公开(公告)号：CN102089715A

公开(公告)日：2011-06-08

申请号：CN200980126839.7

申请日：2009-07-07

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 畑光宏 ,  山本敏 ,  宫川贵行

IPC: G03F7/40 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0035 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明的目的在于提供一种抗蚀剂处理方法，其中，在双图形法等多重图形法中，极微细且精度良好地形成通过第一次抗蚀剂图形形成用的抗蚀剂组合物而得到的图形。本发明为一种抗蚀剂处理方法，其中，包括：将含有树脂(A)、光酸产生剂(B)以及交联剂(C)的第1抗蚀剂组合物涂布到基体上并进行干燥而得到第1抗蚀剂膜、对其进行预烘焙、全面曝光处理后隔着掩模进行曝光处理、曝光后烘焙、显影而得到第1抗蚀剂图形、并对其进行硬烘焙，在其上涂布第2抗蚀剂组合物并进行干燥而得到第2抗蚀剂膜、对其进行预烘焙、曝光处理、曝光后烘焙、显影而得到第2抗蚀剂图形的工序，其中，所述树脂(A)具有对酸不稳定的基团，在碱水溶液中不溶或难溶，可与酸作用后溶解。

公开(公告)号：CN101770173A

公开(公告)日：2010-07-07

申请号：CN200910261381.8

申请日：2009-12-23

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 宫川贵行 ,  山本敏 ,  藤裕介

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/2041 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明提供了一种化学增幅正性抗蚀剂组合物，包含：含有在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元的树脂、以及产酸剂，其中，基于所有的结构单元，该树脂含有按摩尔计40％至90％的在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元，并且在侧链上具有酸不稳定基团的结构单元包含由式(I)表示的结构单元：其中，R1代表氢原子或甲基基团，Z代表单键或-(CH2)k-CO-O-，k代表1至4的整数，R2在各种情况下独立地是C1-C6烷基基团，以及m代表0至14的整数。

公开(公告)号：CN1755523B

公开(公告)日：2011-11-23

申请号：CN200510106482.X

申请日：2005-09-26

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 山本敏 ,  花元幸夫 ,  桑名耕治

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/033

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0392

Abstract: 本发明提供一种化学放大型光刻胶组合物，其包含处理过的树脂(1)、酸生成剂和溶剂，其中树脂(1)是：(a)(甲基)丙烯酸类树脂，其不溶于或难溶于碱性水溶液，并且通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，并且其包含在它的侧链中含有脂环族烃基的重复单元；或(b)苯乙烯类树脂，其不溶于或难溶于碱性水溶液，并且通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，并且其包含衍生自羟基苯乙烯的重复单元，并且其中处理过的树脂(1)是通过下面的方法得到的：(A)在40至90℃下粗树脂(1)与活性碳接触，得到半处理的粗树脂(1)，和半处理的粗树脂(1)与选自硅藻土和硅胶中的至少一个成员接触，或(B)在40至90℃下粗树脂(1)与活性碳和选自硅藻土和硅胶中的至少一个成员接触。

公开(公告)号：CN101211113A

公开(公告)日：2008-07-02

申请号：CN200710161112.5

申请日：2007-12-18

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 荒木香 ,  山口训史 ,  山本敏

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明提供一种化学放大型抗蚀剂组合物，其包含：(A)由式(I)表示的盐、(B)由式(II)表示的盐和(C)树脂，所述树脂包含具有酸－不稳定基团的结构单元，并且所述树脂本身不溶于或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，其中在式(I)和(II)中的R21、Q1、Q2、Q3、A+和A’+与权利要求书和说明书中定义的相同。

公开(公告)号：CN101236357B

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN200810008504.2

申请日：2008-01-23

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 高田佳幸 ,  山本敏 ,  山口训史

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 本发明提供一种化学放大型抗蚀剂组合物，其包含：树脂和至少两种盐，该树脂包含具有酸-不稳定基团的结构单元和由式(I)表示的结构单元，式(I)中R1表示氢原子或甲基，环X表示C3-C30环烃基，其中一个-CH2-被-COO-取代，并且C3-C30环烃基中的至少一个氢原子可以被取代，且p表示1至4的整数，并且该树脂本身不溶于或难溶于碱性水溶液，但通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液；该至少两种盐选自由式(II)表示的盐和由式(III)表示的盐，在式(II)中，Y1和Y2各自独立地表示氟原子或者C1-C6全氟烷基，A+表示有机抗衡离子且R21表示可以被取代的C1-C30烃基，且该C1-C30烃基中的至少一个-CH2-可以被-CO-或-O-取代，式(III)中，R23表示C1-C8直链或支链全氟烷基，并且A′+表示有机抗衡离子。

公开(公告)号：CN101872117A

公开(公告)日：2010-10-27

申请号：CN201010153376.8

申请日：2010-04-21

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 畑光宏 ,  山本敏 ,  藤裕介

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038

CPC classification number: G03F7/40 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/091

