公开(公告)号：CN116719106A

公开(公告)日：2023-09-08

申请号：CN202310787660.8

申请日：2020-01-10

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 小堺达也 ,  堀尾智之 ,  竹井理哲 ,  渡边治 ,  远藤圭介 ,  唯木隆伸 ,  水野基央 ,  鹫尾淳司 ,  岩原惠太 ,  铃木翔

IPC: G02B1/11 ,  G02B1/115 ,  G02B1/118 ,  G02B1/14 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明涉及防反射构件、以及具备该防反射构件的偏振片、图像显示装置和防反射性物品。一种防反射构件(100)，其在透明基材(110)上具备低折射率层(130)，该低折射率层(130)包含粘结剂树脂和二氧化硅颗粒(132)、(134)，通过X射线光电子能谱对低折射率层(130)的表面区域进行分析而得到的属于上述二氧化硅颗粒的Si元素的比例为10.0原子％以上18.0原子％以下，并且，F元素的比例为0.5原子％以下。

公开(公告)号：CN113272136B

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN202080008353.X

申请日：2020-01-10

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 小堺达也 ,  堀尾智之 ,  竹井理哲 ,  渡边治 ,  远藤圭介 ,  唯木隆伸 ,  水野基央 ,  鹫尾淳司 ,  岩原惠太 ,  铃木翔

IPC: B32B27/20 ,  H05B33/02 ,  H10K59/80 ,  H10K59/12 ,  H10K50/10 ,  H10K50/86 ,  G02B1/111 ,  G02B5/30 ,  G09F9/00 ,  B32B7/023 ,  G02F1/1335

Abstract: 提供一种具有低反射率并提高了耐擦伤性的防反射构件、以及具备该防反射构件的图像显示装置。一种防反射构件(100)，其在透明基材(110)上具备低折射率层(130)，该低折射率层(130)包含粘结剂树脂和二氧化硅颗粒(132)、(134)，通过X射线光电子能谱对低折射率层(130)的表面区域进行分析而得到的属于上述二氧化硅颗粒的Si元素的比例为10.0原子％以上18.0原子％以下，并且，将上述Si元素的比例换算成100原子％时的C元素的比例为180原子％以上500原子％以下。

公开(公告)号：CN113272136A

公开(公告)日：2021-08-17

申请号：CN202080008353.X

申请日：2020-01-10

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 小堺达也 ,  堀尾智之 ,  竹井理哲 ,  渡边治 ,  远藤圭介 ,  唯木隆伸 ,  水野基央 ,  鹫尾淳司 ,  岩原惠太 ,  铃木翔

IPC: B32B27/20 ,  H05B33/02 ,  H01L51/50 ,  G02B1/111 ,  G02B5/30 ,  G09F9/00 ,  H01L27/32 ,  B32B7/023 ,  G02F1/1335

Abstract: 提供一种具有低反射率并提高了耐擦伤性的防反射构件、以及具备该防反射构件的图像显示装置。一种防反射构件(100)，其在透明基材(110)上具备低折射率层(130)，该低折射率层(130)包含粘结剂树脂和二氧化硅颗粒(132)、(134)，通过X射线光电子能谱对低折射率层(130)的表面区域进行分析而得到的属于上述二氧化硅颗粒的Si元素的比例为10.0原子％以上18.0原子％以下，并且，将上述Si元素的比例换算成100原子％时的C元素的比例为180原子％以上500原子％以下。

公开(公告)号：CN115335229A

公开(公告)日：2022-11-11

申请号：CN202180024332.1

申请日：2021-03-30

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 横山大辅 ,  水野基央 ,  金泽奈保美 ,  大森吉信 ,  角野宏和

IPC: B32B27/30 ,  B32B27/00 ,  B32B27/40

Abstract: 本发明的主要目的在于提供具有固体芳香剂耐性和密合性良好的阻挡层的装饰片。在本发明中，通过提供以下的装饰片来解决上述技术问题，该装饰片依次至少具有基材片、阻挡层和表面保护层，其中，上述阻挡层含有乙烯醇系树脂和聚氨酯树脂。