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公开(公告)号：CN1188541C
公开(公告)日：2005-02-09
申请号：CN01137616.3
申请日：2001-09-26
IPC: C23C14/24
CPC classification number: C23C16/515 , C23C14/325 , C23C14/545 , C23C16/517
Abstract: 一种电弧蒸发器，包括：阳极；作为阴极的蒸发源电极；以及用于产生穿过阳极和蒸发源电极的AC方波电弧电流的电流控制单元。
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公开(公告)号：CN1701131B
公开(公告)日：2010-04-28
申请号：CN200480000795.0
申请日：2004-05-25
Applicant: 新明和工业株式会社
CPC classification number: C23C14/205 , B05D1/62 , B05D5/068 , C23C14/0036 , C23C14/0089 , C23C14/352 , C23C14/562 , C23C16/45557 , C23C16/509
Abstract: 本发明的成膜装置及方法是由HF电源(11)对背面配置有永久磁铁(10)的阴极(5)提供高频电压，使其产生反应模式的等离子体，使用该等离子体进行等离子体聚合成膜。又，调整真空室(1)内的等离子体源气体的压力，产生金属模式的等离子体而非反应模式的等离子体，使用该等离子体，使作为溅射靶的阴极(5)溅射，进行磁控溅射成膜。
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公开(公告)号：CN1354275A
公开(公告)日：2002-06-19
申请号：CN01137616.3
申请日：2001-09-26
IPC: C23C14/24
CPC classification number: C23C16/515 , C23C14/325 , C23C14/545 , C23C16/517
Abstract: 一种电弧蒸发器,包括:阳极;作为阴极的蒸发源电极;以及用于产生穿过阳极和蒸发源电极的AC方波电弧电流的电流控制单元。
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公开(公告)号：CN1930319A
公开(公告)日：2007-03-14
申请号：CN200580007849.0
申请日：2005-03-10
Applicant: 新明和工业株式会社 , 株式会社大岛电机制作所
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/34 , H01J37/32458 , H01J37/3435
Abstract: 本发明提供一种能够对依然装载于成型加工用的模具上的基体材料进行成膜加工的成膜装置。该装置具有一端利用底部封闭，另一端开放的筒状的框体(1h)、设置于所述底部内表面的靶(1a)、以及贯通框体(1h)的壁部形成的端口(3b)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100529166C
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200580007849.0
申请日：2005-03-10
Applicant: 新明和工业株式会社 , 株式会社大岛电机制作所
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/34 , H01J37/32458 , H01J37/3435
Abstract: 本发明提供一种能够对依然装载于成型加工用的模具上的基体材料进行成膜加工的成膜装置。该装置具有一端利用底部封闭，另一端开放的筒状的框体(1h)、设置于所述底部内表面的靶(1a)、以及贯通框体(1h)的壁部形成的端口(3b)。
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公开(公告)号：CN1438692A
公开(公告)日：2003-08-27
申请号：CN02154277.5
申请日：2002-12-17
Applicant: 新明和工业株式会社 , 筑波半导体技工株式会社 , 日商日制电子贸易股份有限公司
IPC: H01L21/768 , H01L21/3205 , C23C14/00
CPC classification number: H01J37/32422 , C23C14/32 , C23C14/546 , H01J37/32082 , H01L21/76877
Abstract: 用内部可保持真空状态的真空室，通过配设在真空室内的基材支架保持形成半导体布线膜的晶片，通过配置在真空室内的蒸发源蒸发半导体布线膜的材料，将基材支架作为一个电极通过高频电源供给用于使真空室内产生等离子体的高频功率。
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公开(公告)号：CN1632160B
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN200410098355.5
申请日：2001-09-26
Applicant: 新明和工业株式会社
IPC: C23C14/24
CPC classification number: C23C16/515 , C23C14/325 , C23C14/545 , C23C16/517
Abstract: 一种电弧蒸发器，包括：阳极；作为阴极的蒸发源电极；以及用于产生穿过阳极和蒸发源电极的AC方波电弧电流的电流控制单元。
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公开(公告)号：CN1701131A
公开(公告)日：2005-11-23
申请号：CN200480000795.0
申请日：2004-05-25
Applicant: 新明和工业株式会社
CPC classification number: C23C14/205 , B05D1/62 , B05D5/068 , C23C14/0036 , C23C14/0089 , C23C14/352 , C23C14/562 , C23C16/45557 , C23C16/509
Abstract: 本发明的成膜装置及方法是由HF电源(11)对背面配置有永久磁铁(10)的阴极(5)提供高频电压，使其产生反应模式的等离子体，使用该等离子体进行等离子体聚合成膜。又，调整真空室(1)内的等离子体源气体的压力，产生金属模式的等离子体而非反应模式的等离子体，使用该等离子体，使作为溅射靶的阴极(5)溅射，进行磁控溅射成膜。
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公开(公告)号：CN1632160A
公开(公告)日：2005-06-29
申请号：CN200410098355.5
申请日：2001-09-26
IPC: C23C14/24
CPC classification number: C23C16/515 , C23C14/325 , C23C14/545 , C23C16/517
Abstract: 一种电弧蒸发器，包括：阳极；作为阴极的蒸发源电极；以及用于产生穿过阳极和蒸发源电极的AC方波电弧电流的电流控制单元。
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