一种叠层p-金刚石/n-β-Ga2O3异质结同位素电池

    公开(公告)号:CN118748097A

    公开(公告)日:2024-10-08

    申请号:CN202410801466.5

    申请日:2024-06-20

    Abstract: 一种叠层p‑金刚石/n‑β‑Ga2O3异质结同位素电池,本发明要解决n型金刚石掺杂困难,金刚石的厚度难降低等问题。本发明异质结同位素电池由下至上依次由放射源正电极层A、半导体器件A、放射源背电极层B、半导体器件B和放射源正电极层C形成叠层结构,其中半导体器件A从下至上依次由p+‑金刚石帽子层A、p‑金刚石发射层A、n‑β‑Ga2O3基层A和n+‑β‑Ga2O3缓冲层A形成叠层结构;所述的半导体器件B从下至上依次由n+‑β‑Ga2O3缓冲层B、n‑β‑Ga2O3基层B、p‑金刚石发射层B、p+‑金刚石帽子层B形成叠层结构。本发明采用了叠层结构,提高了器件的能量密度,还兼具高功率、小体积等特点。

    使用过渡金属对金刚石进行金属化制备定点浅层色心的方法

    公开(公告)号:CN118326329A

    公开(公告)日:2024-07-12

    申请号:CN202410441178.3

    申请日:2024-04-12

    Abstract: 使用过渡金属对金刚石进行金属化制备定点浅层色心的方法,本发明为了解决现有金刚石内色心制备需要用到复杂的化学气相沉积工艺或大型粒子注入设备,且难以控制色心制备定位等问题。制备定点浅层色心的方法:一、对含有杂质的金刚石进行超声清洗;二、采用氩等离子体对清洗后的金刚石进行刻蚀;三、采用光刻工艺或掩膜工艺进行图案化处理;四、采用真空镀膜工艺在图案化处理的金刚石基底上依次沉积过渡金属层和防氧化层;五、对沉积有双层结构的金刚石基底进行高温退火;六、酸洗。本发明使用过渡金属对金刚石进行金属化,不会刻蚀破坏金刚石表面,近乎无损工艺使金属化后的金刚石表面依然平整光滑,为色心的发光提供稳定的环境。

    使用毛发作为碳源通过CVD工艺制备生命钻石的方法

    公开(公告)号:CN117448794A

    公开(公告)日:2024-01-26

    申请号:CN202311393073.7

    申请日:2023-10-25

    Abstract: 使用毛发作为碳源通过CVD工艺制备生命钻石的方法,本发明为了解决现有通过MPCVD方法制备钻石时以甲烷气体作为碳源,价格较为昂贵,导致钻石生长速率缓慢的问题。制备生命钻石的方法:一、对高温高压金刚石籽晶基底进行清洗;二、对毛发进行超声清洗,将预处理的毛发放入坩埚中,通入氩气和少量氧气保温,然后以600~1200℃的温度萃碳处理;三、激活等离子体,升高和微波功率,使金刚石籽晶的表面温度达到700~1000℃使腔体保持封闭进行等离子体化学气相沉积生长。本发明以毛发作为碳源通过CVD装置进行生命钻石的生长,改善了原本使用甲烷作为碳源价格昂贵的问题,且合成的钻石具有更加独特和深刻的纪念意义。

    一种基于称重法测量金刚石外延层生长厚度精度的方法

    公开(公告)号:CN119400719A

    公开(公告)日:2025-02-07

    申请号:CN202411510708.1

    申请日:2024-10-28

    Abstract: 一种基于称重法测量金刚石外延层生长厚度精度的方法,本发明的目的是为了解决现有金刚石薄层漂移层的测量方法难以准确评估金刚石外延薄层厚度及生长速率的问题。测量方法:一、对金刚石衬底进行抛光;二、将抛光后的金刚石衬底置于强氧化混酸中形成氧终端,再进行超声清洗;三、使用高精度天平测量金刚石衬底的重量,使用游标卡尺测量金刚石衬底的表面积;四、再次表面清洗;五、在金刚石衬底表面外延生长单晶金刚石层;六、三次表面清洗;七、计算获得外延生长的单晶金刚石层的厚度。本发明采用高精度天平对金刚石外延生长层的厚度进行表征测量,能够实现超薄层金刚石的测量和控制,高精度天平能够无损伤、简单地实现超薄层金刚石的测量。

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