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    传输电信号的装置及光刻设备
    1.
    发明授权
    传输电信号的装置及光刻设备 有权

    公开(公告)号：CN109716237B

    公开(公告)日：2021-12-07

    申请号：CN201780055679.6

    申请日：2017-09-07

    Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    Inventor： J.霍恩 ,  S.布莱迪斯特尔 ,  F.巴特 ,  M.豪夫

    IPC: G03F7/20

    Abstract: 本发明涉及一种装置，该装置在光刻设备(100)的第一结构(10)处布置的第一接口元件(11)和在光刻设备(100)的第二结构(20)处布置的第二接口元件(21)之间传输电信号，其中电导体(30)连接了第一接口元件(11)和所述第二接口元件(21)。装置还具有中空主体(40)，该中空主体(40)至少围绕电导体(30)的区段并且设计为电磁屏蔽电导体(30)。间隙(43)提供在中空主体(40)中或者在中空主体(40)和结构(10、20)中的一个之间，并且间隙(43)允许第一结构(10)和第二结构(20)的相对移动以将第一结构(10)与所述第二结构(20)机械解耦。

    用于反射镜的热致动的装置
    2.
    发明公开
    用于反射镜的热致动的装置 有权

    公开(公告)号：CN105190443A

    公开(公告)日：2015-12-23

    申请号：CN201480014966.9

    申请日：2014-03-07

    Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    Inventor： M.豪夫

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70891 ,  G02B7/181 ,  G02B26/0825 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/70883

    Abstract: 本发明涉及一种尤其是微光刻投射曝光设备中的反射镜的热致动装置，所述反射镜包含反射镜基板(102，202)和光学有效表面(101，201)以及至少一个进入通道(110，111，112，210)，其从所述反射镜(100)的不对应于光学有效表面的表面延伸在该有效表面(101，201)的方向上，其中具有可变设定的冷却功率的冷却元件(120，220)突出进至少一个进入通道(110，111，112，210)中，以及其中提供用于将可变设定的加热功率耦合进反射镜基板(102，202)邻近光学有效表面的区域中的至少一个热源；其中通过设定冷却元件(120，220)的冷却功率以及至少一个热源的加热功率，光学有效表面(101，201)与反射镜(100)不对应于光学有效表面的所述表面之间的热通量是可实现的，所述热通量导致反射镜基板(102，202)中的温度梯度以及热膨胀系数值的相关局部变化。

    用于尤其在光学系统中操纵元件位置的装置
    4.
    发明公开
    用于尤其在光学系统中操纵元件位置的装置 有权

    公开(公告)号：CN107209463A

    公开(公告)日：2017-09-26

    申请号：CN201680008454.0

    申请日：2016-01-19

    Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    Inventor： U.舍恩霍夫 ,  E.贝克塔斯 ,  M.豪夫

    IPC: G03F7/20

    Abstract: 本发明涉及用于操纵尤其在光学系统中的元件的位置的装置。按照本发明的装置针对位置操纵的每个自由度具有至少一个执行器(22、52、72、102a、102b、122a、122b、142a、142b、162a、162b)以将可调节的力施加在元件(21、51、71、101、121、141、161)上、针对位置操纵的每个自由度具有至少一个位置传感器(23、53、73、103、163a、163b)以分别产生表征元件位置的传感器信号，并且具有至少一个位置调节器(27、57、77、107)，所述位置调节器在位置调节回路中根据至少一个传感器信号调节由至少一个用于定位元件的执行器施加在元件上的力，其中，至少一个执行器和至少一个位置传感器安装在共同的模块框架(24、54、74、104、124、144、164)上，并且其中，所述模块框架这样机械式地连接在参考框架(25、55、75、105、125、145)上，使得对于所述连接的共振频率(ωMR)满足条件0.5·ωB≤ωMR≤2ωB，其中，ωB表示位置调节回路的带宽。

    用于尤其在光学系统中操纵元件位置的装置
    6.
    发明授权
    用于尤其在光学系统中操纵元件位置的装置 有权

    公开(公告)号：CN107209463B

    公开(公告)日：2019-11-19

    申请号：CN201680008454.0

    申请日：2016-01-19

    Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    Inventor： U.舍恩霍夫 ,  E.贝克塔斯 ,  M.豪夫

