公开(公告)号：CN103159250A

公开(公告)日：2013-06-19

申请号：CN201210553192.X

申请日：2012-12-19

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 松井晴信 ,  原田大实 ,  竹内正树

IPC: C01F17/00

CPC classification number: C09K3/1409 ,  C01F17/0043 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明涉及一种用于回收氧化铈的方法。本发明特别涉及一种用于从主要由氧化铈组成的磨料废物回收氧化铈的方法，所述磨料废物源自玻璃衬底的抛光，所述方法包括以下步骤：（i）向磨料废物添加碱性物质的水溶液；（ii）向所得的溶液添加沉淀剂，从而形成主要由氧化铈组成的沉淀物，并且除去上清液；（iii）向所得的沉淀物添加酸性物质的溶液，从而使所述沉淀物为微酸性至中性；（iv）用有机溶剂洗涤该沉淀物；以及（v）干燥并且压碎沉淀物。该方法使将磨料废物再造成主要由氧化铈组成的纯磨料成为可能，可再使用该磨料来抛光与光掩模和中间掩模相关的半导体尖端技术的合成石英玻璃衬底。

公开(公告)号：CN101430499B

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：CN200810188750.0

申请日：2008-07-31

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 森川护 ,  原田大实 ,  竹内正树

IPC: G03F1/66 ,  G03F7/20 ,  B65D81/02 ,  B65D81/30 ,  B65D85/48 ,  B65D85/30

CPC classification number: H01L21/67359 ,  H01L21/67393 ,  Y10T428/13 ,  Y10T428/131 ,  Y10T428/1314

Abstract: 一种用于容纳形成光掩模的合成石英玻璃衬底的存储容器，其包括面向玻璃衬底的前和后表面的内壁，和提供在容器内壁上用于收纳用以吸附来自容器的释气成分的吸附剂的贮存器。比率A/B在1.0-120m2/cm2范围内，设A是吸附剂的BET比表面积(m2/g)乘以吸附剂总重量(g)的乘积(m2)，和B是玻璃衬底前和后表面的总面积(cm2)。

公开(公告)号：CN102516872A

公开(公告)日：2012-06-27

申请号：CN201110286406.7

申请日：2011-07-26

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 松井晴信 ,  原田大实 ,  竹内正树

IPC: C09G1/02 ,  B24B29/02

CPC classification number: B24B1/00 ,  B24B37/044 ,  C03C19/00 ,  C09G1/02

Abstract: 一种包括胶原衍生物和胶体溶液的抛光浆料，其有效抛光合成石英玻璃基板。其防止具有可被高灵敏度缺陷探测仪检测到的尺寸的缺陷的形成。

公开(公告)号：CN101804589A

公开(公告)日：2010-08-18

申请号：CN201010173034.2

申请日：2010-01-27

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 原田大实 ,  竹内正树 ,  松井晴信

IPC: B24B7/24 ,  H01L21/68

CPC classification number: B24B7/241 ,  B24B13/0018 ,  B24B41/053

Abstract: 本发明公开了一种加工半导体用人造石英玻璃基板的方法，其中使小型旋转式加工工具的抛光部件接触人造石英玻璃基板的表面，接触面积为1～500mm2，并且旋转的同时在基板表面上扫描移动，从而抛光基板表面。当利用这种方法制造人造石英玻璃，如IC等制造中重要的光刻用光掩模基板时，可以比较容易和廉价地得到具有极好平整度并且甚至能用于EUV光刻的基板。

公开(公告)号：CN110752188B

公开(公告)日：2025-01-21

申请号：CN201910663690.1

申请日：2019-07-23

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 松井晴信 ,  原田大实 ,  冈藤大雄 ,  山崎裕之 ,  竹内正树

IPC: H10H20/85

Abstract: 本发明涉及一种合成石英玻璃空腔件、合成石英玻璃空腔盖、光学装置封装体和制造方法。具体地，将合成石英玻璃空腔件(1)连接至其上安装有光学装置(7)的基材(6)，使得该装置可容纳在空腔件中。由与装置(7)相对的顶表面(2a)和侧表面(3a)构成的内表面限定空腔件(1)。顶表面(2a)是镜面表面并且侧表面(3a)是粗糙表面。

公开(公告)号：CN118377069A

公开(公告)日：2024-07-23

申请号：CN202410073216.4

申请日：2024-01-18

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 松井晴信 ,  原田大实 ,  竹内正树

IPC: G02B1/00 ,  G02B1/11 ,  G02B1/115

Abstract: 用于光学元件的窗材料，其包括：合成石英玻璃基板，该基板具有平板形状并具有透过光的主表面，该主表面的至少一个是粗糙表面；和在合成石英玻璃基板的至少一个主表面上形成的防反射膜，该主表面是粗糙表面。本发明的用于光学元件的窗材料容易成型加工，在宽的波长区域中经历小的经时变化并在长的时间段中稳定，并具有分布光的高的总透光率。

公开(公告)号：CN108873599B

公开(公告)日：2024-03-12

申请号：CN201810428812.4

申请日：2018-05-08

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 石塚洋行 ,  渡部厚 ,  原田大实 ,  竹内正树

IPC: G03F1/60 ,  G03F1/36

Abstract: 本发明涉及一种大尺寸合成石英玻璃衬底、评价方法、和制造方法。该大尺寸合成石英玻璃衬底具有至少1,000mm的对角线长度。假设在衬底表面上限定有效范围，并且将有效范围划分为多个评价区域，使得所述评价区域彼此部分重叠，每个评价区域中的平坦度为至多3μm。从具有高平坦度和在衬底表面内的最小局部梯度的石英玻璃衬底制备大尺寸光掩模。

公开(公告)号：CN113777875A

公开(公告)日：2021-12-10

申请号：CN202110634712.9

申请日：2021-06-08

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 枪田直树 ,  原田大实 ,  竹内正树

IPC: G03F1/24 ,  G03F1/60

Abstract: 本发明涉及一种掩模坯料用玻璃衬底。具体提供了这样的掩模坯料用玻璃衬底，其在0.1μm‑1以上且20μm‑1以下的空间频率下的圆形平均功率谱密度的最大值为1,000nm4以下，用原子力显微镜观察10μm×10μm区域的表面形貌获得该最大值。

公开(公告)号：CN106242311B

公开(公告)日：2021-01-29

申请号：CN201610402325.1

申请日：2016-06-08

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 八木寿 ,  原田大实 ,  竹内正树 ,  代田和雄 ,  青木一彦

IPC: C03C17/34

Abstract: 本发明涉及合成石英玻璃基板的制备方法。通过提供合成石英玻璃块体、用在双折射测定的波长下具有至少99.0％/mm的透射率的液体涂布该块体的两个相对表面、通过使光进入一涂布表面并且从另一涂布表面离开从而测定该块体上的双折射分布、和基于测定的双折射分布将该块体分类为可接受的组或不可接受的组，从而制备合成石英玻璃基板。

公开(公告)号：CN103809371B

公开(公告)日：2020-03-10

申请号：CN201310533747.9

申请日：2013-11-01

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 原田大实 ,  冈藤大雄 ,  山崎裕之 ,  竹内正树

IPC: G03F7/00 ,  G03F1/60

Abstract: 矩形基板在其具有拓扑图案后用作模具。该基板具有A侧和B侧的相对表面，该A侧表面具有拓扑图案。该A侧表面包括具有至多350nm的平坦度的1～50毫米×1～50毫米的中心矩形区域。使用该形成模具用基板防止在形成模具用基板上形成团的步骤与转印步骤之间发生图案错排或图案错误。能够转印微小尺寸和复杂的图案。