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公开(公告)号：CN104101915A
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201410299390.7
申请日：2010-12-22
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: G02B1/14 , G02B1/105 , G02B1/16 , Y10T428/264
Abstract: 本发明提供具有硬度和耐溶剂擦拭性，且可长期持续抗静电性能的光学薄膜及其制造方法。本发明是在透光性基材的一侧设置膜厚1～40μm的硬涂层的光学薄膜，其特征为在所述硬涂层中包含含有阳离子和阴离子的离子液体；在所述硬涂层的膜厚方向上，在从所述硬涂层的所述透光性基材相反侧的界面起算的50～700nm的区域中，存在有从所述界面起至700nm为止的区域中存在的所述离子液体的存在量的峰值。
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公开(公告)号：CN102713686A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201080057928.3
申请日：2010-12-22
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/10
CPC classification number: G02B1/14 , G02B1/105 , G02B1/16 , Y10T428/264
Abstract: 本发明提供具有硬度和耐溶剂擦拭性，且可长期持续抗静电性能的光学薄膜及其制造方法。本发明是在透光性基材的一侧设置膜厚1～40μm的硬涂层的光学薄膜，其特征为在所述硬涂层中包含含有阳离子和阴离子的离子液体；在所述硬涂层的膜厚方向上，在从所述硬涂层的所述透光性基材相反侧的界面起算的50～700nm的区域中，存在有从所述界面起至700nm为止的区域中存在的所述离子液体的存在量的峰值。
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公开(公告)号：CN119173792A
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202380039726.3
申请日：2023-04-19
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B5/02 , B32B7/023 , B32B27/18 , C09D4/00 , C09D7/61 , C09D201/00 , G02F1/1335
Abstract: 本发明提供一种光学膜，其能够在抑制可见性降低的同时改善抗病毒性。一种抗病毒性光学膜，其中，上述光学膜在至少一个表面具有包含粘结剂树脂和抗病毒剂的树脂层，上述树脂层的表面的由ISO 25178‑2:2012规定的界面的展开面积比即Sdr为1.0×10‑5以上1.5×10‑1以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116719106A
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202310787660.8
申请日：2020-01-10
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及防反射构件、以及具备该防反射构件的偏振片、图像显示装置和防反射性物品。一种防反射构件(100)，其在透明基材(110)上具备低折射率层(130)，该低折射率层(130)包含粘结剂树脂和二氧化硅颗粒(132)、(134)，通过X射线光电子能谱对低折射率层(130)的表面区域进行分析而得到的属于上述二氧化硅颗粒的Si元素的比例为10.0原子％以上18.0原子％以下，并且，F元素的比例为0.5原子％以下。
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公开(公告)号：CN113272136B
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202080008353.X
申请日：2020-01-10
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: B32B27/20 , H05B33/02 , H10K59/80 , H10K59/12 , H10K50/10 , H10K50/86 , G02B1/111 , G02B5/30 , G09F9/00 , B32B7/023 , G02F1/1335
Abstract: 提供一种具有低反射率并提高了耐擦伤性的防反射构件、以及具备该防反射构件的图像显示装置。一种防反射构件(100)，其在透明基材(110)上具备低折射率层(130)，该低折射率层(130)包含粘结剂树脂和二氧化硅颗粒(132)、(134)，通过X射线光电子能谱对低折射率层(130)的表面区域进行分析而得到的属于上述二氧化硅颗粒的Si元素的比例为10.0原子％以上18.0原子％以下，并且，将上述Si元素的比例换算成100原子％时的C元素的比例为180原子％以上500原子％以下。
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公开(公告)号：CN102713686B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201080057928.3
申请日：2010-12-22
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/10
CPC classification number: G02B1/14 , G02B1/105 , G02B1/16 , Y10T428/264
Abstract: 本发明提供具有硬度和耐溶剂擦拭性，且可长期持续抗静电性能的光学薄膜及其制造方法。本发明是在透光性基材的一侧设置膜厚1～40μm的硬涂层的光学薄膜，其特征为在所述硬涂层中包含含有阳离子和阴离子的离子液体；在所述硬涂层的膜厚方向上，在从所述硬涂层的所述透光性基材相反侧的界面起算的50～700nm的区域中，存在有从所述界面起至700nm为止的区域中存在的所述离子液体的存在量的峰值。
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公开(公告)号：CN113272136A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202080008353.X
申请日：2020-01-10
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: B32B27/20 , H05B33/02 , H01L51/50 , G02B1/111 , G02B5/30 , G09F9/00 , H01L27/32 , B32B7/023 , G02F1/1335
Abstract: 提供一种具有低反射率并提高了耐擦伤性的防反射构件、以及具备该防反射构件的图像显示装置。一种防反射构件(100)，其在透明基材(110)上具备低折射率层(130)，该低折射率层(130)包含粘结剂树脂和二氧化硅颗粒(132)、(134)，通过X射线光电子能谱对低折射率层(130)的表面区域进行分析而得到的属于上述二氧化硅颗粒的Si元素的比例为10.0原子％以上18.0原子％以下，并且，将上述Si元素的比例换算成100原子％时的C元素的比例为180原子％以上500原子％以下。
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公开(公告)号：CN104101915B
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201410299390.7
申请日：2010-12-22
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: G02B1/14 , G02B1/105 , G02B1/16 , Y10T428/264
Abstract: 本发明提供具有硬度和耐溶剂擦拭性，且可长期持续抗静电性能的光学薄膜及其制造方法。本发明是在透光性基材的一侧设置膜厚1～40μm的硬涂层的光学薄膜，其特征为在所述硬涂层中包含含有阳离子和阴离子的离子液体；在所述硬涂层的膜厚方向上，在从所述硬涂层的所述透光性基材相反侧的界面起算的50～700nm的区域中，存在有从所述界面起至700nm为止的区域中存在的所述离子液体的存在量的峰值。
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