Sn-Zn-Ag焊料薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN110699656A

    公开(公告)日:2020-01-17

    申请号:CN201911093759.8

    申请日:2019-11-07

    Abstract: 本发明公开了一种Sn-Zn-Ag焊料薄膜,所述焊料薄膜包含合金元素Sn、Zn、Ag;其中,Sn的含量为65-95wt%,Zn的含量为4-11wt%,Ag的含量为0.05-27wt%。本发明还公开了所述Sn-Zn-Ag焊料薄膜的制备方法,采用磁控共溅射方法,通过调节溅射功率和靶材间的相对角度,在底部基材上一次性完成不同组分焊料的分布沉积,制备出具有成分梯度分布的焊料薄膜。本发明所述的新型Sn-Zn-Ag焊料薄膜制备方法,在镀膜过程中不需要使用掩膜,制备工艺易于实现。该方法可一次性实现多种不同组分焊料的沉积,实现原子尺度下的多元焊料混合,快速完成合金成分的优化筛选,解决了传统试错法效率低下、耗时费力的问题。

    一种高强韧性低电阻率层状金属及其制备方法

    公开(公告)号:CN116288567A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310397819.5

    申请日:2023-04-14

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明涉及一种高强韧性低电阻率层状金属及其制备方法,该金属由一层大晶粒层和一层小晶粒层交替构成,层界面之间属于金属键结合,并且大晶粒层和小晶粒层中均表现为双峰晶粒的异构分布,晶粒内部位错密度极低,小于1.1×107/dm‑2,d是晶粒尺寸。利用交替变化的电流密度,实现层状金属材料制备,电镀过程中阴极高速旋转,沉积产物和电解液之间存在切应力的作用,制备出具有孪晶结构的层状的金属材料。对孪晶层状金属材料经过较低的升温速率再结晶退火。与现有技术相比,本发明可制得具有高强韧性和低电阻率的金属材料。

    金属厚膜的离子束刻蚀方法及其应用

    公开(公告)号:CN113013033B

    公开(公告)日:2022-11-08

    申请号:CN202011516548.3

    申请日:2020-12-21

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明公开了一种金属厚膜离子束刻蚀方法,是将厚膜样品结合光刻工艺和离子束刻蚀的方法,将金属厚膜部分刻蚀并使其变脆,然后机械剥离金属厚膜的刻蚀区与未刻蚀区得到具体想要花样的金属厚膜,并且不改变或者损坏膜内部结构和性能,为金属厚膜在芯片、集成电路和促动器上的应用打下技术基础。其中可供刻蚀的膜成分包括所有的纯金属和合金,厚膜的厚度1‑50μm,光刻胶包括所有型号的光刻胶。被刻蚀的地方可与未被刻蚀附着光刻胶的地方机械剥离从而得到具有各种花样的金属膜样品,此技术可以减少刻蚀时间,不用完全刻透厚膜,即可实现厚膜的刻蚀,增加了刻蚀的效率。

    一种磁场环境下的动态力学分析测试方法

    公开(公告)号:CN115046842A

    公开(公告)日:2022-09-13

    申请号:CN202210387274.5

    申请日:2022-04-13

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明公开一种磁场环境下的动态力学分析测试方法,包括以下步骤:校准仪器:对动态力学分析仪及其附带的夹具进行校准;组装:先组装辅助所述动态力学分析仪的模具,将待测样品贯穿所述模具固定安装到与所述动态力学分析仪所附带的夹具上;测试:通过所述动态力学分析仪对所述待测样品提供测试环境,并开始测试。本发明能够实现对磁性材料在不同温度、应变等条件下的动态力学性能参数的测试。

    一种选区电子束熔化技术制备高致密度和高强韧高熵合金的方法

    公开(公告)号:CN114192800A

    公开(公告)日:2022-03-18

    申请号:CN202111527750.0

    申请日:2021-12-14

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本发明属于合金制造技术领域。本发明提供了一种选区电子束熔化技术制备高致密度和高强韧高熵合金的方法,通过电子束增材技术得到合金构件,对合金构件固溶处理后即可获得。本发明提供的高熵合金具有良好的致密度、尺寸精度,以及优异的力学性能。测试后发现合金构件的产品组织得到改善,晶粒沿着建造方向生长,且晶粒内存在枝晶,由FCC相、L12相和L21相构成。经过后续热处理工艺得到的高熵合金主要由FCC相、L12相组成,合金的力学性能得到了进一步的提高。本发明提供的高熵合金经过测试室温屈服强度为601.7MPa,抗拉强度为848.8MPa,断裂伸长率为23.9%,是一种性能优异的合金。

    基于光学和扫描电镜平台的微米级散斑制备方法

    公开(公告)号:CN110057632B

    公开(公告)日:2021-12-03

    申请号:CN201910165618.6

    申请日:2019-03-06

    Applicant: 上海大学

    Inventor: 李洁 王刚 贾延东

    Abstract: 本发明公开了一种基于光学和扫描电镜平台的微米级散斑制备方法,该方法包括以下步骤:试样准备;将试样放入溅射蒸碳仪中进行喷碳处理;在待测区域滴1‑2滴无水乙醇溶剂;将电镜载网放置在试样待测区域,并与试样表面贴合;将覆盖有铜网的试件放入小型离子溅射仪中进行喷铂处理;取下试样上的电镜载网,则试样上留下网格状的散斑图案。上述方法能够制备高质量微米级散斑,并具有工艺简单、成本低、效率高的特点,便于应用和推广。

    新型轻质难熔高熵合金的成分配方及制备工艺

    公开(公告)号:CN112011712A

    公开(公告)日:2020-12-01

    申请号:CN202010817989.0

    申请日:2020-08-14

    Applicant: 上海大学

    Abstract: 本申请公开一种新型轻质难熔高熵合金的成分配方及制备工艺,所述合金配方包含Nb、Ti、V、Zr和Mo元素,且元素间的摩尔比例为Nb:Ti:V:Zr:Mo=1:3:2:1:0.1。合金原料至少包含Nb、Ti、V、Zr、Mo元素并置入真空电弧熔炼炉进行熔炼且处于预设气氛状态下进行熔炼;采用铜模吸铸法将溶体吸入至一个预设板状水冷铜模以获得合金产物;将所述合金产物置入以真空热处理炉,在第一预设温度下进行均质化处理第一预设时长;对经过均质化处理的合金产物进行若干次冷轧处理,以得到终轧厚度的轧后产物;将所述合金产物置入以真空热处理炉,在第二预设温度下进行退火处理第二预设时长。本发明的有益之处在于提供了一种能获得优异性能的轻质难熔高熵合金的新配方和相应制备、处理工艺。

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