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公开(公告)号：CN114540853A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202210236925.0
申请日：2018-03-22
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 本发明涉及层积体、电解槽及其制造方法、电极的更新方法、层积体的更新方法以及卷绕体的制造方法。一种层积体，其具有隔膜和固定于所述隔膜的表面的至少1个区域的电解用电极，所述隔膜的表面上，所述区域的比例超过0％且小于93％。
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公开(公告)号：CN114381754A
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN202111656163.1
申请日：2018-03-22
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: C25B9/23 , C25B9/05 , C25B13/08 , C25B11/052 , C25B11/031 , C25B9/65 , C25B13/02 , G01D21/02 , G01N3/08 , G01N9/24 , G01N23/223
Abstract: 本发明涉及层积体。一种层积体，其具备电解用电极和与所述电解用电极接触的隔膜或供电体，对于所述隔膜或供电体，所述电解用电极的每单位质量·单位面积所施加的力小于1.5N/mg·cm2。
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公开(公告)号：CN104210047B
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201410446851.9
申请日：2012-06-18
Applicant: 旭化成株式会社
CPC classification number: H01L33/58 , B29C33/3842 , B29C33/40 , B29C33/424 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L21/469 , H01L33/005 , H01L33/20 , H01L2924/0002 , H01L2933/0083 , H01L2924/00
Abstract: 本发明的目的在于为了在被处理体上形成高纵横比的微细图案，提供可容易地形成残留膜薄或无残留膜的微细图案的微细图案形成用积层体及微细图案形成用积层体的制造方法。本发明的微细图案形成用积层体(1)是用于在被处理体(200)上介由第1掩模层(103)形成微细图案(220)的微细图案形成用积层体(1)，其特征在于，具备在表面上具有凹凸结构(101a)的模具(101)和在凹凸结构(101a)上设置的第2掩模层(102)，第2掩模层(102)的距离(lcc)及凹凸结构(101a)的高度(h)满足下述式(1)，且距离(lcv)和高度(h)满足下述式(2)。式(1)0
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公开(公告)号：CN114381754B
公开(公告)日：2024-12-10
申请号：CN202111656163.1
申请日：2018-03-22
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: C25B9/23 , C25B9/05 , C25B13/08 , C25B11/052 , C25B11/031 , C25B9/65 , C25B13/02 , G01D21/02 , G01N3/08 , G01N9/24 , G01N23/223
Abstract: 本发明涉及层积体。一种层积体，其具备电解用电极和与所述电解用电极接触的隔膜或供电体，对于所述隔膜或供电体，所述电解用电极的每单位质量·单位面积所施加的力小于1.5N/mg·cm2。
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公开(公告)号：CN103650106B
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201280030510.2
申请日：2012-06-18
Applicant: 旭化成株式会社
Inventor： 古池润
IPC: H01L21/027 , B29C33/42 , B29C33/44 , B29C59/02 , B29C59/04
CPC classification number: G03F7/0002 , B29C33/424 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明提供一种具备高脱模性，转印材料的涂布性良好的微细凹凸结构转印用铸模。本发明的微细凹凸结构转印用铸模(110)具有基材、基材的一个主面上的一部分上由向被处理体转印的微细凹凸结构所形成的图案部(111)、一主面内的转印区以外的没有形成微细凹凸结构的非图案部(112)、图案部(111)与非图案部之间的其至少一部分与图案部(111)相邻设置的阻碍区(114)。图案部(111)及阻碍区(114)含有多个凹部。此外，图案部(111)的平均粗糙度Rf1、与阻碍区(114)的平均粗糙度Rf2满足Rf1＞Rf2的关系，同时，图案部(111)区域的平均开口率Ar1与阻碍区(114)的平均开口率Ar2之间满足Ar1＞Ar2的关系。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103299396A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201280003345.1
申请日：2012-06-18
Applicant: 旭化成株式会社
CPC classification number: H01L33/58 , B29C33/3842 , B29C33/40 , B29C33/424 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L21/469 , H01L33/005 , H01L33/20 , H01L2924/0002 , H01L2933/0083 , H01L2924/00
Abstract: 本发明的目的在于为了在被处理体上形成高纵横比的微细图案，提供可容易地形成残留膜薄或无残留膜的微细图案的微细图案形成用积层体及微细图案形成用积层体的制造方法。本发明的微细图案形成用积层体(1)是用于在被处理体(200)上介由第1掩模层(103)形成微细图案(220)的微细图案形成用积层体(1)，其特征在于，具备在表面上具有凹凸结构(101a)的模具(101)和在凹凸结构(101a)上设置的第2掩模层(102)，第2掩模层(102)的距离(lcc)及凹凸结构(101a)的高度(h)满足下述式(1)，且距离(lcv)和高度(h)满足下述式(2)。式(1)0＜lcc＜1.0h式(2)0≤lcv≤0.05h
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公开(公告)号：CN102791452A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201180012708.3
申请日：2011-03-09
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: B29C33/38 , B29C33/58 , H01L21/027
CPC classification number: B29C33/58 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
Abstract: 提供与基材的密合性优异、与转印材料树脂之间的脱模性优异、且树脂模具本身的耐久性优异、能经受对转印材料树脂的重复转印的树脂模具。本发明的树脂模具是表面具有微细凹凸结构的树脂模具，其特征在于，树脂模具表面部的氟元素浓度（Es）在构成树脂模具的树脂中的平均氟元素浓度（Eb）以上。
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公开(公告)号：CN110382740B
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN201880015823.8
申请日：2018-03-22
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: C25B9/19 , C25B11/02 , C25B11/031 , C25B11/052 , C25B9/23 , C25B13/02 , C25B13/08 , C25B9/77
Abstract: 本发明涉及电解用电极、层积体、卷绕体、电解槽、电解槽的制造方法、电极的更新方法、层积体的更新方法以及卷绕体的制造方法。本发明的一个方式的电解用电极的每单位面积的质量为48mg/cm2以下，每单位质量·单位面积所施加的力为0.08N/mg·cm2以上。
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公开(公告)号：CN110382740A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201880015823.8
申请日：2018-03-22
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 本发明涉及电解用电极、层积体、卷绕体、电解槽、电解槽的制造方法、电极的更新方法、层积体的更新方法以及卷绕体的制造方法。本发明的一个方式的电解用电极的每单位面积的质量为48mg/cm2以下，每单位质量·单位面积所施加的力为0.08N/mg·cm2以上。
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公开(公告)号：CN108028299A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201680054272.7
申请日：2016-09-29
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: H01L33/22
CPC classification number: H01L33/22 , H01L21/0243 , H01L21/0254 , H01L33/007 , H01L33/16
Abstract: 本发明提供一种可高成品率地制造尤其相比现有技术具有优异的发光效率的半导体发光元件的半导体膜，以及使用其的半导体发光元件。本发明为在主面的一部分或整个面形成有凹凸结构(20)的光学基材，所述凹凸结构具备有规则的缺齿部。所述凹凸结构包括凸部(21)、凸部间底部(平坦部)(22)和在低于形成于该凸部间底部的主面的位置具有平坦面的凹部(23)(缺齿部)。此外，优选地，所述凸部以平均间距P0进行配置，所述缺齿部配置于正多边形的顶点或连结所述顶点间的所述正多边形的边上，所述正多边形的边长比平均间距P0更长。
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