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公开(公告)号：CN1590944A
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：CN200410056737.1
申请日：1999-08-20
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: F27B9/2476 , B65G49/065 , B65G51/03 , B65G2249/02 , C03B35/24 , C03B2225/02 , F27B9/243 , F27B2009/2492 , H01L21/67784 , Y02P40/57
Abstract: 一种在热处理空间内沿规定方向运送被处理材料的装置，包括气体漂浮装置与运送装置。气体漂浮装置包括：为使被处理材料上浮而以亚音速～音速范围的规定的排出速度从气体排出装置的气体排出口对作用漂浮力的被处理材料的一部分吹气体的气体排出装置；以及将气体供给到气体排出装置的气体供给装置，运送装置由与上浮的被处理材料的后端抵接且沿该规定方向移动的抵接构件所构成，本发明是一种价廉的更具有可靠性的装置。
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公开(公告)号：CN1208168A
公开(公告)日：1999-02-17
申请号：CN98116202.9
申请日：1998-08-04
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: F27B9/14
CPC classification number: F27B9/2476 , F27B9/10 , Y10S29/081
Abstract: 一种用于加热处理对象物体的加热处理方法及加热处理装置,其特点是在加热处理空间中通过从对象物体的下方向其吹送气体形成使其浮起的状态,在该状态下按规定的要求进行加热。本发明解决了以往加热处理方法中存在的问题,使热能的利用效率提高。
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公开(公告)号：CN101679033A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200980000453.1
申请日：2009-06-01
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: C01B3/38
CPC classification number: B01J8/0469 , B01J8/003 , B01J2208/00504 , B01J2208/00769 , C01B3/384 , C01B3/48 , C01B2203/0233 , C01B2203/0283 , C01B2203/044 , C01B2203/047 , C01B2203/0816 , C01B2203/0883 , C01B2203/0894 , C01B2203/1005 , C01B2203/1294 , C01B2203/82
Abstract: 通过本发明提供能够容易且分别回收内置的催化剂的燃料处理装置。本发明的燃料处理装置(21)将燃料气体提供给填充在催化剂填充空间内的催化剂，来制造改质气体，所述催化剂填充空间由筒状的内周壁和外周壁包围。燃料处理装置(21)在筒状的催化剂填充空间(24)的外周壁的外周面上具有用于表示催化剂取出部(29)的取出部表示单元和协助形成用于取出催化剂的催化剂取出开口的开口形成辅助单元。取出部表示单元和开口形成辅助单元例如为跨越催化剂填充空间(24)的轴心方向上的大致全长而形成在催化剂填充空间(24)的外周壁上的长圆形的环状浅槽(30)。在从经过使用期间后的燃料处理装置(21)中回收催化剂(25)时，切除由环状浅槽(30)包围的催化剂取出部(29)，形成催化剂取出开口(40)。
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公开(公告)号：CN1251419A
公开(公告)日：2000-04-26
申请号：CN99118064.X
申请日：1999-08-20
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: F27B9/14
CPC classification number: F27B9/2476 , B65G49/065 , B65G51/03 , B65G2249/02 , C03B35/24 , C03B2225/02 , F27B9/243 , F27B2009/2492 , H01L21/67784 , Y02P40/57
Abstract: 一种在热处理空间内沿规定方向运送被处理材料的装置,包括气体漂浮装置与运送装置。气体漂浮装置包括:为使被处理材料上浮而以亚音速—音速范围的规定的排出速度从气体排出装置的气体排出口对作用漂浮力的被处理材料的一部分吹气体的气体排出装置;以及将气体供给到气体排出装置的气体供给装置,运送装置由与上浮的被处理材料的后端抵接且沿该规定方向移动的抵接构件所构成,本发明是一种价廉的更具有可靠性的装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1138746A
公开(公告)日：1996-12-25
申请号：CN96106155.3
申请日：1996-04-26
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H01L21/302 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/68721 , C23C14/50 , C23C16/4585 , H01L21/68735 , H01L21/6875
