一种双焦点微透镜阵列的微米压印与激光诱导成形方法

    公开(公告)号:CN103852972A

    公开(公告)日:2014-06-11

    申请号:CN201410122627.4

    申请日:2014-03-28

    Abstract: 一种双焦点微透镜阵列的微米压印与激光诱导成形方法,首先利用电润湿法获得初级微透镜结构初始凹模,然后利用翻模和压印技术获得初级微透镜结构,再利用激光诱导聚合物膨胀技术在初级微透镜结构上制备次级级隆起结构,最后利用翻模和压印技术获得所需的双焦点微透镜,进而实现双焦点微透镜阵列的简单快速制造,本发明结合激光光致膨胀特性制备凸起结构解决了在微结构上继续加工微结构的问题,采用微米压印技术可有效提高双焦点微透镜的加工效率和结构的均匀性。

    一种大面积纳米缝电极并行制造方法

    公开(公告)号:CN102328903B

    公开(公告)日:2014-04-23

    申请号:CN201110293495.8

    申请日:2011-09-29

    Abstract: 一种大面积纳米缝电极并行制造方法,在刚性基材和具有应力集中豁口的电极材料之间引入一层有机聚合物材料,形成“刚性基材-有机聚合物材料-电极材料”的三明治结构,对刚性基材均匀加热,有机聚合物材料受热体积膨胀,从而使其表面的电极材料内部产生拉应力,当拉应力达到电极材料的断裂极限时,电极材料断裂,形成纳米级裂缝结构,本发明解决了传统金属薄膜断裂所需的应变来源问题,裂缝位置精确可控,控制加热温度和时间可以改变纳米缝宽度大小;同时,面板受热均匀,保证了阵列化纳米裂缝电极大面积并行制造的可行性和均匀性。

    基于光刻等微纳制造工艺的植入式生物电极及其制备方法

    公开(公告)号:CN101829401B

    公开(公告)日:2013-07-31

    申请号:CN201010180340.9

    申请日:2010-05-21

    Abstract: 本发明公开了一种基于光刻等微纳制造工艺制作的植入式生物电极及其制备方法,在金属芯线上包有绝缘套管;在绝缘套管上有螺旋金属引线,螺旋金属引线和绝缘套管封装在聚氨酯绝缘层里,刺激点和连接端金属环分别于两端预留的螺旋金属引线相连;刺激点表层电镀有惰性金属氧化物。该工艺通过溅射或蒸镀在聚氨酯绝缘套管淀积上一层金属薄膜;将淀积的金属薄膜通过光刻,微接触压印和刻蚀工艺制作出初始的螺旋线结构;通过电镀金属来成型最终的螺旋金属引线;将穿有金属芯线的套管放入封装模具中进行封装;对刺激点电镀上一层氧化铱,增加细胞附着性,提高生物相容力;修整,测试导通性,完成电极制作。

    一种基于紫外光固化驻极体的自组装方法

    公开(公告)号:CN103204458A

    公开(公告)日:2013-07-17

    申请号:CN201310082719.X

    申请日:2013-03-14

    Abstract: 一种基于紫外光固化驻极体的自组装方法,先利用光刻、溅射、剥离工艺制备出具有一定图形结构的导电金模板,对其进行表面处理,再选取透明导电材料作为基材,在基材上制备微米级别的UV光固化聚合物材料,然后通过施加在导电基材和导电金模板之间的外电场在UV光固化聚合物表面诱导出图形化电荷,在保持电压不变的情况下利用紫外光从底部透过透明导电基材照射UV光固化聚合物材料,使聚合物材料固化的同时冻结外电场诱导出的图形化电荷,最后撤去外加电压,将导电金模板从紫外光固化驻极体表面揭下,利用紫外光固化驻极体的图形化电荷产生的静电力实现多种纳米材料的自组装,可广泛应用在光电子、生物制药、气体传感器、光伏器件等许多领域。

    一种干粘附微纳复合两级倾斜结构的制备工艺

    公开(公告)号:CN103172019A

    公开(公告)日:2013-06-26

    申请号:CN201310066590.3

    申请日:2013-03-01

    Abstract: 一种干粘附微纳复合两级倾斜结构的制备工艺,先进行基底模版的制备,然后进行基底模板匀胶,再光刻显影,将掩膜板和第二步匀完胶的纳米基底模板贴紧,倾斜放于紫外光下曝光,去掉掩膜板,紫外光从背面垂直摄入曝光,然后在显影液中显影,得到底部大的倒八字形结构,再进行聚合物PDMS翻模,将PDMS倒在显完影的光刻胶上,抽真空,加热或者常温固化,待PDMS固化后,将其放入乙醇溶液中,超声去掉光刻胶AZ9260,将PDMS从基底模板揭下,得到微纳复合两级倾斜结构,本发明采用正反曝光实现干粘附微纳复合两级倾斜结构的制备,工艺简单,制造成本很低,加工效率高,适合商业化大规模生产加工,制备的干粘附微纳复合两级倾斜结构,可广泛用于机械手、吸附盘等领域。

