公开(公告)号：CN106019851A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201610183193.8

申请日：2016-03-28

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 谷口和隆 ,  中西健二

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H05K3/00

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70616 ,  G03F9/7003 ,  H05K3/0008 ,  H05K2203/166

Abstract: 本发明涉及一种基准位置获取方法、基准位置获取装置、图案描绘方法、图案描绘装置、以及记录程序的记录媒体。从自设计上的图案即设计图案抽选的多个注目图像(91)中的每一个，获取相对于平行于第1方向的轴对称的第1形状(921)(步骤S22)。获取第1形状在第1方向上的长度的合计即第1总长度(步骤S23)。对垂直于第1方向的第2方向也进行同样的处理，而获取第2总长度(步骤S24、S25)。根据第1总长度以及第2总长度，获取表示注目图像适合于基准位置图像的程度的得分(步骤S26)。基于得分，决定多个基准位置，并获取对应的多个基准位置图像(93)。

公开(公告)号：CN106003998A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201610174045.X

申请日：2016-03-24

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 田中哲夫

IPC: B32B38/10 ,  B41M5/382

CPC classification number: B32B38/10 ,  B41M5/382

Abstract: 本发明涉及一种使相互紧贴的两张板状体剥离的剥离装置的工艺规程作成方法。多个剥离器一边保持第二板状体，一边按照沿着剥离方向的顺序向远离第一板状体的分离方向进行分离移动，由此从第一板状体剥离。以剥离器中的剥离方向上的最下游侧的剥离器作为主剥离主体，该工艺规程作成方法包括：第一工序(步骤S205～S207)，针对各个剥离器，确定该剥离器作为主剥离主体的期间，求出该期间的该剥离器向分离方向的移动速度；第二工序(步骤S209～S215)，针对各个剥离器，基于在该剥离器变成不是主剥离主体后的期间作为主剥离主体的其他剥离器的移动速度，来求出变成不是主剥离主体的该剥离器在该期间向分离方向的移动速度。

公开(公告)号：CN106000822A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201610183321.9

申请日：2016-03-28

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 山越润一 ,  陆井秀晃

IPC: B05D3/04 ,  B05C9/14

Abstract: 本发明提供一种适当地控制用于使涂敷于基材上的浆状的涂敷液干燥的干燥强度的技术。干燥装置(3A)使涂敷于连续搬运的基材(51)的一侧主面(51)上的浆状的涂敷液(41)干燥。干燥装置(3A)具有：加热部(涂敷面侧加热部(35)以及背面侧加热部(37))，对涂敷液(41)进行加热处理；辐射温度计(39)，在加热部的搬运方向上的下游侧的位置，对基材(5)上的辐射率不会因加热处理变动的另一侧主面(53)上的辅射率不变部位(531)的温度进行测量；加热控制部(711)，基于辐射温度计(39)测量出的温度来控制加热部进行的加热处理的强度。

公开(公告)号：CN105981139A

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：CN201580007916.2

申请日：2015-02-23

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 吉田武司

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67017 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/68742

Abstract: 基板处理装置(1)包括：具有上部开口(222)的腔室本体(22)；具有下部开口(232)的腔室盖部(23)；位于腔室盖部(23)的盖内部空间(231)的遮蔽板(51)。遮蔽板(51)的径方向的尺寸比下部开口(232)的径方向的尺寸大。腔室本体(22)的上部开口(222)通过腔室盖部(23)而被覆盖，从而形成使基板(9)容纳在内部的腔室体(21)。在基板处理装置(1)中，在基板(9)被移入而形成腔室体(21)之前，在遮蔽板(51)与下部开口(232)重合的状态下，从气体供给部(812)所供给的气体被填充至腔室盖部(23)的盖内部空间(231)中。由此，形成腔室体(21)后，腔室体(21)内迅速被气体所充满，从而能够实现所期望的低氧气气氛。

公开(公告)号：CN105938807A

公开(公告)日：2016-09-14

申请号：CN201610124432.2

申请日：2016-03-04

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 阿部诚 ,  河原崎光 ,  谷村英昭 ,  古川雅志

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种能够使基板的面内温度分布均匀的热处理装置。从多个卤素灯(HL)对在腔室内由保持部保持的半导体晶片(W)照射卤素光而进行加热。在卤素灯(HL)与半导体晶片(W)之间，设置着由不透明石英形成的圆筒形状的遮光体(21)及圆环形状的遮光部件(25)。遮光部件(25)的外径小于遮光体(21)的内径。从卤素灯(HL)出射并透过产生在遮光体(21)的内壁面与遮光部件(25)的外周之间的间隙的光照射在容易产生温度下降的半导体晶片(W)的周缘部。另一方面，朝向过热区域的光被遮光部件(25)遮蔽，所述过热区域在仅设置遮光体(21)时产生在半导体晶片(W)的面内且温度比其他区域高。

