抗蚀剂处理方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102067041A

    公开(公告)日:2011-05-18

    申请号:CN200980122599.3

    申请日:2009-06-10

    CPC classification number: G03F7/0035 G03F7/0045 G03F7/0046 G03F7/0397 G03F7/40

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种抗蚀剂处理方法,在双图案法等多图案法中,以极其微细且精度良好的方式形成由第一抗蚀剂图案形成用的抗蚀剂组合物得到的图案。本发明是一种抗蚀剂处理方法,(1)将含有树脂(A)、光产酸剂(B)及交联剂(C)的第一抗蚀剂组合物涂布在基体上并干燥,得到第一抗蚀剂膜,所述树脂(A)具有对酸不稳定的基团,不溶或难溶于碱水溶液,并且与酸作用能溶解于碱水溶液,再将第一抗蚀剂膜进行预烘烤、曝光处理、曝光后烘烤、显影,将第一抗蚀剂图案在比所述第一抗蚀剂组合物的玻璃化温度低的温度下保持规定时间,然后,在所述玻璃化温度以上的温度下保持规定时间进行硬烘烤,在其上涂布第二抗蚀剂组合物并干燥,得到第二抗蚀剂膜,再进行预烘烤,曝光处理,曝光后烘烤,显影。

    光刻胶组合物
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102023482A

    公开(公告)日:2011-04-20

    申请号:CN201010283695.0

    申请日:2010-09-14

    CPC classification number: G03F7/0397 G03F7/0045 G03F7/0046

    Abstract: 本发明提供一种光刻胶组合物,包含产酸剂和树脂,所述树脂含有衍生自式(I)表示的单体的结构单元:其中R1表示氢原子等,R2表示氢原子或C1-C4烷基,A1表示单键等,B1表示:式(1a)表示的基团:其中R3、R4和R5各自独立地表示C1-C16脂肪族烃基,并且R4和R5可以相互键合以与键合R4和R5的碳原子一起形成C3-C18环,具有内酯结构的C4-C20饱和环状基团,或者具有至少一个羟基的C5-C20饱和环烃基。

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