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公开(公告)号：CN110391171A
公开(公告)日：2019-10-29
申请号：CN201910298873.8
申请日：2019-04-15
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/687 , H01L21/67
Abstract: 提供一种即使在晶片等基板的整个上表面附着有异物的情况下也能够将该异物除去的基板处理装置。基板处理装置具备基板保持装置(1)和擦洗基板(W)的上表面(US)的处理头(50)。基板保持装置(1)具备：保持基板(W)的基板保持架(5)和使保持于基板保持架(5)的基板(W)旋转的基板旋转机构(10)。基板保持架(5)以在基板(W)保持于基板保持架(5)的状态下不突出到比基板(W)的上表面(US)靠上方的位置的方式配置于比基板(W)的上表面(US)靠下方的位置。
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公开(公告)号：CN107030570B
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201611052775.9
申请日：2016-11-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明的目的在于提供一种校正装置，该校正装置能够使抛光垫片的按压力通过简单方法进行调节，而无需移除其上可放置有基板的台阶。本发明的一个实施例提供一种针对用于抛光基板的斜面部分的斜面抛光系统的校正装置，包含：载荷测量设备，其能够测量来自斜面抛光系统的抛光垫片的按压载荷；和底板，在其上能够放置有载荷测量设备，其中，底板能够固定在能够在其上放置基板的真空吸附台上。
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公开(公告)号：CN103839857B
公开(公告)日：2017-09-19
申请号：CN201410084660.2
申请日：2009-06-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67
Abstract: 一种基板处理装置、基板处理方法、基板把持机构以及基板把持方法。具备：对基板（W）进行研磨的研磨部（3）；搬运基板（W）的搬运机构（5、6）；以及对研磨后的基板（W）进行清洗、干燥的清洗部（4）。清洗部（4）具有用于清洗多个基板的多个清洗线。该清洗线具备多个清洗模块（201A、201B、202A、202B），通过多个搬运机器人（209、210）来搬运基板。
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公开(公告)号：CN107097146A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201710087454.0
申请日：2017-02-17
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: B24B51/00 , B24B41/06 , B24B47/00 , B24B37/04 , B24B21/06 , B24B21/20 , B24B37/11 , B24B37/30 , B24B37/34 , B24B57/02
Abstract: 本发明提供一种能够检测研磨器具是否与晶片等基板接触，进而能够进行研磨器具的位置检测的研磨装置以及研磨方法。研磨装置具有：保持基板(W)的基板保持部(32)；用于将研磨器具(42)向基板W的面按压的按压部件(44)；对按压部件(44)施加按压力的致动器(45)；使按压部件(44)沿着基板(W)的面移动的马达驱动型移动装置(55)；在向马达驱动型移动装置(55)供给的马达电流小于阈值的情况下，发出警报的监视装置(65)。
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公开(公告)号：CN107081673A
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：CN201710064401.7
申请日：2017-02-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B1/00 , B08B11/02 , H01L21/67219 , H01L21/67259 , H01L21/68728 , B24B37/32 , B24B37/10 , B24B37/345 , B24B57/02 , H01L21/67092 , H01L21/67772 , H01L21/67778
Abstract: 本发明提供一种存取自由度较高的基板保持模块、基板处理装置及基板处理方法。提供一种能够接收由搬送机器人搬送的基板的基板保持模块。该基板保持模块具有：底座，所述底座具有用于保持基板的保持机构；罩，所述罩用于覆盖所述底座；及移动机构，所述移动机构使所述罩以离开所述底座的方式移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106994645A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201610817482.9
申请日：2016-09-12
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供使基板上下反转的小型的反转机以及具有这种反转机的基板研磨装置。使基板(W)上下反转的反转机(100)具有：用于载置基板(W)的第一机械臂对(21a)；与所述第一机械臂对(21a)彼此相对的第二机械臂对(21b)；开闭机构(23)，对所述第二机械臂对(21b)进行开闭，以把持载置在所述第一机械臂对(21a)上的基板(W)；以及旋转机构(22)，使所述第一机械臂对(21a)和所述第二机械臂对(21b)绕规定的轴线(21)旋转，从而使所述基板(W)上下反转，其中，该规定的轴线(21)设定于它们的内侧且沿着所述第一机械臂对(21a)和所述第二机械臂对(21b)的延伸方向。
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公开(公告)号：CN103839857A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201410084660.2
申请日：2009-06-04
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67219 , B24B37/345 , H01L21/67742 , H01L21/67754
Abstract: 一种基板处理装置、基板处理方法、基板把持机构以及基板把持方法。具备：对基板（W）进行研磨的研磨部（3）；搬运基板（W）的搬运机构（5、6）；以及对研磨后的基板（W）进行清洗、干燥的清洗部（4）。清洗部（4）具有用于清洗多个基板的多个清洗线。该清洗线具备多个清洗模块（201A、201B、202A、202B），通过多个搬运机器人（209、210）来搬运基板。
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公开(公告)号：CN102229104B
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201110119250.3
申请日：2007-10-08
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: B24B37/04 , B24B55/02 , Y10S451/914
Abstract: 一种衬底抛光设备包括衬底保持机构和抛光机构，所述衬底保持机构包括用于保持待抛光衬底的机头，所述抛光机构包括上面安装有抛光垫的抛光台。由所述机头保持的衬底被压靠所述抛光台上的所述抛光工具，以通过所述衬底和所述抛光工具的相对运动抛光所述衬底。所述衬底抛光设备还包括衬底传递机构，所述衬底传递机构用于将待抛光的衬底送到所述机头并接收已抛光的衬底。所述衬底传递机构包括用于接收待抛光衬底的待抛光衬底接收器和用于接收已抛光衬底的已抛光衬底接收器。
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公开(公告)号：CN1659686A
公开(公告)日：2005-08-24
申请号：CN03812994.9
申请日：2003-05-30
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/02 , H01L21/304 , C23C18/00 , C25C7/00 , C25D5/00
CPC classification number: H01L21/67051 , C23C18/1619 , C25D7/123 , C25D17/001 , C25D17/02
Abstract: 一种衬底处理设备，具有处理槽(10)、罩(40)、喷嘴(60)和衬底头(80)。处理槽(10)用于在容纳于其中的镀液(Q)中对衬底(W)进行镀膜；罩(40)用于有选择地打开和关闭该处理槽(10)的开口(11)；喷嘴(60)安装在罩(40)的上表面；衬底头(80)用于吸引衬底(W)的背面以夹持衬底(W)。随着罩(40)从处理槽(10)的开口(11)移开，衬底头(80)降低以把衬底(W)浸在镀液(Q)内，用于对衬底(W)进行镀膜。当衬底头(80)提升同时处理槽(10)开口(11)由罩(40)关闭时，衬底(W)通过喷嘴(60)清洁。
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公开(公告)号：CN305255950S
公开(公告)日：2019-07-12
申请号：CN201930028261.8
申请日：2019-01-18
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 1．本外观设计产品的名称：基板保持部件。
2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品是用于保持基板的基板保持部件。
3．本外观设计产品的设计要点：整体形状和结构。
4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：设计1立体图1。
5．本外观设计产品设计1的左视图与右视图对称，设计2的左视图与右视图对称，故省略本外观设计产品设计1的左视图和设计2的左视图。
6．本外观设计产品为相似外观设计，设计1是基本设计。
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