半导体装置
    4.
    发明公开
    半导体装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN119673928A

    公开(公告)日:2025-03-21

    申请号:CN202411878701.5

    申请日:2022-04-21

    Abstract: 半导体装置具备:半导体元件,具有半导体基板、设在半导体基板的一面的第1主电极、以及设在与一面在板厚方向上相反的背面的第2主电极;第1布线部件,与第1主电极电连接;第2布线部件,在板厚方向上在与第1布线部件之间夹着半导体元件而配置,并与第2主电极连接;以及接合材料,将第2主电极与第2布线部件接合;接合材料是具备烧结层和脆弱层的多层构造,烧结层的杨氏模量及/或屈服应力大于第2主电极,脆弱层在板厚方向上与烧结层相邻,脆弱层的杨氏模量及/或屈服应力小于第2主电极;脆弱层是与烧结层相同种类的粒子的烧结体,且粒子的间隔大于烧结层;接合材料是在板厚方向的两端具有烧结层且在烧结层之间具有脆弱层的三层构造。

    半导体装置
    7.
    发明公开
    半导体装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN117355936A

    公开(公告)日:2024-01-05

    申请号:CN202280037252.4

    申请日:2022-04-21

    Abstract: 半导体装置具备在两面具有主电极(40D、40S)的半导体元件(40)、电连接着主电极(40D)的基板(50)、将主电极与基板接合的烧结部件(100A)、以及封固体。基板的表面金属体(52)具有通过激光的照射而形成的凹凸氧化膜。凹凸氧化膜包括厚膜部(520X)以及与厚膜部相比膜厚较薄且凸部的高度较低的薄膜部(520Y)。表面金属体具有与第1主电极接合的安装部(529a)、设置厚膜部且在平面观察中将半导体元件包围的外周部(529b)、以及设置薄膜部且在安装部与外周部之间将安装部包围的中间部(529c)。烧结部件在平面观察中以与安装部及中间部重叠的方式配置,与薄膜部接触。

    半导体装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112753101B

    公开(公告)日:2023-12-08

    申请号:CN201980063390.8

    申请日:2019-09-02

    Abstract: 半导体装置具备:半导体芯片(12),在SiC基板中形成有元件,在一面及背面分别形成有主电极;配置在一面侧的第1散热片(16)及配置在背面侧的第2散热片(24);接线部(20),介于第2散热片与半导体芯片之间,将背面侧的主电极和第2散热片电中继;以及接合部件(18、22、26),分别配置在一面侧的主电极与第1散热片之间、背面侧的主电极与接线部之间、接线部与第2散热片之间。接线部在板厚方向上层叠有多种金属层(20a、20b、20c、20d),至少与板厚方向正交的方向的线膨胀系数被设为比半导体芯片大且比第2散热片小的范围内;在接线部中,多种金属层在

    半导体装置
    9.
    发明公开
    半导体装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN116134164A

    公开(公告)日:2023-05-16

    申请号:CN202180060389.7

    申请日:2021-06-14

    Abstract: 半导体装置具备:半导体芯片(30),在SiC衬底中形成有元件;热沉(40、50)及接线端(60),是以夹着半导体芯片(30)的方式配置的散热部件;以及焊料(90、91、92),介于半导体芯片与散热部件之间而形成接合部。焊料(90、91)是以下的合金组分的无铅焊料:以3.2~3.8质量%包含Ag,以0.6~0.8质量%包含Cu,以0.01~0.2质量%包含Ni;并且,如果设Sb的含量为x质量%,设Bi的含量为y质量%,则以满足x+2y≤11质量%、x+14y≤42质量%及x≥5.1质量%的方式包含Sb和Bi;进而,以0.001~0.3质量%包含Co,以0.001~0.2质量%包含P;其余部分由Sn构成。

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