公开(公告)号：CN105895560A

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201610090981.2

申请日：2016-02-18

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 小林健司 ,  泽岛隼 ,  西村优大 ,  波多野章人 ,  岛井基行 ,  林豊秀

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置包括将基板保持为水平并使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转的基板保持单元和向由所述基板保持单元保持的基板供给处理液的处理液供给系统。供给流路分支成多个上游流路。多个上游流路包括分支成多个下游流路的分支上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置，将经由多个上游流路供给的处理液向由基板保持单元保持的基板的上表面喷出。

公开(公告)号：CN105564050A

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：CN201510729188.8

申请日：2015-10-30

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 吉田充宏 ,  神菊贵司

IPC: B41J15/00 ,  B41J2/01 ,  B41J29/393

CPC classification number: B41J11/0025 ,  B41J11/008 ,  B41J11/0095 ,  B65H23/0216 ,  B65H2511/22 ,  B65H2801/15 ,  B65H2220/02

Abstract: 本发明涉及一边搬运记录介质一边记录图像的图像记录装置，不必在搬运路径上的记录位置处配置检测部，就可以掌握记录位置处的记录介质的宽度方向的位置。在印刷用纸(9)的搬运路径上的记录位置的前后配置有边缘传感器(30)。各边缘传感器(30)在记录位置的上游侧以及下游侧分别检测记录介质的宽度方向的位置。另外，该图像记录装置的控制部(40)基于多个边缘传感器(30)的检测结果，计算记录位置处的印刷用纸(9)的宽度方向的位置。因此，不必在搬运路径上的记录位置处配置边缘传感器(30)，就能够掌握记录位置处的印刷用纸(9)的宽度方向的位置。

公开(公告)号：CN105470167A

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201510633671.6

申请日：2015-09-29

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 难波敏光

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67023

Abstract: 本发明的目的在于提供一种基板处理装置，能够从处理单元向补充用罐回收处理液，并从补充用罐向供给用罐补充处理液。从供给用罐向处理单元的处理液喷嘴供给处理液，从处理液喷嘴向基板供给处理液。在处理单元使用的使用完的处理液被回收，并有选择地供给至第一以及第二补充用罐。在使用完的处理液向第一补充用罐供给的期间，第二补充用罐内的处理液补充到供给用罐，并且第一补充用罐内的处理液由加热部加热并循环。在使用完的处理液向第二补充用罐供给的期间，第一补充用罐内的处理液补充到供给用罐，并且第二补充用罐内的处理液由加热部加热并循环。

公开(公告)号：CN105470166A

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201510628190.6

申请日：2015-09-28

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 桥本光治 ,  波多野章人 ,  林豊秀 ,  土谷庆一

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC classification number: G01B11/26 ,  B25J11/0095 ,  G01B11/0608 ,  G01V8/20 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/67778 ,  H01L21/67265 ,  H01L21/67766

Abstract: 本发明提供一种能够防止基板破损的基板处理装置以及基板处理方法。在利用传感器进退移动部使测绘传感器进入运送器内的状态下，通过传感器升降部使测绘传感器沿上下方向移动。与该动作一起，通过测绘传感器朝向与基板进出运送器的前后方向相交的水平方向检测基板的有无，通过高度传感器检测测绘传感器的高度。由此，在前后方向上的彼此不同的两个以上位置检测基板高度。基板状态取得部基于该基板高度，取得各基板在前后方向上相对于水平面的倾斜度。由于事先取得运送器内的各基板的倾斜度，所以能够防止因基板搬运机构的手部与基板接触而产生的基板破损。

公开(公告)号：CN105448662A

公开(公告)日：2016-03-30

申请号：CN201510599007.4

申请日：2015-09-18

Applicant: 株式会社思可林集团

Inventor： 藤原直澄 ,  江户彻 ,  菅原雄二 ,  阿野诚士 ,  泽岛隼

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/30604 ,  B08B1/04 ,  B08B3/02 ,  B08B3/024 ,  B08B3/04 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/6704 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明涉及抑制产生处理残留物和产生液体飞溅的基板处理装置及其方法。该装置具有基板的旋转保持部、沿着大致铅垂方向喷射处理液的液滴的喷流的第一喷嘴、喷出处理液的连续流的第二喷嘴、使第一喷嘴和第二喷嘴一体移动的喷嘴移动部。当第一喷嘴位于基板的周缘部的上方时，连续流的着落位置比液滴的喷流的着落位置更靠旋转中心侧。而且，液滴的喷流的着落位置和连续流的着落位置这两者的移动路径不同，和/或连续流和液滴的喷流这两者的流向不同。这两者的移动路径不同是因当第一喷嘴位于基板的周缘部的上方时，连续流的着落位置比液滴的喷流的着落位置的移动路径更靠旋转方向的下游侧。这两者的流向不同是因连续流相对于铅垂方向倾斜。