测力传感器对齐。所述预选砝码可以放置在所述砝码支架内和所述测力传感器的力测量表面上。根据需要,可以测试、校准和/或替换所述测力传感器。

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