Abstract: 本发明涉及的气体传热等离子体装置，具备真空容器、真空泵、反应气体供给口、上部电极和下部电极、将被处理基片压在下部电极上的压紧圈、向下部电极供电的高频电源和向被处理基片背面与下部电极之间填充传热气体的传热气体供给装置。下部电极的基片承载面做成承受规定均匀压力的基片的挠曲面形状、气体压力选为约等于或小于该规定压力。该装置可使等离子体处理均匀、稳定，使用的冷却气体量少，易控制，且电极制作容易。
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公开(公告)号：CN101679033B
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：CN200980000453.1
申请日：2009-06-01
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: C01B3/38
CPC classification number: B01J8/0469 , B01J8/003 , B01J2208/00504 , B01J2208/00769 , C01B3/384 , C01B3/48 , C01B2203/0233 , C01B2203/0283 , C01B2203/044 , C01B2203/047 , C01B2203/0816 , C01B2203/0883 , C01B2203/0894 , C01B2203/1005 , C01B2203/1294 , C01B2203/82
Abstract: 通过本发明提供能够容易且分别回收内置的催化剂的燃料处理装置。本发明的燃料处理装置(21)将燃料气体提供给填充在催化剂填充空间内的催化剂，来制造改质气体，所述催化剂填充空间由筒状的内周壁和外周壁包围。燃料处理装置(21)在筒状的催化剂填充空间(24)的外周壁的外周面上具有用于表示催化剂取出部(29)的取出部表示单元和协助形成用于取出催化剂的催化剂取出开口的开口形成辅助单元。取出部表示单元和开口形成辅助单元例如为跨越催化剂填充空间(24)的轴心方向上的大致全长而形成在催化剂填充空间(24)的外周壁上的长圆形的环状浅槽(30)。在从经过使用期间后的燃料处理装置(21)中回收催化剂(25)时，切除由环状浅槽(30)包围的催化剂取出部(29)，形成催化剂取出开口(40)。
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公开(公告)号：CN1170106C
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：CN99118064.X
申请日：1999-08-20
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: F27B9/14
CPC classification number: F27B9/2476 , B65G49/065 , B65G51/03 , B65G2249/02 , C03B35/24 , C03B2225/02 , F27B9/243 , F27B2009/2492 , H01L21/67784 , Y02P40/57
Abstract: 一种在热处理空间内沿规定方向运送被处理材料的装置，包括气体漂浮装置与运送装置。气体漂浮装置包括：为使被处理材料上浮而以亚音速～音速范围的规定的排出速度从气体排出装置的气体排出口对作用漂浮力的被处理材料的一部分吹气体的气体排出装置；以及将气体供给到气体排出装置的气体供给装置，运送装置由与上浮的被处理材料的后端抵接且沿该规定方向移动的抵接构件所构成，本发明是一种价廉的更具有可靠性的装置。
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公开(公告)号：CN1122171C
公开(公告)日：2003-09-24
申请号：CN98116202.9
申请日：1998-08-04
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: F27B9/14
CPC classification number: F27B9/2476 , F27B9/10 , Y10S29/081
Abstract: 一种用于加热处理对象物体的加热处理方法及加热处理装置，其特点是在加热处理空间中通过从对象物体的下方向其吹送气体形成使其浮起的状态，在该状态下按规定的要求进行加热。本发明解决了以往加热处理方法中存在的问题，使热能的利用效率提高。
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公开(公告)号：CN1090816C
公开(公告)日：2002-09-11
申请号：CN96106155.3
申请日：1996-04-26
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H01L21/302 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/68721 , C23C14/50 , C23C16/4585 , H01L21/68735 , H01L21/6875
Abstract: 本发明涉及的气体传热等离子体装置，具备真空容器、真空泵、反应气体供给口、上部电极和下部电极、将被处理基片压在下部电极上的压紧圈、向下部电极供电的高频电源和向被处理基片背面与下部电极之间填充传热气体的传热气体供给装置。下部电极的基片承载面做成承受规定均匀压力的基片的挠曲面形状、气体压力选为约等于或小于该规定压力。该装置可使等离子体处理均匀、稳定，使用的冷却气体量少，易控制，且电极制作容易。
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