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公开(公告)号：CN106933066A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201611264164.0
申请日：2014-03-24
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/24
CPC classification number: G03F7/24
Abstract: 具有：第一支承构件，其以沿着以规定曲率弯曲成圆筒面状的第一面的方式来支承光罩和基板中的一方；第二支承构件，其以沿着规定的第二面的方式来支承光罩和基板中的另一方；和移动机构，其使第一支承构件旋转，并且使第二支承构件移动，使光罩和基板在扫描曝光方向上移动，投影光学系统利用包含与垂直于投影区域的扫描曝光方向的中心的线大致平行的主光线在内的投影光束，在规定的投影像面上形成图案的像，移动机构设定第一支承构件的移动速度以及第二支承构件的移动速度，使得图案的投影像面和基板的曝光面中的曲率较大的面或者成为平面一侧的移动速度相对小于另一方的移动速度。
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公开(公告)号：CN105632978A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201610122229.1
申请日：2011-04-11
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , G02F1/13 , G02F1/1333 , H01L51/56
CPC classification number: B65H23/32 , B65H2301/517 , H01L21/67 , G02F1/1303 , G02F1/1333 , H01L21/67011 , H01L21/677 , H01L51/56
Abstract: 基板处理装置及基板处理方法，具备：基板供应部，在使形成为带状的基板的短边方向竖立的状态下供应基板；基板处理部，具有搬送部及多个处理部，该搬送部，将从该基板供应部供应的基板在竖立状态下搬送，该多个处理部，是沿着该搬送部的基板的搬送路径配置，对竖立状态的基板的被处理面进行处理；以及基板回收部，将在该基板处理部进行处理后的基板在竖立状态下回收。
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公开(公告)号：CN105556391A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201480049332.7
申请日：2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC classification number: G03F7/709 , H01L51/0096
Abstract: 本发明的目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
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公开(公告)号：CN103262209B
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201180059872.X
申请日：2011-12-14
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67775 , H01L21/67721 , H01L21/67736 , H01L21/67745
Abstract: 本发明的基板处理系统，具备：多个基板收容装置，具有收容基板的收容室；多个基板处理装置，具有连接于每个基板收容装置的连接部，在基板收容装置连接于连接部的状态下对基板进行处理；引导装置，引导多个基板收容装置分别与每个基板处理装置连接；以及控制装置，控制引导装置以使多个基板收容装置分别与每个基板处理装置以既定顺序连接。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103384637B
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201280009995.7
申请日：2012-02-22
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B65H23/032 , B05C1/08 , B05C9/14 , H01L21/677
Abstract: 本发明是关于一种基板处理装置(FPA)，具有供应滚筒(5b)、腔室(CB)、以及回收滚筒(6b)。由树脂膜或不锈钢箔构成的挠性基板(S)，从供应滚筒(5b)被送出，通过腔室(CB)中而被回收滚筒(6b)卷取。在腔室(CB)中，以转印装置(11)对基板(S)涂布液。供应滚筒(5b)沿往与基板(S)的运送方向(Y)正交的方向(X)延伸的第一轨(3)移动，回收滚筒(6b)与供应滚筒(5b)同步地沿第二轨(4)移动。伴随这样的移动，基板(S)进出于腔室(CB)。在其他装置(FPA2)中，以电浆装置(12)处理基板(S)。
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公开(公告)号：CN102549713B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201080042310.X
申请日：2010-09-24
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 木内彻
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H05K13/00 , B41J15/04 , H01L21/67132 , Y10T29/49002 , Y10T29/51
Abstract: 为了提供一种能够防止异物附着到基板的基板盒、基板处理设备、基板处理系统、控制设备以及制造显示元件的方法，提供了一种基板盒。所述基板盒包括：盒主框架，其具有用于载入/载出基板的开口，并且容纳通过所述开口的基板；安装部件，其设置在盒主框架中，并且可拆卸地连接到外部连接部件；以及阻塞单元，其根据安装部件与外部连接部件之间的连接状态来阻塞所述开口。
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公开(公告)号：CN103261066A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201180059818.5
申请日：2011-12-14
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B65H75/36
CPC classification number: H01L21/67721 , H01L21/67769
Abstract: 本发明的基板保管装置(STR)，具备：容器(CT)，具有收容树脂薄膜等的可挠性基板(S)的收容室(RM)；窗部(W)，设于容器(CT)；以及基板搬送部(CV)，以基板(S)的一部分与窗部(W)对向的方式搬送基板。容器(CT)具有连接于处理装置(PA)的连接部(J)。无端状基板(S)通过张挂且折返于滚筒(11～66)收容于收容室(RM)内。一部分滚筒(29、33、65)可移动于Z方向，且通过该等移动调整基板(S)的张力。基板(S)的一部分(Sc)从窗部拉出至外部，将其部分(Sc)以装置(PA)的处理部(95)进行处理。窗部(W)可以滑件(SL)关闭。可抑制异物附着在基板(S)。
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公开(公告)号：CN102666323A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080048800.0
申请日：2010-11-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B65G49/06 , H01L21/677 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC classification number: H01L21/67721 , B65G49/067 , B65G2249/045 , H01L21/6776 , H01L27/3244 , H01L51/56 , H05B33/10
Abstract: 基板处理装置具备：处理部，其对基板进行规定的处理；和基板保持部，其相对处理部移动，并且在形成基板的被处理面的同时对基板进行保持。
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公开(公告)号：CN102472977A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080031672.9
申请日：2010-07-16
Applicant: 株式会社尼康
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F9/7003
Abstract: 通过控制装置在Z轴方向上细微地驱动暂时支持片(S)的六个辅助片支持物(SH2)和(SH3)，以使得其支持表面定位在片支持物(SH1)的支持表面的略微较低侧(-Z侧)。因此，在宽度方向(Y轴方向)和长度方向上向片(S)施加适当的张力，以使得片(S)的中心部分固定到片支持物(SH1)的支持表面。即，在XY二维张力被施加到片(S)的分开区域(SAi)的状态下，与片(S)的分开区域(SAi)对应的后表面部分根据片支持物(SH1)的支持表面的平坦形状而改变。另外，在张力在长度方向和宽度方向上被施加到预定区域的状态下，与片材料(S)的预定区域对应的后表面部分根据平坦参考表面而改变以便平坦化。另外，用能量束照射平坦化的片材料的预定区域，以在其上形成图案。
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