Abstract: 本发明提供一种产生光刻胶图案的方法，包括步骤(A)至(D)：(A)用第一光刻胶组合物在衬底上形成第一光刻胶膜、使第一光刻胶膜曝露于辐射、然后使曝露过的第一光刻胶膜显影以获得第一光刻胶图案的步骤，第一光刻胶组合物包含树脂、产酸剂和交联剂，树脂含有在其侧链中具有酸不稳定基团的结构单元并且自身在碱性水溶液中不可溶或可溶性差，但通过酸的作用变为在碱性水溶液中可溶，(B)在190-250℃烘焙所得第一光刻胶图案10-60秒的步骤，(C)用第二光刻胶组合物在其上形成有第一光刻胶图案的衬底上形成第二光刻胶膜并使第二光刻胶膜曝露于辐射的步骤，(D)使曝露过的第二光刻胶膜显影以获得第二光刻胶图案的步骤。

公开(公告)号：CN101236357A

公开(公告)日：2008-08-06

申请号：CN200810008504.2

申请日：2008-01-23

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 高田佳幸 ,  山本敏 ,  山口训史

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 本发明提供一种化学放大型抗蚀剂组合物，其包含：树脂和至少两种盐，该树脂包含具有酸－不稳定基团的结构单元和由式(I)表示的结构单元，式(I)中R1表示氢原子或甲基，环X表示C3－C30环烃基，其中一个－CH2－被－COO－取代，并且C3－C30环烃基中的至少一个氢原子可以被取代，且p表示1至4的整数，并且该树脂本身不溶于或难溶于碱性水溶液，但通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液；该至少两种盐选自由式(II)表示的盐和由式(III)表示的盐，在式(II)中，Y1和Y2各自独立地表示氟原子或者C1－C6全氟烷基，A+表示有机抗衡离子且R21表示可以被取代的C1－C30烃基，且该C1－C30烃基中的至少一个－CH2－可以被－CO－或－O－取代，式(III)中，R23表示C1－C8直链或支链全氟烷基，并且A+表示有机抗衡离子。

公开(公告)号：CN101644894A

公开(公告)日：2010-02-10

申请号：CN200910160391.2

申请日：2009-08-05

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 嶋田雅彦 ,  桥本和彦 ,  重松淳二 ,  宫川贵行 ,  山本敏

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明提供了一种化学增幅正性抗蚀剂组合物，其包含：树脂(A)，其包含具有酸不稳定性基团的结构单元，并且本身不溶于或微溶于碱性水溶液，但是在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液；树脂(B)，其包含由结构式(I)表示的结构单元和在侧链中具有氟原子的结构单元，其中，R1代表氢原子、卤素原子、C1-C4烷基或C1-C4全氟化烷基；Z代表单键或-(CH2)k-CO-X4-，k代表1至4的整数；X1、X2、X3和X4各自独立地代表氧原子或硫原子；m代表1至3的整数；而n代表0至3的整数；以及产酸剂。

公开(公告)号：CN101261448A

公开(公告)日：2008-09-10

申请号：CN200810083427.7

申请日：2008-03-05

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 山口训史 ,  高田佳幸 ,  山本敏

IPC: G03F7/039

CPC classification number: C07C381/12 ,  C07C309/06 ,  C07C309/17 ,  C07C2603/74 ,  C07D307/20 ,  C07D307/77 ,  C07D309/10 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0397

Abstract: 本发明提供一种化学放大型抗蚀剂组合物，其包含：(A)由式(I)表示的盐，(B)由式(II)表示的盐和(C)树脂，所述树脂包含具有酸－不稳定基团的结构单元，并且所述树脂本身不溶于或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，其中式(I)和式(II)中的Q1、A+、R22、Q3、Q4和A'+具有与权利要求和说明书中定义的相同含义。

公开(公告)号：CN101196687A

公开(公告)日：2008-06-11

申请号：CN200710193315.2

申请日：2007-12-03

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 山口训史 ,  山本敏 ,  安藤信雄

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

Abstract: 本发明提供一种化学放大型抗蚀剂组合物，其包含：(A)式(Ⅰ)表示的盐；(B)式(Ⅱ)表示的盐；和(C)树脂，该树脂包含具有酸－不稳定基团的结构单元，并且其本身不溶于或难溶于碱性水溶液，但通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，式(Ⅰ)中，R21表示可被取代的C1－C30烃基等，Q1和Q2各自独立表示氟原子等，且A+表示选自式(Ⅰa)表示的阳离子、式(Ⅰb)表示的阳离子和式(Ⅰc)表示的阳离子中的至少一种有机阳离子；式(Ⅰa)中，P1－P3各自独立地表示C1－C30烷基等；式(Ⅰb)中，P4和P5各自独立表示氢原子等；式(Ⅰc)中，P10－P21各自独立表示氢原子等，B表示硫或氧原子，且m表示0或1；式(Ⅱ)中，R22表示C1－C30烃基等，Q3和Q4各自独立表示氟原子等，并且A’+表示式(Ⅱa)表示的有机阳离子；式(Ⅱa)中，P6和P7各自独立表示C1－C12烷基等，P8表示氢原子，P9表示C1－C12烷基等。