    IPC: G03F7/20

    Abstract: 本发明涉及用于操纵尤其在光学系统中的元件的位置的装置。按照本发明的装置针对位置操纵的每个自由度具有至少一个执行器(22、52、72、102a、102b、122a、122b、142a、142b、162a、162b)以将可调节的力施加在元件(21、51、71、101、121、141、161)上、针对位置操纵的每个自由度具有至少一个位置传感器(23、53、73、103、163a、163b)以分别产生表征元件位置的传感器信号，并且具有至少一个位置调节器(27、57、77、107)，所述位置调节器在位置调节回路中根据至少一个传感器信号调节由至少一个用于定位元件的执行器施加在元件上的力，其中，至少一个执行器和至少一个位置传感器安装在共同的模块框架(24、54、74、104、124、144、164)上，并且其中，所述模块框架这样机械式地连接在参考框架(25、55、75、105、125、145)上，使得对于所述连接的共振频率(ωMR)满足条件0.5·ωB≤ωMR≤2ωB，其中，ωB表示位置调节回路的带宽。

    用于反射镜的热致动的装置
    7.
    发明授权
    用于反射镜的热致动的装置 有权

    公开(公告)号：CN105190443B

    公开(公告)日：2019-04-23

    申请号：CN201480014966.9

    申请日：2014-03-07

    Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    Inventor： M.豪夫

    IPC: G03F7/20

    Abstract: 本发明涉及一种尤其是微光刻投射曝光设备中的反射镜的热致动装置，所述反射镜包含反射镜基板(102，202)和光学有效表面(101，201)以及至少一个进入通道(110，111，112，210)，其从所述反射镜(100)的不对应于光学有效表面的表面延伸在该有效表面(101，201)的方向上，其中具有可变设定的冷却功率的冷却元件(120，220)突出进至少一个进入通道(110，111，112，210)中，以及其中提供用于将可变设定的加热功率耦合进反射镜基板(102，202)邻近光学有效表面的区域中的至少一个热源；其中通过设定冷却元件(120，220)的冷却功率以及至少一个热源的加热功率，光学有效表面(101，201)与反射镜(100)不对应于光学有效表面的所述表面之间的热通量是可实现的，所述热通量导致反射镜基板(102，202)中的温度梯度以及热膨胀系数值的相关局部变化。

    用于致动光学系统中的至少一个光学元件的装置
    8.
    发明公开
    用于致动光学系统中的至少一个光学元件的装置 有权

    公开(公告)号：CN108519672A

    公开(公告)日：2018-09-11

    申请号：CN201810319528.3

    申请日：2013-11-07

    Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    Inventor： M.豪夫 ,  A.沃格勒

    IPC: G02B26/08 ,  G03F7/20 ,  G02B7/182

    Abstract: 本发明涉及一种用于致动光学系统、尤其是投射曝光设备的光学系统中的光学元件的装置，其中，所述光学元件(101)通过具有接合件刚度的至少一个接合件(102)能够关于至少一个倾斜轴线倾斜，所述装置包含用于对所述光学元件(101)施加力的至少一个致动器(104)，其中，所述致动器(104)具有致动器刚度，其至少部分地补偿所述接合件刚度。

    致动投射曝光设备中的元件的装置
    9.
    发明公开
    致动投射曝光设备中的元件的装置 有权

    公开(公告)号：CN103502891A

    公开(公告)日：2014-01-08

    申请号：CN201280022137.6

    申请日：2012-04-12

    Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    Inventor： M.豪夫 ,  U.舍恩霍夫

    IPC: G03F7/20

    CPC classification number: G03F7/70 ,  G03F7/70766 ,  G03F7/70825

    Abstract: 本发明涉及一种致动投射曝光设备的光学系统中的元件的装置，其中，所述投射曝光设备具有承载框架(110；210；310)，该装置包括至少一个致动器(101；201；301)，其用于对元件(100；200；300)施加可控制的力，其中，所述致动器(101；201；301)具有第一致动器部分(101a；201a；301a)和第二致动器部分(101b；201b；301b)，第一致动器部分经由至少一个机械滤波器(140；240；340)连接到承载框架(110；210；310)，第二致动器部分直接机械连接到承载框架(110；210；310)，并且其中，当对所述元件(100；200；300)施加力时，通过第二致动器部分(101b，201b，301b)至少部分地减轻第一致动器部分(101a；201a；301a)上的负载。

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