    一种电场诱导凸形界面二维光子晶体的制备工艺

    公开(公告)号:CN102305960B

    公开(公告)日:2013-02-27

    申请号:CN201110192967.0

    申请日:2011-07-11

    Abstract: 一种电场诱导凸形界面二维光子晶体的制备工艺,先进行诱导模板的制备,再进行基材的选择及处理,然后进行电场诱导光子晶体功能材料流变成型,最后进行聚合物材料的固化及后处理,从而得到具有一定曲率的凸形界面二维光子晶体结构,可以广泛地应用在芯片实验室、高电容解耦式电容器、太阳能电池、平板式显示器等方面。

    以石墨烯键长为基准的超精密制造装备精度比对及精度补偿方法

    公开(公告)号:CN102862951A

    公开(公告)日:2013-01-09

    申请号:CN201210371547.3

    申请日:2012-09-28

    Abstract: 一种以石墨烯键长为基准的超精密制造装备精度比对及精度补偿方法,将待检测的制造装备运动元部件与石墨烯基准样品承载台进行超精密联动控制联接,通过扫描的石墨烯键长数量表征石墨烯基准样品承载台的运动长度,实时检测石墨烯基准样品承载台运动,从而计算出制造装备运动元部件亚纳米级精度的运动长度;将该亚纳米级运动精度检测信号反馈至制造装备运动元部件的运动控制系统,与制造装备运动元部件的预期运动长度相比对,进行制造装备运动元部件的运动长度闭环控制,从而实现亚纳米级精度的误差补偿。该方法能够实现超精密制造装备运动元部件的亚纳米级精度检测及亚纳米级精度补偿,在纳米/亚纳米级精度纳米制造装备实现领域,具有广阔的发展前景。

    提高压印对准过程中莫尔条纹图像质量的数字莫尔条纹方法

    公开(公告)号:CN102096348B

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN201010580993.6

    申请日:2010-12-09

    Abstract: 本发明公开了一种提高压印对准过程中莫尔条纹图像质量的数字莫尔条纹方法,包括(1)标记设计;(2)光栅图像的采集;(3)光栅图像预处理;(4)合成莫尔条纹图像;(5)莫尔条纹信号的预处理。本发明通过采用CCD采集光栅图像,通过计算机合成数字莫尔条纹的方案进行纳米压印对准代替原来直接利用CCD采集莫尔条纹图像进行对准。从莫尔条纹形成角度,解决了传统方法由于工艺层覆盖的不对称性、对准光束在工艺层界面的多次反射,对准过程中莫尔条纹的对比度下降的问题,以及由于光的多次干涉、衍射带来的对准图像误差问题,提高了压印过程中,莫尔条纹对准图像的质量,从而提高了对准中莫尔条纹相位提取的精度,进一步提高了压印对准精度。

    机床用超长光栅尺逆辊压印成型方法

    公开(公告)号:CN102169289B

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN201110127212.2

    申请日:2011-05-17

    Abstract: 本发明公开一种制造机床用超长光栅尺逆辊压印成型方法,该方法采用网纹辊涂胶的方式,并用刮刀与之配合控制UV固化光刻胶胶量,通过网纹辊与模具的回转运动将光刻胶转移到模具表面,使UV固化光刻胶完全填充模具的槽型微结构,并对光刻胶进行第一次UV固化,使液态UV固化胶固化,保证其几何形貌。选用有一定抗拉强度和柔性的光栅尺胚,并对其进行表面处理,增大其与紫外光固化胶的结合力,通过柱面模具的高精度回转运动,将模具表面的微结构转移至光栅尺胚表面,通过高精度连续回转运动控制,实现超长高精度光栅尺的制造。该方法克服了传统光栅尺制造中环境条件依赖性高、制造效率低、成本高的缺点,实现超长光栅尺的高速、低成本、连续制造。

    一种具有微结构的聚偏氟乙烯压电薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN101691202B

    公开(公告)日:2012-01-04

    申请号:CN200910023561.2

    申请日:2009-08-11

    Abstract: 本发明属于微纳制造领域,涉及具有微结构的压电薄膜的制备方法:1)在基底上溅射绝缘隔离层,在绝缘隔离层上溅射电极层;2)将聚偏氟乙烯PVDF及其共聚物粉末作为溶质,溶解至混合溶液中,搅拌后,置于真空,密封放置;3)将聚合物溶液旋涂于电极层上,得到聚合物层;4)把旋涂好聚合物溶液的基底放置在热压印台上,将模具压向聚合物层的表面,将模具型腔抽真空,使聚合物层充满模具的型腔;5)在电极层和模具之间施加场电压;6)撤去电场后,控制压印头压向聚合物层,保持压力,降温至80℃,退火处理,得到具有微结构的压电薄膜。本发明用于微传感器和致动器的制造,尤其适宜于生物医疗方面的微传感器和致动器的制造。

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