一种晶片托盘
    32.
    实用新型

    公开(公告)号:CN202796894U

    公开(公告)日:2013-03-13

    申请号:CN201220320302.3

    申请日:2012-07-04

    Abstract: 本实用新型公开了一种晶片托盘,可连续运用于晶片的生产和清洗工序。本实用新型包含托盘本体,托盘本体包含一上表面和一下表面,上表面包含晶片槽、流通孔、晶片支撑架、晶片取放槽、编码数字、小连接槽,下表面包含连接柱,上表面设有一个以上凹形的晶片槽,晶片槽内壁设有三条以上的晶片支撑架,晶片槽底部设有一个以上流通孔,晶片槽周边处设有一个以上晶片取放槽。本实用新型的晶片托盘在整套生产流程只需要发放晶片的操作员记录晶片编号,后续程序只需记录晶片对应的编码数字,达到晶片便于统筹管理,便于取放,便于计数的目的。

    一种气相外延设备进行材料生长的控制系统

    公开(公告)号:CN202717874U

    公开(公告)日:2013-02-06

    申请号:CN201220221883.5

    申请日:2012-05-16

    Abstract: 本实用新型公开了一种气相外延设备进行材料生长的控制系统,属于半导体技术领域。本系统包括一工控机和一可编程控制器,所述工控机通过工业通信总线分别与气相外延设备的可编程控制器、气体流量计、和/或压力控制器、和/或加热器、和/或转动盘连接。设置多个温区加热器进行动态补偿衬底温度。在气动阀控制方面取消逐个控制,设置联动自动控制开关,根据各路源气的设定值,联动打开气动阀和设定MFC。在压力控制方面,增加限制蝶阀角度控制,控制范围在大于5°小于40°之间,达到压力平稳控制和保证气体一直往下流。在材料生长控制方面,除了能实现自动运行菜单外,创造实行跳步生长、无缝更新菜单和中途指定步生长。

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