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公开(公告)号：CN110245317B
公开(公告)日：2022-03-15
申请号：CN201910407648.3
申请日：2019-05-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种磁流变抛光去除函数的提取方法及装置，该方法包括：获取基片元件采斑前和采斑后的面形检测数据；所述基片元件边缘处带有位置标记；根据所述采斑前、采斑后的面形检测数据及基片元件的位置标记，计算得残差数据；对所述残差数据进行中值滤波处理；对滤波处理后的残差数据，采用椭圆弧逼近去除函数轮廓，生成多个含有相同参数的去除函数；对所述多个含有相同参数的去除函数，执行数据偏移、求平均操作，提取去除函数。该方法能够准确提取磁流变抛光去除函数，提高去除函数准确性与磁流变加工精度。
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公开(公告)号：CN110238708A
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201910539278.9
申请日：2019-06-20
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种磁流变抛光机床磁流变液循环系统，包括：储液罐、第一蠕动泵和变径背压管路；所述第一蠕动泵的一端与所述储液罐相连，另一端与所述变径背压管路相连，所述变径背压管路的末端连接喷嘴；所述喷嘴对准抛光轮；其中，所述变径背压管路中设置有脉冲阻尼器，且所述变径背压管路的管径从大逐渐变小，然后再逐渐变大。利用脉冲阻尼器消除大尺度的流量波动，利用变径背压管路进一步消除小尺度磁流变流量脉冲，使得磁流变液流量稳定，即便在低流量工况下也具有很高的控制精度。
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公开(公告)号：CN110227968A
公开(公告)日：2019-09-13
申请号：CN201910410490.5
申请日：2019-05-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了基于小波变换的磁流变去除函数寄生条纹消除方法及装置，该方法能够准确去除寄生条纹，达到磁流变去除函数的精确提取，适用范围广，对于传统频域带阻滤波无法解决的寄生条纹和原始数据频谱严重混叠的情况，仍然适用，是一种较好的寄生条纹去除方法，可以有效应用于消除磁流变去除函数寄生条纹，实现磁流变去除函数的准确提取。同时也可以较好的用于其它超精密加工方式,如气囊抛光、离子束抛光等的去除函数寄生条纹的消除，便于推广应用。
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公开(公告)号：CN118866419A
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202410889257.0
申请日：2024-07-04
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种纳米周期多层膜及其制备方法与应用。针对极紫外到X射线波段极短波长多层膜反射率受限于多层膜膜层界面粗糙度和膜层成分混合导致反射率下降的问题本发明通过纳米间隔层结合离子辅助动态调控技术解决了纳米膜层界面结构粗糙σr和成分扩散σd协同抑制难题，该方法简单易行，适用于极紫外到X射线波段的多层周期结构高反射膜层的反射率提升，可应用于X射线成像诊断、同步辐射光源和X光荧光分析等领域。
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公开(公告)号：CN118781185A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202410764610.2
申请日：2024-06-14
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供的基于视觉图像亚像素定位实现面形绝对检测中心对准方法及光学系统，涉及光学技术领域。该方法包括获得干涉仪成像视场在零条纹下的检测视场图像；获得被检测光学元件相对标准参考镜旋转多个角度所对应的检测视场图像；根据检测视场图像获得亚像素图像边缘信息；根据亚像素图像边缘信息提取被检测光学元件的特征标识点；根据特征标识点计算旋转平台的旋转中心坐标；根据旋转中心坐标与被检元件当前位置几何中心坐标，调整被检测光学元件，以使被检测光学元件的中心与旋转平台的中心高精重合。本发明方法原理简单，无需增加其他的辅助装置，利用视觉图像实现中心定位校准，更加高精高效。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110245384A
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201910407038.3
申请日：2019-05-16
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G06F17/50
Abstract: 本发明公开了一种基于特征频谱带阻滤波的寄生条纹消除方法及装置，该方法包括：获取含有寄生条纹的干涉仪采斑测量面形数据矩阵f(x,y)；计算寄生条纹的相关参数和所述面形数据矩阵f(x,y)频谱放大倍数N；根据所述相关参数和放大倍数N，对寄生条纹的频谱和频域特征进行处理，生成频谱数据；对所述频谱数据进行FFT反变换，得到消除寄生条纹的面形数据。该方法只消除寄生条纹的频谱，完全保留去除函数自身频谱，不会改变去除函数自身形态，使得在滤除寄生条纹的同时，去除函数自身形态得到了保持，提高了磁流变去除函数的提取精度。
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公开(公告)号：CN110237755A
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201910551348.2
申请日：2019-06-24
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种抛光磁流变液搅拌匀滑装置，包括：箱体支架、中心轴、旋转桶、连接架和电机；中心轴上安装有连接架，并且两端通过轴承安装在箱体支架上；旋转桶通过连接架均匀分布在圆周方向上；且相邻旋转桶之间通过桶端连接架相连；旋转桶用于放置储液瓶；且储液瓶和旋转桶之间存在间隙；电机带动中心轴转动。通过公转和自转效应，最终实现磁流变液搅拌均匀。
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公开(公告)号：CN118781184A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202410764552.3
申请日：2024-06-14
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明提供的基于波面梯度特征匹配的面形绝对检测中心对准方法及光学系统，涉及光学技术领域。该方法包括获取被检光学元件的初始面形数据及在多个旋转角度下对应的面形数据；对滤波后的面形数据进行二维梯度计算，得到具有多个特征标记点分布的二维总梯度数据；获得各特征标记点的精确定位坐标；获得被检光学元件的旋转中心坐标；获得标准参考镜的中心像素坐标；根据被检光学元件的旋转中心坐标和标准参考镜的中心像素坐标，调整被检光学元件使被检光学元件与标准参考镜对准。本发明主要用于解决光学元件面形绝对检测的旋转平移操作前，被检光学元件中心与参考面光轴中心的高精对准问题，具有方法原理简单、高精高效便捷的特点。
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公开(公告)号：CN114662047B
公开(公告)日：2022-10-28
申请号：CN202210355359.5
申请日：2022-04-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明适用于光学加工技术领域，提供了一种去除函数误差修正能力表征方法、系统和介质，去除函数误差修正能力表征方法包括如下步骤：获取面形误差体积变化量和加工时间，所述面形误差体积变化量为预设空间频率下加工前后面形误差的体积差值；通过面形误差体积变化量和加工时间计算所述去除函数的有效去除速率谱。本发明提供的一种用于子口径抛光的去除函数误差修正能力表征方法、系统和介质能够实现去除函数空间频率误差修正能力的定量表征，为后续实现根据误差分布快速自动匹配最优的工艺参数奠定了基础。
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公开(公告)号：CN114660804A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202210355353.8
申请日：2022-04-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明适用于光学加工技术领域，提供了一种频域光学元件面形误差的计算方法、系统和介质，频域光学元件面形误差的计算方法，包括如下步骤：获取体积谱密度函数，所述体积谱密度函数为光学元件面形误差在各频率下所含残余误差材料体积的密度；通过在预设空间频段上对体积谱密度函数进行积分，得到光学元件在该预设空间频段下的面形误差体积。本发明提供的一种频域光学元件面形误差的计算方法、系统和介质具有效率高、精确度高的优势。
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